意味 | 例文 (2件) |
平均自由行路の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2件
このようなプロセス条件下では、従来の成膜条件に比較して触媒体3と基板10との距離が大きく、成膜圧力が低圧化されるため、反応ガスの平均自由行路が増加され、反応ガスの気相反応が抑制され、カバレッジのよい絶縁膜を形成できる。例文帳に追加
Under these processing conditions, the distance between the catalytic substance 3 and the substrate 10 is larger and a film-forming pressure is lower than the conventional film- forming conditions, increasing a mean free path of a reaction gas while suppressing the gas phase reaction thereof, resulting in the formation of an insulation film having prosper coverage. - 特許庁
制御装置42は、圧力センサ44の検出信号から処理室12の内部が減圧され、放電ユニット20から送られてくる活性種を含む処理ガスの平均自由行路が、ガス導入口22から半導体基板1までの距離より大きくなると、開閉弁38を開放して処理ガスを処理室12に供給する。例文帳に追加
A control apparatus 42 opens a switching valve 38 and supplies the processing gas to the processing chamber 12, when the inside of the processing chamber 12 is evacuated with a detection signal of a pressure sensor 44, and the average free path of the processing gas including active seeds sent from the discharge unit 20 becomes longer than the distance from the gas inlet port 22 up to the semiconductor substrate 1. - 特許庁
意味 | 例文 (2件) |
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると 検索履歴を保存できる! 語彙力診断の実施回数増加! |