例文 (3件) |
下ノ平の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3件
滴下ノズル移動手段としては、例えば、回転モータ44および回転体46によって構成され、滴下ノズルを水平面に沿って回転させるものを用いることができる。例文帳に追加
As the dripping nozzle moving means, for example, one constituted of a rotary motor 44 and a rotary body 46 and rotating the dripping nozzle along a horizontal plane can be used. - 特許庁
本発明に係る炭化珪素半導体装置の製造方法は、(a)表面に非平坦欠陥3aを有する炭化珪素ウエハ3を準備する工程と、(b)炭化珪素ウエハ3の中心上方から周縁上方まで滴下ノズル1を移動させながら、滴下ノズル1から炭化珪素ウエハ3にレジストを滴下する工程とを備える。例文帳に追加
The method for manufacturing the silicon carbide semiconductor device includes the steps of: (a) preparing a silicon carbide wafer 3 having a non-flatness defect 3a thereon; and (b) dropping a resist onto the silicon carbide wafer 3 from a dropping nozzle 1 while moving the dropping nozzle 1 from the upper side of the center of the silicon carbide wafer 3 to the upper side of the peripheral edge thereof. - 特許庁
平面形状が角型の基板Wを吸着保持した状態で回転可能なチャック部20と、回転状態の基板Wの表面に対して拡散材を滴下する滴下ノズルと、基板Wの裏面側に洗浄液を供給する洗浄ノズル22aと、を備えた塗布装置である。例文帳に追加
The coating apparatus includes: a chuck part 20 capable of being rotated while sucking and holding a substrate W having a rectangular planar shape; a dropping nozzle dropping a diffusion material on the surface of the substrate W in a rotating state; and a cleaning nozzle 22a supplying a cleaning liquid on a back surface side of the substrate W. - 特許庁
例文 (3件) |
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |