例文 (3件) |
保持板供給ミスの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3件
基板に供給される処理液が基板を保持する保持部材に付着し、ミスト化して基板を汚染することが防止された基板処理装置を提供する。例文帳に追加
To provide a substrate processing device, which prevents processing liquid supplied to a substrate from sticking on a hold member holding the substrate and then staining the substrate by making it into mist. - 特許庁
基板処理方法は、処理対象面が下面となるように基板Wを保持して回転させる工程と、基板の下面にDIW(純水)を供給して基板にリンス処理を施す工程と、その後、基板の下面にIPA(イソプロピルアルコール)とN_2ガスとを含むミストを供給してDIWをIPAで置換する工程と、を備える。例文帳に追加
A substrate processing method includes: a step of holding and rotating a substrate W so as to turn the processing object surface to a lower surface; a step of supplying DIW (pure water) to the lower surface of the substrate and executing rinsing processing to the substrate; and a step of supplying mist containing IPA and an N_2 gas to the lower surface of the substrate and replacing the DIW with the IPA thereafter. - 特許庁
ミスト発生室で生成したミストを基板上に塗布するミスト供給部と、ミスト供給部のスリット開口に対向して所定間隔を開けて基板を保持して水平方向に移動する移動機構を備えた駆動ステージと、ミスト発生室の底部に溜まった塗布液を回収し、再利用する塗布液を送液及び回収する送液・回収機構を備え、送液・回収機構の回収時間の短縮するため、流量を調節して溶液を補充することにより、粘度調整の精度は維持しながら回収時間を短縮することが可能とした。例文帳に追加
Thereby, the recovery time can be shortened while maintaining accuracy of viscosity adjustment. - 特許庁
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