「レジ」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び、半導体素子例文帳に追加

PHOTORESIST CROSS-LINKING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT - 特許庁

フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ンの形成方法、及び半導体素子例文帳に追加

PHOTORESIST CROSSLINKER, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

そしてレジスト３ａの上にレジスト３ａより小型のレジスト３ｂを形成する。例文帳に追加

A resist 3b smaller than the resist 3a is formed on the resist 3a. - 特許庁

各クレジット成分は、クレジット項と関連するクレジット重みとの積を含む。例文帳に追加

Each credit component includes a product with a credit weight relevant to a credit term. - 特許庁

フォトレジスト保護膜用組成物、フォトレジスト保護膜およびフォトレジストパターン形成方法例文帳に追加

COMPOSITION FOR PHOTORESIST PROTECTIVE FILM, PHOTORESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN - 特許庁

フォトレジスト現像ノズル、フォトレジスト現像装置、およびフォトレジスト現像方法例文帳に追加

PHOTORESIST DEVELOPMENT NOZZLE, PHOTORESIST DEVELOPMENT APPARATUS AND METHOD THEREFOR - 特許庁

ポジ型レジスト組成物、それを用いた多層レジスト材料及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION, MULTILAYER RESIST MATERIAL USING THE SAME AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

フォトレジスト組成物、フォトレジスト組成物の塗布方法およびレジストパターンの形成方法例文帳に追加

PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR COATING THE PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

レジスタ端末装置、レジスタ端末処理方法、およびレジスタ端末処理プログラム例文帳に追加

REGISTER TERMINAL EQUIPMENT, REGISTER TERMINAL PROCESSING METHOD, AND REGISTER TERMINAL PROCESSING PROGRAM - 特許庁

基板９１に感光性のレジストを塗布してレジスト層９３を形成する（レジスト塗布工程）。例文帳に追加

A photosensitive resist is applied to a substrate 91 to form a resist layer 93 (a resist application process). - 特許庁

クレジットカード処理装置、クレジットカード処理システム及びクレジットカード処理方法例文帳に追加

CREDIT CARD PROCESSING APPARATUS, CREDIT CARD PROCESSING SYSTEM AND CREDIT CARD PROCESSING METHOD - 特許庁

クレジット管理システム及びクレジット管理方法、並びにクレジットカード決済サーバ例文帳に追加

CREDIT MANAGEMENT SYSTEM, CREDIT MANAGEMENT METHOD AND CREDIT CARD SETTLEMENT SERVER - 特許庁

レジストカバー膜用処理ブロック１２において、レジスト膜上にレジストカバー膜が形成される。例文帳に追加

In the resist cover film processing block 12, a resist cover film is formed on the resist film. - 特許庁

レジスト膜を現像してレジストパターンが形成されたレジスト原盤とする。例文帳に追加

A resist film is developed to obtain the resist master disk in which the resist patterns are formed. - 特許庁

レジスト用重合体の製造方法、レジスト用重合体、レジスト用組成物、およびパターン製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING PROCESS OF RESIST POLYMER, RESIST POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS - 特許庁

ＩＤコードを書き込むＩＤレジスタに、制御レジスタ群の内の１つの制御レジスタを割り当てる。例文帳に追加

One control register in a control register group is assigned to an ID register writing the ID code. - 特許庁

デュアルレジスタは第１レジスタ１７０と、それと関連した第２レジスタ１５０で構成される。例文帳に追加

The dual register is constituted of a first register 170 and a second register 150 related to the register 170. - 特許庁

ポジ型レジスト組成物、サーマルフロー用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POSITIVE RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL FLOW, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

レジスト補正部４０６では、読取られたレジストパターンをもとにレジスト補正値を演算する。例文帳に追加

In the resist correction part 406, the resist correction value is computed based on the resist patterns being read. - 特許庁

レジスト塗布現像方法、並びにレジスト膜処理装置およびこれを含むレジスト塗布現像装置例文帳に追加

RESIST APPLYING AND DEVELOPING METHOD, RESIST FILM PROCESSING UNIT, AND RESIST APPLYING AND DEVELOPING APPARATUS COMPRISING THE SAME - 特許庁

ホトレジスト組成物用樹脂、ホトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIN FOR PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

カップ内面のレジスト除去装置とレジスト除去用治具とレジスト除去方法例文帳に追加

RESIST OF INNER SURFACE OF CUP REMOVING APPARATUS, AND JIG AND METHOD FOR REMOVING RESIST - 特許庁

レジスタ復帰方法、レジスタ退避方法、レジスタ管理方法、情報処理装置、プログラム例文帳に追加

REGISTER RETURN METHOD, REGISTER SAVING METHOD, REGISTER MANAGEMENT METHOD, INFORMATION PROCESSOR, AND PROGRAM - 特許庁

レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。例文帳に追加

To provide a resist composition and a resist pattern forming method using the resist composition. - 特許庁

熱リソグラフィー用レジスト組成物、レジスト積層体、レジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION FOR THERMAL LITHOGRAPHY, RESIST LAMINATE, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN - 特許庁

永久マスクレジスト、永久マスクレジストの製造法及び永久マスクレジスト積層基板例文帳に追加

PERMANENT MASK RESIST, METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND PERMANENT MASK RESIST LAMINATION SUBSTRATE - 特許庁

レジストの除去不良およびレジスト除去時のレジスト暴発を防止する。例文帳に追加

To prevent faulty removal of resist and popping of resist when the resist is removed. - 特許庁

レジスト吐出装置及びそれを用いたレジスト塗布装置及びレジスト塗布方法例文帳に追加

RESIST-DISCHARGING DEVICE, RESIST-COATING APPARATUS USING THE SAME AND RESIST-COATING METHOD - 特許庁

続いて、前記バンプレジスト６において前記レジストパターン４上のバンプレジスト６を除去する。例文帳に追加

The bump resist 6 on the resist pattern 4 is removed. - 特許庁

レジスト組成物の製造方法、ろ過装置、レジスト組成物の塗布装置およびレジスト組成物例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING RESIST COMPOSITION, FILTERING DEVICE, COATING DEVICE FOR RESIST COMPOSITION, AND RESIST COMPOSITION - 特許庁

レジスト組成物用重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

POLYMER FOR RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

クレジットカードによる販売システム、クレジットカード認証装置及びクレジットカード例文帳に追加

SELLING SYSTEM BY CREDIT CARD, CREDIT CARD AUTHENTICATING DEVICE, AND CREDIT CARD - 特許庁

液浸露光プロセス用レジスト材料および該レジスト材料を用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST MATERIAL FOR IMMERSION EXPOSURE PROCESS AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING RESIST MATERIAL - 特許庁

ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING POSITIVE RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

クレジットカード決済方法、クレジットカード決済システム、クレジットカード管理サーバ例文帳に追加

CREDIT CARD PAYMENT METHOD, CREDIT CARD PAYMENT SYSTEM, AND CREDIT CARD MANAGEMENT SERVER - 特許庁

レジスタ配置最適化方法、レジスタ配置最適化プログラム、及びレジスタ配置最適化装置例文帳に追加

METHOD FOR OPTIMIZING REGISTER ARRANGEMENT, PROGRAM FOR OPTIMIZING REGISTER ARRANGEMENT, AND DEVICE FOR OPTIMIZING REGISTER ARRANGEMENT - 特許庁

液浸露光プロセス用レジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESS, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING IT - 特許庁

レジスト層１００の上に、二層目のレジスト層であるレジスト層１０２を塗布する。例文帳に追加

A resist layer 102 which is a second resist layer is applied on a resist layer 100. - 特許庁

レジスト除去方法、レジスト除去剤噴射装置、およびレジスト除去装置例文帳に追加

METHOD OF REMOVING RESIST, RESIST REMOVER INJECTION APPARATUS, AND RESIST REMOVING APPARATUS - 特許庁

レジスト調製時の溶解性、レジスト安定性及び安全性に優れたレジスト組成物を得る。例文帳に追加

To obtain a resist composition excellent in solubility, resist stability and safety in resist preparation. - 特許庁

レジスト基板、レジストパターン形成方法及びレジスト基板の保存方法例文帳に追加

RESIST SUBSTRATE, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR STORING RESIST SUBSTRATE - 特許庁

レジスト画像形成材料、レジスト画像形成材、及びレジスト画像形成方法例文帳に追加

RESIST IMAGE FORMING MATERIAL, RESIST IMAGE FORMING MATERIAL USING SAME AND RESIST IMAGE FORMING METHOD - 特許庁

化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパタ−ン形成方法例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION, RESIST LAYER LAMINATE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

レジスト剥離・回収システム、該システムに用いられるレジスト分離器およびレジスト回収槽例文帳に追加

SYSTEM FOR STRIPPING AND RECOVERING RESIST, AND RESIST SEPARATION DEVICE AND RESIST RECOVERY TANK USED FOR THE SYSTEM - 特許庁

レジスト組成物、レジストパターン形成方法及びレジスト組成物の製造方法例文帳に追加

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING THE RESIST COMPOSITION - 特許庁