HYDROXYBENZENEを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 9件
HYDROXYBENZENE DERIVATIVE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
ヒドロキシベンゼン誘導体およびその製造方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR OXIDATION DYEING OF KERATIN FIBER CONTAINING N-(2-HYDROXYBENZENE)CARBAMATE OR N-(2- HYDROXYBENZENE)UREA AS COUPLER AND DYEING METHOD例文帳に追加
カップラーとしてＮ−（２−ヒドロキシベンゼン）カルバメート又はＮ−（２−ヒドロキシベンゼン）ウレアを含有するケラチン繊維の酸化染色用組成物及び染色方法 - 特許庁
The antifoulant comprises as an effective component an N- substituted amino group-containing heterocyclic compound and also another antifoulant comprises the N-substituted amino group-containing heterocyclic compound and a hydroxybenzene derivative.例文帳に追加
Ｎ−置換アミノ基を有する複素環式化合物を有効成分とすることを特徴とする汚れ防止剤及びＮ−置換アミノ基を有する複素環式化合物とヒドロキシベンゼン誘導体とを含有することを特徴とする汚れ防止剤。 - 特許庁
This gold-tin alloy electroplating bath contains (a) soluble metal complex salt, (b) soluble bivalent tin salt, (c) at least one kind selected from hydroxycarboxylic acid and the salt thereof, (d) an organic phosphoric compound and (e) a hydroxybenzene compound.例文帳に追加
金−錫合金電気めっき浴を、(a)可溶性金錯塩と、(b)可溶性二価錫塩と、(c)ヒドロキシカルボン酸及びその塩から選ばれる少なくとも一種と、(d)有機燐酸化合物と、(e)ヒドロキシベンゼン化合物とを含有することで構成する。 - 特許庁
Furthermore, the detergent composition preferably includes one or more compounds (component C) selected from a group including, benzene sulfonic acid, toluene sulfonic acid, dimethylbenzene sulfonic acid, hydroxybenzene sulfonic acid, and their salts.例文帳に追加
ハードディスク用ガラス基板用洗浄剤組成物には、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸及びこれらの塩からなる群から選ばれる一種以上の化合物（成分Ｃ）が含まれていると好ましい。 - 特許庁
The photosetting composition contains: (A) an ethylenically unsaturated compound; (B) a photopolymerization initiator; (C) an alkali-soluble resin containing an unsaturated group- and carboxyl group-containing epoxy resin; (D) an epoxy compound; and a hydroxybenzene derivative having an electron withdrawing group substituted.例文帳に追加
（Ａ）エチレン性不飽和化合物、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）不飽和基及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂、及び（Ｄ）エポキシ化合物と、電子吸引基が置換されたヒドロキシベンゼン誘導体とを含有する光硬化性組成物。 - 特許庁
The gold-tin alloy electroplating bath is constituted to contain (a) a soluble gold complex salt, (b) a soluble bivalent tin salt, (c) at least one kind selected from hydroxycarboxylic acid and its salt, (d) a nitrogenous heterocyclic compound and (e) a hydroxybenzene compound.例文帳に追加
金−錫合金電気めっき浴を、(a)可溶性金錯塩と、(b)可溶性二価錫塩と、(c)ヒドロキシカルボン酸及びその塩から選ばれる少なくとも一種と、(d)含窒素複素環状化合物と、(e)ヒドロキシベンゼン化合物とを含有することで構成する。 - 特許庁
A manufacturing method of a glass hard disk substrate includes a step of polishing a glass substrate to be polished by using a polishing liquid composition that contains an abrasive material, an acid, a poly-hydroxybenzene compound having at least two hydroxyl groups or more adjacent to each other on a benzene ring and water, and is from pH1.0 to 4.0.例文帳に追加
研磨材、酸、ベンゼン環上に互いに隣接する２個以上の水酸基を有する多価ヒドロキシベンゼン化合物、及び水を含有し、ｐＨ１．０〜４．０である研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程を含む、ガラスハードディスク基板の製造方法。 - 特許庁
An electroplating method includes electroplating a substrate using an electroplating solution of tin or a tin alloy, containing: a basis solution comprising an acid, optionally a salt thereof, the acid is selected from the group consisting of fluoboric acid, an organic sulfonic acid, or a combination thereof; divalent tin ions; and an antioxidant containing a hydroxybenzene sulfonic acid or salt thereof, in an amount effective to reduction of the oxidation of divalent tin ions.例文帳に追加
フルオロホウ酸、有機スルホン酸又はこれらの組み合わせからなる群から選択される酸、任意にこれらの塩を含む基準溶液；二価スズイオン；および酸化二価スズを還元するのに有効量のヒドロキシベンゼンスルホン酸又はこれらの塩を含む酸化防止化合物、を含むスズ及びスズ合金のメッキ溶液を使用して基体を電気メッキするメッキ方法。 - 特許庁
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