| 例文 |
ellipsometric methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5件
ELLIPSOMETRIC MEASUREMENT METHOD AND APPARATUS例文帳に追加
偏光解析測定方法および装置 - 特許庁
To solve various problems existing in the case of using an ellipsometric crystal for quick determination of a structure factor tensor and improvement of measurement sensitivity, though an ellipsometric method of an X-ray domain which is necessary for determining the structure factor tensor of a material is already proposed.例文帳に追加
物質の構造因子テンソルの決定に必要なX線領域の偏光解析の方法は既に提案されているが、構造因子テンソルの迅速決定および測定感度向上のために、偏光解析結晶を用いる場合には、種々の問題を解決しなければならない。 - 特許庁
In this method, the structure factor tensor can be determined without using the ellipsometric crystal, by measuring and analyzing incidence polarization dependency of scattered X-ray intensity from a sample.例文帳に追加
試料からの散乱X線強度の入射偏光依存性を測定・解析することで、偏光解析結晶を使用することなく構造因子テンソルを決定する方法。 - 特許庁
By measuring and analyzing incident polarization dependence on the intensity of the scattered X-rays from a sample, the structure factor tensors are determined, without having to use the ellipsometric crystal in this method.例文帳に追加
試料からの散乱X線強度の入射偏光依存性を測定・解析することで、偏光解析結晶を使用することなく構造因子テンソルを決定する方法。 - 特許庁
To provide a method for a real time control of manufacturing of thin film structure through ellipsometric measurement, without using an optical reversal or calculation in order to obtain optical parameters from Ψ and Δ.例文帳に追加
本発明は、光学的パラメータをΨおよびΔから得るために光学的反転またはパラメータ化を使用しないで楕円偏光測定によって薄膜構造の製造の実時間制御を行うことのできる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|