例文 (1件) |
スペック再作成の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
プロセスにクリティカルとなるパターンを事前に抽出し、修正することにより、マスクの再作成をすることなく、短期間にOPC又はプロセス近接効果補正(PPC)後にプロセススペックを達成できるマスクデータの検証、補正方法等を提供する。例文帳に追加
To provide validation and correction methods and the like for mask data for ensuring the process spec after OPC or process proximity effect correction (PPC) in a short period of time without reproducing a mask by preliminarily extracting a pattern which becomes critical in a process and correcting the pattern. - 特許庁
例文 (1件) |
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |