1016万例文収録!

「膜透過」に関連した英語例文の一覧と使い方(126ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 膜透過の意味・解説 > 膜透過に関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

膜透過の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 6255



例文

空気に含まれるガス成分を検出する装置は、表面に流路溝4を有する検出プレート1と、ガス透過3を介して流路溝4に連通する貫通孔7を開口している閉塞プレート2と、流路溝4に検出溶液を流す流通機構5と、貫通孔7に空気を供給する送風機6と、検出プレート1と閉塞プレート2のいずれかを貫通して流路溝4に表出している一対の電極8と、電極8に誘導される電圧、または電極間の電気抵抗を検出する検出回路9とを備える。例文帳に追加

The gaseous components which are contained in the air blown by the blower 6 is passed through the through-hole 7 and the membrane 3 and are dissolved in the detection solution in the groove 4. - 特許庁

本方法は、光透過率が互いに異なる複数の領域を含むフォトマスクを用いて、半導体基板に塗布されたフォトレジストを露光する露光工程と、フォトレジストを現像して、フォトレジストの露光量に依存した互いに異なる厚を有する複数の領域を含むレジストパターンを形成する現像工程と、レジストパターンの厚が互いに異なる複数の領域を通して半導体基板に不純物イオンを注入して、半導体基板の表面からピーク位置までの深さが互いに異なる複数の不純物領域を形成する注入工程とを有し、ピーク位置までの深さは、注入される不純物イオンが通るレジストパターンの厚に依存することを特徴とする。例文帳に追加

The depth to the peak position depends on the film thickness of the resist pattern through which the impurity ions to be implanted pass. - 特許庁

基板表面に第1の電極を形成する工程と、前記第1の電極の上層に発光物質層を形成する工程と、前記発光物質層の上に、前記発光物質層から出射した光が透過可能に形成された第2の電極を形成する工程と、前記第2の電極の形成された前記基板表面に保護を形成する工程と、前記保護を形成する工程に先立ち、前記第2の電極の形成された前記基板表面に、前記発光物質層に到達し得る条件で、前記発光物質層が発光し得る波長の光を照射する光照射工程とを含み、前記第1の電極と前記第2の電極とを介して前記発光物質層に電界を供給し、前記発光物質層を発光させるようにしたことを特徴とする。例文帳に追加

An electric field is supplied to the light emitting substance layer through the first electrode and the second electrode so that the light emitting substance layer can emit light. - 特許庁

マイクロレンズを形成する際の露光波長では解像しない微細なパターンの分布状態により露光する際の透過光量分布を制御するフォトマスクを用いたマイクロレンズの形成方法において使用する、固体撮像素子レンズ用感光性樹脂組成物であって、 残率飽和露光量を前記フォトマスクを介して感光性樹脂組成物に照射、現像した時のマスク開口率と残率の関係において、マスク開口率が20%から80%の範囲で最小2乗法により直線近似した時のR^2が0.950〜1.000の範囲であることを特徴とする固体撮像素子レンズ用感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The relation between the aperture ratio of the mask and the film remaining rate when the photosensitive resin composition is irradiated through the photomask with light in the saturation exposure light quantity of the film remaining rate shows that R^2 in linear approximation by a least squares method ranges from 0.950 to 1.000 in a range of 20% to 80% of the mask aperture ratio. - 特許庁

例文

有機EL表示装置100は、ボトムエミッション型であって、透明基板2上に隔壁としてのバンク部112で区画された赤色、緑色、青色に対応する透明な画素電極111と、画素電極111上に形成された正孔輸送層110bと、正孔輸送層110b上に形成されインクジェット法で塗り分けられた赤色、緑色、青色それぞれの有機発光層110cと、これらの有機発光層110cを覆う対向電極12と、を備え、画素電極111は有機発光層110cからの発光色と同色の光を選択透過する着色成分を含有されてなり、画素電極111の厚が0.3μm以上2μm以下であることを特徴とする。例文帳に追加

The pixel electrode 111 contains a coloring component which transmits light of the same color as the luminous color from the organic light-emitting layers 110c selectively, and the thickness of the pixel electrode 111 is 0.3-2 μm. - 特許庁


索引トップ用語の索引



  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS