RESISTを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 18871件
The resist film is exposed and developed to form a resist pattern.例文帳に追加
レジスト膜を露光、現像して、レジストパターンを形成する。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, LAYERED PRODUCT, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、積層体、レジストパターン形成方法 - 特許庁
POLYMER FOR RESIST AND CHEMICALLY AMPLIFYING RESIST COMPOSITION例文帳に追加
レジスト用重合体および化学増幅型レジスト組成物 - 特許庁
MASK, RESIST PATTERN, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
マスク及びレジストパターン並びにレジストパターンの形成方法 - 特許庁
STRENGTHENING METHOD OF RESIST PATTERN例文帳に追加
レジストパターンの強化方法 - 特許庁
The resist film is exposed in a separate manner with a plurality of shots, and the exposed resist film is developed to form a resist pattern.例文帳に追加
そして、露光されたレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する。 - 特許庁
To provide a resist composition and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加
レジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
RESIST FILM PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
レジスト膜の処理装置、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIST COATING AND DEVELOPING APPARATUS, RESIST COATING AND DEVELOPING METHOD, RESIST-FILM PROCESSING APPARATUS, AND RESIST-FILM PROCESSING METHOD例文帳に追加
レジスト塗布現像装置およびレジスト塗布現像方法、並びにレジスト膜処理装置およびレジスト膜処理方法 - 特許庁
RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION AND RESIST UNDERLAYER FILM例文帳に追加
レジスト下層膜形成用組成物およびレジスト下層膜 - 特許庁
RESIST COMPOSITION FOR EUV, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
EUV用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
EVALUATION METHOD OF RESIST PATTERN例文帳に追加
レジストパターンの評価方法 - 特許庁
COATING DEVICE FOR RESIST AND REMOVING DEVICE OF RESIST ON SUBSTRATE EDGE例文帳に追加
レジスト塗布装置および基板端縁レジスト除去装置 - 特許庁
RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING POLYMER FOR RESIST例文帳に追加
レジスト組成物及びレジスト用重合体の製造方法 - 特許庁
PROCESSING METHOD FOR APPLYING RESIST, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
レジスト塗布処理方法及びレジストパターンの形成方法。 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT例文帳に追加
レジストパターン形成方法、ネガ型現像用レジスト組成物 - 特許庁
PRODUCTION METHOD OF RESIST PATTERN例文帳に追加
レジストパターンの製造方法 - 特許庁
COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加
化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁
RESIST STRIPPING AGENT AND EVALUATION METHOD FOR RESIST STRIPPING PERFORMANCE例文帳に追加
レジスト剥離剤及びレジスト剥離性能評価方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加
レジストパターンの製造方法 - 特許庁
RESIST PROCESSING METHOD AND USE OF POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加
レジスト処理方法及びポジ型レジスト組成物の使用 - 特許庁
A resist layer 102 which is a second resist layer is applied on a resist layer 100.例文帳に追加
レジスト層100の上に、二層目のレジスト層であるレジスト層102を塗布する。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK USING THE COMPOSITION例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク - 特許庁
A two-layer resist having an organic resin 13 as the lower layer resist and a silylation resist 14 as the upper layer resist is formed by coating.例文帳に追加
有機樹脂13を下層レジスト、シリル化レジスト14を上層レジストとした2層レジストを塗布形成する。 - 特許庁
Why do you continue to resist?例文帳に追加
どうして反抗するんだ? - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
BAKE DEVICE FOR RESIST PATTERN AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
レジストパターンのベーク装置及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁
NEGATIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁
ELECTRODEPOSITING RESIST FORMING METHOD AND ELECTRODEPOSITING RESIST FORMING DEVICE例文帳に追加
電着レジストの形成法および電着レジスト形成装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND RESIST PATTERN FORMATION SYSTEM例文帳に追加
レジストパターン形成方法およびレジストパターン形成システム - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING RESIST LIQUID AND RESIST FILM USING SAME例文帳に追加
レジスト液製造方法及びこれを用いたレジスト膜 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁
METHOD FOR REMOVING RESIST FILM AND RESIST FILM REMOVING APPARATUS例文帳に追加
レジスト膜の除去方法及びレジスト膜除去装置 - 特許庁
RESIST PROCESSING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING RESIST-ATTACHED SUBSTRATE例文帳に追加
レジスト処理方法及びレジスト付き基体の製造方法 - 特許庁
POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST FILM例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びレジスト膜の形成方法 - 特許庁
RESIST PATTERN FORMING METHOD, RESIST PATTERN, CROSSLINKABLE NEGATIVE CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION FOR ORGANIC SOLVENT DEVELOPMENT, RESIST FILM AND RESIST-COATED MASK BLANKS例文帳に追加
レジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクス - 特許庁
COMPOSITION FOR FILM UNDER RESIST例文帳に追加
レジスト下層膜用組成物 - 特許庁
RESIN COMPOSITION FOR RESIST INK例文帳に追加
レジストインキ用樹脂組成物 - 特許庁
RESIST AND LITHOGRAPHY METHOD例文帳に追加
レジストおよびリソグラフィー方法 - 特許庁
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