「RESIST」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

She didn't resist.例文帳に追加

彼女は抵抗しませんでした - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

I can not resist the desire to try 例文帳に追加

やってみたくて堪らない - 斎藤和英大辞典

a faint attempt to resist例文帳に追加

気力のない抵抗の試み - Eゲイト英和辞典

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST MATERIAL例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST TO WAFER例文帳に追加

ウエハへのレジスト形成方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION SERIES POSITIVE TYPE RESIST例文帳に追加

化学増幅系ポジ型レジスト - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID GENERATING AGENT例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤 - 特許庁

PERMANENT RESIST, LAMINATE BOARD AND CIRCUIT BOARD USING THE RESIST例文帳に追加

永久レジストおよび当該レジストを用いた積層板、回路基板 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a method for formation of a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING POLYMER FOR RESIST, POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN例文帳に追加

レジスト用重合体の製造方法、レジスト用重合体、レジスト組成物、およびパターン製造方法 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION COMPOSITION FOR RESIST AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

レジスト用現像液組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND LAMINATE例文帳に追加

レジストパターン形成方法、ポジ型レジスト組成物及び積層体 - 特許庁

POLYMERIC COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

SUBSTRATE FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND PANEL例文帳に追加

レジストパターン形成用基板、レジストパターン形成方法およびパネル - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物 - 特許庁

CHEMICAL COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERNING PROCESS例文帳に追加

化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

MIXED RESIN COMPOSITION FOR RESIST例文帳に追加

レジスト用混合樹脂組成物 - 特許庁

ELECTRON BEAM NEGATIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

電子線ネガ型レジスト組成物 - 特許庁

POLYMER FOR COATING RESIST PATTERN例文帳に追加

レジストパターン被覆用重合体 - 特許庁

SALT, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PRODUCTION METHOD OF RESIST PATTERN例文帳に追加

塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND POSITIVE RESIST BASE MATERIAL WHICH USES THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたポジ型レジスト基材 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

Thereafter, the resist film is removed employing resist film separating liquid.例文帳に追加

しかる後にレジスト剥離液をもちいてレジスト膜を除去する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MULTILAYERED RESIST PATTERN例文帳に追加

多層レジストパターン形成方法 - 特許庁

To transfer a pattern precisely to a resist film to form a resist pattern of a desired dimension on the resist film.例文帳に追加

精度良くレジスト膜にパターンを転写し、所望の寸法のレジストパターンをレジスト膜に形成する。 - 特許庁

On the lower resist pattern, an upper resist pattern 23 that has the same pattern as the resist pattern 22 is formed (step 5).例文帳に追加

この上に、レジストパターン２２と同じパターンの上部レジストパターン２３を形成する（工程５）。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 - 特許庁

To provide a positive resist composition; and to provide a resist pattern-forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

COMPOUND FOR RESIST REMOVER, AND RESIST REMOVER BY USING THE SAME例文帳に追加

レジスト剥離剤用化合物及びそれを用いたレジスト剥離剤 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING RESIST COMPOSITION例文帳に追加

レジスト組成物の製造方法 - 特許庁

COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR RESIST PATTER FORMATION例文帳に追加

化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND NOVEL COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および新規な化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND NOVEL COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および新規な化合物 - 特許庁

CROSSLINKABLE POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

架橋化ポジ型レジスト組成物 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

感放射線性レジスト組成物 - 特許庁