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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Chemicallyの意味・解説 > Chemicallyに関連した英語例文

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Chemicallyを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 2960



例文

SILVER HALIDE EMULSION AND METHOD FOR CHEMICALLY SENSITIZING THE SAME例文帳に追加

ハロゲン化銀乳剤およびその化学増感方法 - 特許庁

To provide a method for chemically synthesizing theaflavins.例文帳に追加

テアフラビン類を化学的に合成する方法を提供。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTROPHORESIS UNIT例文帳に追加

電気泳動装置用化学増幅ポジ型レジスト組成物 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFYING POSITIVE RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

化学増幅型ポジ型感放射線性樹脂組成物 - 特許庁

例文

CHROMIUM-FREE CHEMICALLY TREATED STEEL SHEET EXCELLENT IN RESISTANCE TO WHITE RUST例文帳に追加

耐白錆性に優れたクロムフリー化成処理鋼板 - 特許庁


例文

METHOD FOR CHEMICALLY DECOMPOSING VOLATILE ORGANOCHLORINE COMPOUND例文帳に追加

揮発性有機塩素化合物の化学的分解方法 - 特許庁

benzaldehyde is chemically related to benzene. 例文帳に追加

ベンズアルデヒドはベンゼンと化学的に近縁の物質である。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

SALT FOR ACID GENERATOR OF CHEMICALLY AMPLIFIED TYPE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 - 特許庁

CHEMICALLY NONTOXIC TREATMENT METHOD OF PCB AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

PCBの化学的無害化処理方法及びその装置 - 特許庁

例文

CHEMICALLY AMPLIFYING POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR FORMING THICK FILM例文帳に追加

厚膜形成用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物 - 特許庁

例文

The acid 134 is chemically bonded to the polymer 132.例文帳に追加

酸134は、ポリマー132へ化学的に結合される。 - 特許庁

To provide a method for chemically recycling an aromatic polycarbonate.例文帳に追加

芳香族ポリカーボネートのケミカルリサイクル方法を提供する。 - 特許庁

As the chemically adsorbed molecules, e.g. CH_3-CO-O-C_6 H_4-(CH_2)_6-SiCl_3 is used.例文帳に追加

化学吸着分子は例えばCH_3-COO-C_6H_4-(CH_2)_6-SiCl_3を用いる。 - 特許庁

CHEMICALLY MODIFIED POLYAMINOSACCHARIDE BY HYDROCARBYL SULTONE COMPOUND例文帳に追加

ヒドロカルビルスルトン化合物(AHYDROCARBYLSULTONECOMPOUND)による化学修飾ポリアミノ糖 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND SULFONATE例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物及びその製造方法 - 特許庁

As the chemically modified silica gel obtained by chemically modifying the silica gel, the chemically modified silica gel in which the ratio of the isolated silanol group/total silanol group of a silica gel original body is50% or in which ≥25% of the total silanol group of the chemically modified silica gel is chemically modified is used.例文帳に追加

シリカゲルを化学修飾してなる化学修飾型シリカゲルにおいて、このシリカゲル原体の孤立シラノール基/全シラノール基の割合が50%以上であるもの、または、化学修飾型シリカゲルの全シラノール基の25%以上が化学修飾されているものを使用する。 - 特許庁

POLYMER FOR RESIST AND CHEMICALLY AMPLIFYING RESIST COMPOSITION例文帳に追加

レジスト用重合体および化学増幅型レジスト組成物 - 特許庁

NON-CHEMICALLY-AMPLIFIED MAIN CHAIN DECOMPOSITION TYPE POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物 - 特許庁

ACID GENERATING RESIN FOR CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジスト組成物用酸発生樹脂 - 特許庁

CHEMICALLY RESISTANT SILICA GLASS AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

耐化学性シリカガラス及び耐化学性シリカガラスの製造方法 - 特許庁

AQUEOUS CHEMICAL TREATMENT LIQUID AND CHEMICALLY TREATED STAINLESS STEEL SHEET例文帳に追加

水性化成処理液および化成処理ステンレス鋼板 - 特許庁

having only a limited ability to react chemically 例文帳に追加

化学的に反応する限られた機能だけ持っている - 日本語WordNet

MAGNESIUM OXIDE COMPOUND CHEMICALLY MODIFIED WITH POLYMER CHAIN例文帳に追加

ポリマー鎖で化学修飾された酸化マグネシウム化合物 - 特許庁

MASTERBATCH OF CHEMICALLY FOAMING AGENT, USING BIODEGRADABLE RESIN例文帳に追加

生分解性樹脂を用いた化学発泡剤マスターバッチ - 特許庁

CHEMICALLY DEPOSITED ELECTRODE COMPONENT AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加

化学的に蒸着された電極部品およびその製法 - 特許庁

COMPOSITION FOR CHEMICALLY CONVERTING FILM OF MAGNESIUM ALLOY AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

マグネシウム合金の皮膜化成用組成物及び方法 - 特許庁

SALT FOR ACID-GENERATING AGENT OF CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

If the amino group and the organic molecule are reacted chemically, the organic molecule and the semiconductor surface are chemically bonded integrally.例文帳に追加

アミノ基と有機分子とを反応させれば、有機分子と半導体表面とが化学的に一体に結合する。 - 特許庁

ACID GENERATOR FOR CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THE ACID GENERATOR, AND THE CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION例文帳に追加

化学増幅型フォトレジスト組成物用の酸発生剤、その製造法及び化学増幅型フォトレジスト組成物 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY ETCHED AND OPTICALLY DEMARCATED VERY SMALL ELECTRICAL CONTACT例文帳に追加

化学的にエッチングした光画定された微小電気接点 - 特許庁

EXCITATED OXYGEN GENERATOR FOR CHEMICALLY EXCITATED OXYGEN-IODINE LASER DEVICE例文帳に追加

化学励起酸素‐沃素レーザ装置用励起酸素発生装置 - 特許庁

METHOD FOR CHEMICALLY AND MECHANICALLY POLISHING PLATINUM LAYER ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板上の白金層の化学機械研磨方法 - 特許庁

METHOD OR THE LIKE FOR CHEMICALLY SYNTHESIZING GLUCOSE FROM CARBON DIOXIDE AND HYDROGEN例文帳に追加

二酸化炭素と水素による、グルコースの化学合成法他 - 特許庁

INDIVIDUALIZED BALKY FIBER OF CHEMICALLY CROSSLINKED CELLULOSE COMPRISING CELLULOSE FIBER CHEMICALLY CROSSLINKED IN FIBER例文帳に追加

化学的に繊維内架橋されたセルロースの繊維を含む化学的に架橋されたセルロースの個別化された嵩高い繊維 - 特許庁

This chemically amplified resist 2 is exposed by using a mask 4.例文帳に追加

マスク4を用いて、化学増幅型レジスト2を露光する。 - 特許庁

PHOTOACTIVE COMPOUND AND CHEMICALLY-AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION例文帳に追加

光活性化合物及び化学増幅型フォトレジスト組成物 - 特許庁

A chemically amplified resist can be used as the resist.例文帳に追加

このレジストとして、化学増幅型レジストとすることができる。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS例文帳に追加

化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

APPARATUS FOR CHEMICALLY STRENGTHENED GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

情報記録媒体用ガラス基板の化学強化処理装置 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

SALT FOR ACID GENERATOR OF CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION例文帳に追加

化学増幅型フォトレジスト組成物の酸発生剤用の塩、その製造方法及び化学増幅型フォトレジスト組成物 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION FOR EXPOSURE TO EXTREME-ULTRAVIOLET RAY例文帳に追加

極端紫外線露光用化学増幅型フォトレジスト組成物 - 特許庁

ALKALI RESISTANT CHEMICALLY MODIFIED SILICA GEL AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

耐アルカリ性化学修飾型シリカゲル及びその製造方法 - 特許庁

例文

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁




  
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