RESISTを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 18875件
DISPENSER FOR SMALL AMOUNT OF RESIST例文帳に追加
少量レジストディスペンサ - 特許庁
To prevent faulty removal of resist and popping of resist when the resist is removed.例文帳に追加
レジストの除去不良およびレジスト除去時のレジスト暴発を防止する。 - 特許庁
A resist film is developed to obtain the resist master disk in which the resist patterns are formed.例文帳に追加
レジスト膜を現像してレジストパターンが形成されたレジスト原盤とする。 - 特許庁
SALT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁
RESIN, RESIST COMPOSITION, AND MANUFACTURING METHOD OF RESIST PATTERN例文帳に追加
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
SALT, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁
LOWER LAYER RESIST COMPOSITION FOR SILICON-CONTAINING TWO- LAYER RESIST例文帳に追加
シリコン含有２層レジスト用下層レジスト組成物 - 特許庁
After the resist surface layer 3 is removed, the resist layer is developed.例文帳に追加
レジスト表面層３の除去後、現像をする。 - 特許庁
RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法 - 特許庁
RESIN, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法 - 特許庁
RESIST APPLYING METHOD, RESIST APPLICATOR, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加
レジスト塗布方法、レジスト塗布装置及び記憶媒体 - 特許庁
ADHESIVE TAPE FOR RESIST REMOVAL AND RESIST-REMOVING METHOD例文帳に追加
レジスト除去用接着テープとレジスト除去方法 - 特許庁
SALT, RESIST COMPOSITION, AND PRODUCTION METHOD OF RESIST PATTERN例文帳に追加
塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THICK FILM RESIST FILM FORMATION, THICK FILM RESIST LAMINATE, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加
レジストパターン製造方法 - 特許庁
COMPOSITION OF RESIST PEELING AGENT例文帳に追加
レジスト剥離剤組成物 - 特許庁
COMPOSITION FOR RESIST REMOVAL例文帳に追加
レジスト除去用組成物 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THICK-FILM RESIST FILM FORMATION, THICK-FILM RESIST LAMINATE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
A second resist mask is formed by forming a second resist at a first resist aperture of the first resist mask (S6).例文帳に追加
第二レジストを第一レジストマスクの第一レジスト開口に形成して、第二レジストマスクを形成（Ｓ６）する。 - 特許庁
RESIST CLEANER COMPOSITION例文帳に追加
レジスト洗浄剤組成物 - 特許庁
impossible to resist 例文帳に追加
耐えるのが不可能なさま - 日本語WordNet
RESIST-DISCHARGING DEVICE, RESIST-COATING APPARATUS USING THE SAME AND RESIST-COATING METHOD例文帳に追加
レジスト吐出装置及びそれを用いたレジスト塗布装置及びレジスト塗布方法 - 特許庁
A resist 3b smaller than the resist 3a is formed on the resist 3a.例文帳に追加
そしてレジスト３ａの上にレジスト３ａより小型のレジスト３ｂを形成する。 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING THE RESIST COMPOSITION例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及びレジスト組成物の製造方法 - 特許庁
RESIN FOR RESIST COMPOSITION, NEGATIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
レジスト組成物用樹脂、ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIN FOR RESIST, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
レジスト用樹脂、化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIST RESIN AND RESIST COMPOSITION OF CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE例文帳に追加
レジスト用樹脂および化学増幅型レジスト組成物 - 特許庁
POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加
樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁
DEVICE FOR PROCESSING RESIST PATTERN, AND METHOD OF PROCESSING RESIST PATTERN例文帳に追加
レジストパターン処理装置及びレジストパターン処理方法 - 特許庁
RESIN, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
樹脂、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
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