「forming a line」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for film carrier tapes for electronic component mounting and an etching processor of film carrier tapes for electronic component mounting, which can provide film carrier tapes for electronic component mounting satisfactory in electrical characteristics, mechanical characteristics, etc., with a uniform finish of line widths in wiring patterns, for the purpose of forming wiring patterns by etching treatment of films with an etchant in an etching processor.例文帳に追加

エッチング処理装置内において、フィルムをエッチング液にてエッチング処理して、配線パターンを形成する際に、配線パターンの線幅の仕上がりが均一で、電気諸特性、機械的強度などの良好な電子部品実装用フィルムキャリアテープを提供できる電子部品実装用フィルムキャリアテープの製造方法、ならびにそのための電子部品実装用フィルムキャリアテープのエッチング処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is improved in line edge roughness, pattern profile, EUV light exposing sensitivity, and dissolution contrast, and is used in manufacturing processes of semiconductors such as ICs, circuit boards for such as liquid crystals and thermal heads, and in other photofabrication processes, and also provide a pattern forming method using this composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus using an electrophotographic process, which enables the output of a high-quality image by preventing the collapse of the image, while stably outputting a thin line etc. by establishing compatibility between stable toner image formation 1 in the relatively isolated case of the toner image and image output accuracy 2 in the relatively dense case of the toner image.例文帳に追加

電子写真プロセスを用いた画像形成装置において、１．トナー画像が比較的孤立している場合の安定したトナー画像形成、２．トナー画像が比較的密集している場合の画像出力精度、を両立させて、像担持体としてＯＣＬドラムを用いた場合、ジャンピング現像に球形トナーを用いた場合、例えば注入帯電・クリーナレスシステムの画像形成装置などにおいて、細線などの出力を安定して行ないつつ、画像がつぶれることを防ぎ、高画質出力を可能にする。 - 特許庁

In the process of forming the plurality of columns of the cuts 1, for the cuts 1 in the broken line shape, the cycle of broken lines is shifted between odd-numbered columns and even-numbered columns, and the total length of the part of the cuts 1 of the broken lines is equal to or longer than a half of the total length of the entire broken lines.例文帳に追加

基板５上に回路パターンを形成する工程と、前記回路パターンが形成された基板５の長手方向に破線状の切り込み１を複数列形成する行程と、前記回路パターンと前記切り込み１とが形成された基板５の少なくとも一部を切り込み１と直交する方向に拡張することにより回路パターンを引き延ばして幾何学パターンを形成する工程とを有し、前記切り込み１を複数列形成する行程において、破線状の切り込み１は、奇数列と偶数列とで破線の周期がずれており、かつ、破線の切り込み１の部分の合計の長さは、破線全体の合計長さの半分以上である回路基板の製造方法。 - 特許庁