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forming a lineの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3305



例文

The flexible bag 10 which is formed of film materials 11A and 11B and whose spout is made by cutting away the portion 13 to be cut away along a cutting indication line 14 from the bag body 10A has a rib 16 made by forming the film materials 11A and 11B into an elnongated and protrusive shape at the tab 15 of the portion 13 to be cut away.例文帳に追加

フィルム材料11A、11Bにより形成され、切取り部13を切取り指示線14に沿って袋本体10Aから切取ることにより注出口が形成される可撓袋10であって、前記切取り部13の摘み部分15に、前記フィルム材料11A、11Bを細長凸状に成形したリブ16を有するもの。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can simultaneously satisfy the requirements for high sensitivity, high resolution, desirable pattern configuration, desirable line edge roughness and desirable iso/dense bias in especially lithography using an electron beam, X-rays or EUV light as an exposure radiation source, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、X線またはEUV光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of pattern formation that is improved in the pattern collapse, line edge roughness and scum occurrence, being free from any profile deterioration, and that exhibits appropriate following properties for the liquid for liquid immersion at the stage of liquid immersion exposure, while improving performance of reducing bubble defects, and to provide a method of forming a pattern with the use of the composition.例文帳に追加

現像欠陥、ラインウィズスラフネス、スカムの発生が抑制され、パターン形状に優れたパターンを形成することが可能で、更に液浸露光時の液浸液に対する追随性が良好であり、バブル欠陥抑制の諸性能も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The side of the silicon-made cap chip is formed by wet etching, and an insulation protecting film is formed on the wet-etched surface, thereby forming the insulation protecting film having a high adhesion force; whereby even if wires moves and come into contact with a cap chip side at resin-molding, generation of noises and line short circuiting can be prevented.例文帳に追加

シリコン製キャップチップの側面をウェットエッチングで形成し、ウェットエッチング面に絶縁性保護膜を形成することで、密着力の高い絶縁性保護膜が形成でき、樹脂モールド時にワイヤーが動いてキャップチップ側面に接触しても、ノイズの発生や線間短絡を防止できる。 - 特許庁

例文

The distribution of errors between respective theoretical coordinate points 120 and the formed model cam surface 125 are found, a straight line indicative of a theoretical cam surface to be found from the designing conditions is added as the restraint conditions of the model in relation to the position in which the error is maximum, and the model is again formed by the model forming part so as to satisfy the conditions.例文帳に追加

各理論座標点120と作成したモデルのカム面125との誤差の分布を求め、その誤差が最大となる位置に対し、設計条件から求められる理論カム面を表す直線をモデルの拘束条件として加え、この条件を満足するようにモデル作成部にモデルを再作成させる。 - 特許庁


例文

The first electrode can be exactly formed almost into the tapered-shape by heightening accuracy of patterning by accurately controlling an etching line width by applying a lithography process at every layer with a different etching method and an etching speed from each other, after forming the adhesion layer 12A, the metal layer 12B, and the work function adjusting layer 12C on the substrate 11, successively.例文帳に追加

基板11に、密着層12A,金属層12Bおよび仕事関数調整層12Cを順に形成したのち、エッチング方法およびエッチング速度が異なる層ごとにリソグラフィ工程を設けることにより、エッチング線幅を精確に制御してパターニング精度を高め、第1電極12を確実に略順テーパ状に形成することができる。 - 特許庁

This aligning device is provided with a magnetic field generating means for forming substantially parallel lines of magnetic force and a non-magnetic vessel storing the magnetic bar-like articles supplied into the magnetic field, having storage width being larger than the maximum dimension of the magnetic bar-like article, and arranged to make the direction of storage width substantially parallel with the direction of line of magnetic force.例文帳に追加

また、本発明の整列装置は、ほぼ平行な磁力線を形成する磁界発生手段と、磁界内に供給された磁性棒状品を収容し、磁性棒状品の最大寸法よりも大きい収容幅を有し、収容幅方向が磁力線方向に対してほぼ平行となるように配置される非磁性容器とを具備する。 - 特許庁

A pair of adjacent liquid crystal panels of which the liquid crystal injection ports face each other are prepared, and projections forming injection ports are nested into each other and are formed beyond a scribe line along which the pair of panels should be cut, and projections in the injection ports of each other function as banks for each other after panels are separated by cutting.例文帳に追加

隣り合う液晶パネルの液晶注入口を向かい合わせた対を作り、それぞれに注入口を形成する突起は互いに入れ子となり、対になっているパネルを切断するスクライブラインを越えて形成し、相手の注入口内にある突起は切断分離後相手のドテとして機能することを特徴とする。 - 特許庁

In addition, this circuit is capable of forming a dummy data scanning period for writing dummy data with respect to a data line equivalent to the number of lines horizontally scanned simultaneously at the overlapped sampling timing, other than the actual data scanning period, for at least one period at either the start time or the end time of the horizontal scanning.例文帳に追加

また水平走査回路は、水平走査開始時と水平走査終了時との少なくとも一方の期間において、実データ走査期間のほかに、オーバーラップしたサンプリングタイミングで同時に水平走査される本数分に相当するデータラインに対してダミーデータを書き込むためのダミーデータ走査期間を形成可能である。 - 特許庁

例文

To provide a resist material having high sensitivity and high resolution to high energy-beam exposure, small line-edge roughness because of controlled swelling at the time of development, small residual dross after development, excellent dry etching resistance, and suitably usable also for liquid immersion lithography, and provide a method for forming patterns by using the resist material.例文帳に追加

レジスト材料であって、高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少なく、優れたドライエッチング耐性を有し、また、液浸リソグラフィーにも好適に用い得るレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

This image forming apparatus uses an OFS type optical system, wherein the light amount emitted to the surface of the photoreceptor drum when the laser light emitting element is driven at a prescribed duty ratio is measured, and correction data to correct every pixel in a single scanning line to have the prescribed light amount is determined and previously stored.例文帳に追加

本画像形成装置は、OFS方式の光学系を採用し、所定のデューティー比でレーザ発光素子を駆動させたときの感光ドラムの表面に照射される光量を測定し、一走査ラインにおける各画素ごとに所定の光量に補正するための補正データを決定し、予め記憶しておく。 - 特許庁

AT the database compiler side, element points forming the outline of the polygon are selected in order with respect to polygon data taken in from a map database, and when it is detected that a selected polygon element point exists on the map sheet boundary line, the processing of shifting coordinates of the polygon element point inward to the polygon by one point is performed.例文帳に追加

データベースコンパイラ側では、地図データベースから取り込んだポリゴンデータについて、ポリゴンのアウトラインを形成する要素点を順に選択し、選択したポリゴン要素点が図葉境界上に存在することを検出した時には、そのポリゴン要素点の座標をポリゴンの内側に1だけずらす処理を行う。 - 特許庁

To provide a resist composition superior in dissolution contrast by simultaneously satisfying high sensitivity, excellent line edge roughness and excellent density independence, and to provide a pattern-forming method using it.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、KrFエキシマレーザー光、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A trench capacitor vertical-transistor DRAM cell in an SiGe wafer compensates for overhang of a pad nitride, by forming an epitaxial strained silicon layer on trench walls that improves transistor mobility, removes voids from the polysilicon filling, and reduces resistance on the bit line contact.例文帳に追加

SiGeウェハ中のトレンチ・コンデンサ型縦形トランジスタDRAMセルにおいて、トレンチ壁上にトランジスタの移動度を向上させるエピタキシャル歪シリコン層を形成することによってパッド窒化物のオーバハングを補償し、トレンチのポリ充填物から空洞を除去し、ビット線接点の抵抗値を小さくする。 - 特許庁

A plurality of blocks 331 through 333 on which the adjacent two dots 32 on the two lines are so formed to be dislocated in the line direction by the ideal pitch interval in the main scanning direction are provided corresponding to the respective exposure scanning positions of the adjacent two sets of a plurality of laser diodes of the image forming device.例文帳に追加

この2列間で隣り合う2つのドット32は当該列方向に理想的な主走査方向のピッチ間隔だけずれているように構成されているブロック331〜333が、画像形成装置の複数のレーザダイオードの隣り合う2つの組のそれぞれの露光走査位置に対応して複数設けられている。 - 特許庁

To provide a positive resist composition superior in dissolution contrast by simultaneously satisfying high sensitivity, excellent line edge roughness and excellent density independence, and to provide a pattern-forming method using it.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に、KrFエキシマレーザー光、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a matrix array substrate which is used for a plane display device, etc., includes contact holes integrally penetrating gate insulating films and interlayer insulating films and patterns for forming auxiliary capacitors(Cs) to be superposed on scanning lines 11 and is capable of preventing the shorting between pixel electrodes 52 and the scanning line 11 and between the pixel electrodes 52 and preventing the fluctuation in the auxiliary capacitors.例文帳に追加

平面表示装置等に用いられるマトリクスアレイ基板であって、ゲート絶縁膜及び層間絶縁膜を一括して貫くコンタクトホールと、走査線11に重ねられる補助容量(Cs)形成用パターンとを含むものにおいて、画素電極52と走査線11との間や画素電極52間における短絡を防止でき、かつ、補助容量の変動を防止できるものを提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device, capable of printing blanked-out data for heading (n) lines as white data automatically, and printing actual image data from a printer controller from (n+1)th line in the case when an image data signal, synchronized with a PMSYN signal immediately after generating the signal of FSRNC could not be outputted.例文帳に追加

FSYNCの信号発生直後のPMSYNC信号に同期した画像データ信号を出力できなかった場合に、抜けてしまった先頭nライン分のデータを自動的に白データとして印刷し、実際のプリンタコントローラからの画像データはn+1ライン目から印刷することができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that satisfies the need for high sensitivity, high resolution, and excellent line edge roughness and is also excellent in dissolution contrast, and provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特にKrFエキシマレーザー光、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足し、また溶解コントラストも良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When the camera movement projection is executed, the arithmetic section can calculate the zoom amount on the basis of a lateral width Sx calculated from the designated screen size S on the basis of the aspect ratio, the projection distance L, and an intersection distance V3x between a center line CLx of the pixel region 12 in the horizontal direction and an image forming region 12b.例文帳に追加

一方、あおり投写を行っている場合は、指定された画面サイズSからアスペクト比に基づいて算出した画面の横幅Sx、投写距離L、及び画素領域12aの水平方向の中心線CLxと画像形成領域12bとの交点間距離V3xからズーム量を算出することができる。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, proper pattern profile and satisfactory line edge roughness, particularly in an electron beam, X-ray or EUV lithography in an ultrafine region, and to provide a pattern formation method that uses the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、X線またはEUV光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、および良好なラインエッジラフネスを同時に満足するパターンを形成可能な感活性光線または感放射線性樹脂組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a high resolution resist material containing an acid forming agent of a polymer which is highly sensitive to high energy rays, especially ArF excimer laser beams, F_2 excimer laser beams, EUV rays, X rays, and EBs with less line edge roughness in high resolution without dissolving in water but has sufficient heat stability and shelf life stability.例文帳に追加

レジスト材料であって、高エネルギー線、特にはArFエキシマレーザー、F_2エキシマレーザー、EUV、X線、EB等に対して高感度、高解像でラインエッジラフネスが小さく水への溶解がなく、かつ十分な熱安定性、保存安定性を有するポリマー型の酸発生剤を含有する高解像性レジスト材料を提供する。 - 特許庁

This method and device for manufacturing the flat bar with the knurled edge from the steel strip 50, is provided with a knurling process for knurling the edge face of the steel strip after a process of forming rectangular cross section in one flat bar manufacturing line.例文帳に追加

鋼帯50からローレットエッジ付きのフラットバーを製造するローレットエッジフラットバー製造方法であって、一つのフラットバー製造ライン中の矩形断面成形工程後に、鋼帯のエッジ面をローレット加工するローレット加工工程を備えたローレットエッジフラットバー製造方法及びその装置に係る。 - 特許庁

Hereby, when the aluminum of low specific resistance as the metal film 106 is used, for example, and a via hole 120 is coupled with a bit line formed of the aluminum metal film 106, the aluminum metal film 106 can be restrained from being damaged without separately forming an additional film only by changing the etching gas.例文帳に追加

それによって、たとえば比抵抗が低いアルミニウムを金属膜106として用い、そのアルミニウム金属膜106によるビットラインにビアホール120を連結する際、エッチングガスを変化させるだけで別途に追加膜を形成せずともアルミニウム金属膜106のエッチング損傷を抑制できる。 - 特許庁

By using this artificial nail, the whole surface of the nail body (100) can be made to shine like a gem such as diamond by a number of the flat surfaces (110) of lozenge configuration and the appearance of the artificial nail can be made more beautiful by forming many square lines like the gem by the linking line (111).例文帳に追加

この付け爪によれば、ネイル本体(100)の上面全体を多数個のひし形形状の平坦面(110)によってダイヤモンド等の宝石のように光り輝かせることができ、しかも連結線(111)によって宝石のような角張った線を多数形成して付け爪の外観を更に美しくすることができる。 - 特許庁

In the photosensitive drum obtained by forming a photosensitive layer by coating on the peripheral surface of a cylindrical substrate comprising an electrically conductive resin composition, the surface roughness of the peripheral surface of the cylindrical substrate is represented by ≤0.2 μm center line average height (Ra) and ≤0.8 μm maximum height (Rmax).例文帳に追加

導電性樹脂組成物からなる円筒状基体の外周面に感光層を塗工形成してなる感光ドラムにおいて、上記円筒状基体の外周面の表面粗さが、中心線平均粗さ(Ra)0.2μm以下で、最高高さ(Rmax)0.8μm以下であることを特徴とする感光ドラムを提供する。 - 特許庁

To provide a resist material having high crosslinking efficiency, very high contrast of alkali dissolution rate before and after exposure, high sensitivity and high resolution, less liable to swell during development, so that pattern collapse and line edge roughness are reduced, and suitable for use as a fine pattern forming material particularly for VLSI manufacture or in photomask pattern formation.例文帳に追加

架橋効率が高く、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が小さいためパターン崩壊やラインエッジラフネスが低減される、特に超LSI製造用あるいはフォトマスクパターン作成における微細パターン形成材料として好適なレジスト材料を提供する。 - 特許庁

Before a minimum exposure time for forming a reproducible hologram is reached, interference exposure using signal line and reference light is completed to form an incomplete hologram and independent exposure wherein the incomplete hologram is irradiated with the reference light is performed after the interference exposure to generate diffracted light, thereby recording information through interference between the reference light and the diffracted light.例文帳に追加

再生可能なホログラムを形成するための最小露光時間に達する前に、信号光及び参照光による干渉露光を完了して、未完ホログラムを形成し、干渉露光後に参照光を未完ホログラムに照射する単独露光を行うことによって回折光を発生させ、参照光及びその回折光の干渉により情報を記録するようにした。 - 特許庁

The apparatus is set so that the tow flows from the first nip roll 11 to the aperture 56 on a horizontal line of the aperture 56, and set the shrinking forces acting on the upper and the lower planes of the tow flowing through the opening device 18 substantially equal to each other by forming a groove 15 on the peripheral face of the second nip roll 12.例文帳に追加

そして、トウTが、第1ニップロール11から開口56まで、この開口56の水平ライン上を流れるようにし、しかも、第2ニップロール12の周面に溝15を形成して、開繊装置18を流れるトウTの上面及び下面に作用する伸縮力が、実質的に等しくなるようする。 - 特許庁

In the method forming an image by a developing simultaneous cleaning or photoreceptor no cleaner method, a dot or a line image formed on the photoreceptor is transferred to the intermediate transfer body by varying transfer bias, measuring the density after transferring, obtaining an inflection point for density variation for the transfer bias and forming the image by determining the transfer bias to a value not exceeding the inflection point when the inflection point exists.例文帳に追加

現像同時クリーニング又は感光体クリーナレス方式により画像を形成する方法において、感光体上に形成されたドットもしくはライン画像を、転写バイアスを変化させて中間転写体に転写し、転写後濃度を測定し、転写バイアスに対する濃度変化の変曲点を求め、変曲点がある場合は前記変曲点を越えない値に転写バイアスを決定して画像形成するようにしたものである。 - 特許庁

Based on predetermined line data, the control circuit generates the punch data including: draw data for drawing predetermined pattern(s) on the workpiece W through formation of a plurality of penetrations H; cut data for cutting along the outline of the pattern(s) ; and auxiliary cut data for forming cut E which helps the user when detaching the outline of the pattern from workpiece W.例文帳に追加

制御回路は、所定の模様のラインデータから、被加工物Wに対し複数の小孔Hにより所定の模様を描画するための描画データと、模様の輪郭に沿って切断するためのカットデータと、被加工物Wから模様の輪郭部分を切離す作業をユーザが容易に行うための切込みEを形成する補助切込データとを含む打刻データを作成する。 - 特許庁

In forming the mask patterns to be used for the ordinary exposure, the sizes of the light shielding patterns (gate electrodes) on a mask for the ordinary exposure superposed on the positions corresponding to the fine patterns on the mask for the high-resolution exposure are changed in the direction of reducing the line width difference after the resolution which occurs according to the crude density of the fine patterns.例文帳に追加

その通常露光に用いるマスクパターンの生成に際し、高解像度露光用マスク上の微細パターンに対応した位置に重ねられる当該通常露光用マスク上の遮光パターン(ゲート電極)のサイズを、微細パターンの疎密性に応じて生じる解像後の線幅格差を縮小する方向に変化させる。 - 特許庁

The image forming apparatus is equipped with a control means enabling the formation of the image on the recording material so that the center point defined with respect to the main scanning direction of the wide paper rides on one center line defined with respect to the image and one side of the image becomes parallel to one side of the recording material.例文帳に追加

本発明の画像形成装置は、前記ワイド紙の主走査方向に関し定義される中心点が前記画像に関し定義される一の中心線上に乗り、かつ当該画像の一辺が前記記録材の一辺に平行となるよう、当該画像を当該記録材に対して形成することを可能とする制御手段を備えている。 - 特許庁

Before the deposited resin R1 on the molding surface 13a of the slush mold 13 is perfectly melted, air (hot air) A1 is ejected on the deposited resin R1 corresponding to the tear line forming scheduled place of an air bag door part to blow off the unmolten thermoplastic powder resin by the jet pressure of the air A1 to form a linear dent 7.例文帳に追加

スラッシュ成形型13の成形面13aの付着樹脂R1が完全に溶融する前に、エアバッグドア部のティアライン形成予定箇所に対応する付着樹脂R1にエア(温風)A1を噴射してその噴射圧で未溶融の熱可塑性粉体樹脂を吹き飛ばして線状の凹み7を形成する。 - 特許庁

This testing method comprises calculating the shape characteristic of the solder paste from the image data of the fillet forming spot by use of the above testing device, and measuring the time required until the shape characteristic is laid in a prescribed stable state from the time of starting the melting of the solder paste or the time of reaching substantially the same temperature as the liquid phase line temperature for the solder paste.例文帳に追加

試験方法は、上記試験装置を用い、フィレット形成個所の画像データよりはんだペーストの形状特性を算出し、はんだペーストが溶融し始めた時点、または前記はんだペーストについての液相線温度と実質的に同一の温度に到達した時点から、前記形状特性が所定の安定状態に至るまでに要する時間を測定する。 - 特許庁

To provide an optical scanning apparatus in which the tilt and curve characteristic of scanning line are detected quickly and accurately, the image quality adjusting time is shortened upon rising and during a mass printing, usability is improved and the consumption of toner is suppressed, and to provide an image forming apparatus using the optical scanning apparatus.例文帳に追加

迅速かつ高精度に走査線の傾き及び湾曲特性を検出することができると共に、立ち上がり時や大量印字時の画質調整時間を短縮することができ、ユーザの使い勝手を向上してトナーの消費をも抑えることが可能な光走査装置及びこれを用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

(6) The term "approach area" as used in this Act means a plain surface defined by two connected points parallel to the shorter side of the landing strip 375 meters (600 meters in the case of a landing strip used for the landing, performed by using an instrument landing apparatus, or performed in accordance with a landing guidance by using precision approach radar, while in the case of a landing strip used for the heliport, the length in which the distance between the shorter side and the straight line multiplied by tangent 15 plus half the length of the shorter side) distant from a point on a straight line crossing at a point 3,000 meters (not more than 2,000 meters as may be specified by Ordinances of the Ministry of Land, Infrastructure, Transport and Tourism in the case of a landing strip of the heliport) distant from that side and forming a rectangle, with the extension to the center-line of the landing strip bisecting this rectangle. 例文帳に追加

6 この法律において「進入区域」とは、着陸帯の短辺の両端及びこれと同じ側における着陸帯の中心線の延長三千メートル(ヘリポートの着陸帯にあつては、二千メートル以下で国土交通省令で定める長さ)の点において中心線と直角をなす一直線上におけるこの点から三百七十五メートル(計器着陸装置を利用して行なう着陸又は精密進入レーダーを用いてする着陸誘導に従つて行なう着陸の用に供する着陸帯にあつては六百メートル、ヘリポートの着陸帯にあつては当該短辺と当該一直線との距離に十五度の角度の正切を乗じた長さに当該短辺の長さの二分の一を加算した長さ)の距離を有する二点を結んで得た平面をいう。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a photoacid generator for preparing a resist composition forming an excellent pattern shape because of excellent resolution, a wide margin of depth of focus (DOF), a small line edge roughness (LER) and further high sensitivity, and to provide a polymerizable monomer for preparing the photoacid generator in the resist composition composed of a resin having an acid unstable group and functioning as a positive resist, the acid generator and a solvent, etc.例文帳に追加

酸不安定性基を有しポジ型レジストとして機能する樹脂、酸発生剤および溶剤などからなるレジスト組成物において、解像度に優れ、焦点深度余裕(DOF)が広く、ラインエッジラフネス(LER)が小さく、さらには感度が高いことから優れたパターン形状を形成できるたレジスト組成物を調製するための光酸発生剤およびそれを調製するための重合性単量体を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for forming a fiber lump fleece composed of cotton, chemical fiber, etc., for the processing of a fiber material delivered from an upstream card feeder with a downstream processing equipment and composed of an opening roller rotatable at a high speed and at least one feeding apparatus comprising a feed roller rotating at a low speed and a dish plate composed of plural individual dish plates rotatable around an axial line.例文帳に追加

高速回転可能な開繊ローラと、該開繊ローラの直ぐ上流側に配置されて、低速回転するフィードローラとディッシュプレートから成る少くとも1つの供給装置を含んで成り、前記ディッシュプレートが軸線を中心として回動可能な複数の個別ディッシュプレートから成り、上流のカードフィーダから取り出される繊維材料を下流の装置で加工するために木綿や化学繊維などから成る繊維塊フリースを形成するための装置の改良。 - 特許庁

The image forming apparatus comprises a diagnosis application 117 for detecting the trouble in a control service or an application by performing communication of the control service or application between processes, and an NCS 128 for transmitting detected software trouble information to a remote central management system 200 for collecting the trouble information from a plurality of image processors connected with a network utilizing a public line.例文帳に追加

画像形成装置において、コントロールサービスまたはアプリケーションのプロセスとの間でプロセス間通信を行うことによってコントロールサービスまたはアプリケーションの障害を検知する診断アプリ117と、検知された障害に関するソフトウェア障害情報を、ネットワークに接続された複数の画像形成装置における障害情報を収集する遠隔集中管理装置200へ公衆回線を利用して送信するNCS128とを備えた。 - 特許庁

At the time of forming the colored layer on the elementary optical fiber by using a coloring die and an ultraviolet ray curing type ink stored in a resin storage part and supplied from a 1st supply port, the colored layer is formed at a parallel land part of the die, and moreover, a line is formed by an ultraviolet curing type ink supplied from a 2nd supply port which reaches the parallel land part.例文帳に追加

紫外線硬化型インク第一供給口から加圧供給して樹脂溜まり部に溜めた紫外線硬化型インクを着色ダイスによって光ファイバ素線上に着色層としてを形成する際に、前記着色層は前記着色ダイスの平行ランド部で形成し、且つ該着色層の上にラインを前記平行ランド部にまで貫通する紫外線硬化型インク第二供給口から加圧供給する紫外線硬化型インクによって形成できるように構成したことにある。 - 特許庁

The method for manufacturing a halftone phase shift mask includes steps of forming the MoSi halftone phase shift film having a film thickness giving the phase difference of135° on the quartz glass substrate by reactive sputtering and etching the quartz glass substrate using a chromium film as a mask by dry etching by magnetic neutral line discharge plasma with addition of a gas having an effect of protecting a side wall to the process gas.例文帳に追加

また、本発明によるハーフトーン型位相シフトマスクの製造法は、石英ガラス基板上に、反応性スパッタリング法によりMoSi系のハーフトーン位相シフト膜を位相差が135°以下となるような膜厚に成膜し、続いてクロム膜をマスクとして、磁気中性線放電プラズマによるドライエッチングによりプロセスガスに側壁保護効果をもつガスを添加して、石英ガラス基板をエッチング処理することから成る。 - 特許庁

Subsequently, a semiconductor region is formed using a part of the crystalline semiconductor film, a source electrode and a drain electrode touching the semiconductor region electrically are formed, and a gate interconnect line connected with the gate electrode is formed, thus forming the inverse stagger TFT.例文帳に追加

本発明は、耐熱性の高い材料でゲート電極を形成した後、非晶質半導体膜の結晶化を促進する触媒金属層、非晶質半導体膜、及びドナー型元素又は希ガス元素を有する層を形成し加熱して、非晶質半導体膜を結晶化すると共に触媒元素を結晶性半導体膜から除いた後、該結晶性半導体膜の一部を用いて半導体領域を形成し、該半導体領域に電気的に接するソース電極及びドレイン電極を形成し、ゲート電極に接続するゲート配線を形成して、逆スタガ型TFTを形成する。 - 特許庁

Subsequently, a semiconductor region is formed using a part of the crystalline semiconductor film, a source electrode and a drain electrode touching the semiconductor region electrically are formed, and a gate interconnect line connected with the gate electrode is formed, thus forming the inverse stagger TFT.例文帳に追加

本発明は、耐熱性の高い材料でゲート電極を形成した後、非晶質半導体膜の結晶化を促進する触媒元素を有する層、非晶質半導体膜、及びドナー型元素又は希ガス元素を有する層を形成し加熱して、非晶質半導体膜を結晶化すると共に触媒元素を結晶性半導体膜から除いた後、該結晶性半導体膜の一部を用いて半導体領域を形成し、該半導体領域に電気的に接するソース電極及びドレイン電極を形成し、ゲート電極に接続するゲート配線を形成して、逆スタガ型TFTを形成する。 - 特許庁

This dynamic damper 100 has a casing 110 connected to a crankshaft 200 rotatably arranged around the rotational center line O, a storage chamber regulating member 130 arranged in the casing 110 so as to be relatively rotatable to the casing 110 and forming a pendulum storage chamber 131 inside, and a pendulum 132 stored in the pendulum storage chamber 131 and rollable on an inner peripheral surface of the pendulum storage chamber 131.例文帳に追加

ダイナミックダンパ100は、回転中心線Oを中心に回転可能に設けられたクランクシャフト200に連結されたケーシング110と、ケーシング110に対して相対的に回転可能にケーシング110に設けらると共に、内部に振子収容室131が形成された収容室規定部材130と、振子収容室131内に収容され、振子収容室131の内周面を転動可能な振子132と備える。 - 特許庁

The production line for manufacturing semi-finished products of a flexible polymer organic EL display is provided with a first coating unit for obtaining an adhesive layer processed film by forming an adhesive layer through coating of an adhesive on a printed film, and a bonding unit for obtaining a bonded film by bonding special processed films with insulating layers formed while automatically registering them.例文帳に追加

フレキシブル高分子有機ELディスプレイの中間製品を製造するための製造ラインであって、印刷済フィルムに接着剤を塗工して接着層を形成し接着層加工済フィルムを得る第1塗工ユニットと、前記接着加工済フィルムとすくなくともバリア層、透明または半透明電極、絶縁層を形成した特殊加工済フィルムを自動見当合わせしながら貼り合せ貼合済フィルムを得る貼合ユニットとを具備するようにした製造ライン。 - 特許庁

When a process to make a circulation of forming a plurality of transmission ultrasonic beams progressing along a plurality of transmission scanning lines is defined as one frame, a beam former part obtains scan line signals to represent reception ultrasonic beams along alternately or cyclically different reception scan lines with respect to consecutive different frames extended into the ultrasonic beams as regards ultrasonic beams progressing along identical transmission scan lines in consecutive different frames.例文帳に追加

ビームフォーマ部が、複数本の送信走査線に沿って進む複数本の送信超音波ビームの形成を一巡する過程を1フレームとしたとき、順次異なるフレームにおける同一の送信走査線に沿って進む超音波ビームに関し、その超音波ビーム内に延出する、順次異なるフレームについて交互にもしくは循環的に異なる受信走査線に沿う受信超音波ビームをあらわす走査線信号を得る。 - 特許庁

The imaging apparatus comprises a section 103 for developing inputted image data into bit data, and means 104 for forming an image on a recording medium based on the bit data wherein a signal for initialization the image developing section 103 and a test start signal for performing test operation of the imaging means are delivered to the image developing section 103 and the imaging means 104 through a signal line S1.例文帳に追加

入力された画像データをビットデータに展開する画像展開部103と、そのビットデータに基づいて記録媒体に画像形成を行う画像形成手段104とを備え、画像展開部103の初期化を行うための初期化信号と、前記画像形成手段の試験動作を行うためのテスト開始信号とを共用の信号線S1を通してそれぞれ画像展開部103と画像形成手段104に送出する。 - 特許庁

By repeating a process for forming the relief image to each line by irradiating the photosensitive resin with active beams optically modulated based on the digital image signal while moving a digital exposing device having a plurality of optical switch cells linearly on the photosensitive resin layer applied on a supporting body with a fixed thickness.例文帳に追加

支持体上に一定厚みに塗布された感光性樹脂層上を、ライン状に複数の光スイッチセルを有するディジタル露光デバイスを移動させながら、ディジタル画像信号に基づいて光変調させた活性光線を照射してライン毎にレリーフ画像を形成させる行程を繰り返すことにより、塗布された感光性樹脂全面にディジタル画像記録信号に応じたレリーフ画像を形成する装置と方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a system for assisting the regeneration of depollution means (4) associated with oxidation catalyst forming means (3) integrated in an exhaust line (2) of a motor vehicle diesel engine (1) associated with common manifold means (5) for feeding fuel to its cylinders, the system being adapted to implement, at constant torque, a strategy of regeneration by injecting fuel into the cylinders of the engine in at least one post-injection.例文帳に追加

自動車用ディーゼルエンジン(1)の排気ライン(2)と一体化した酸化触媒形成手段(3)と関連した汚染除去手段(4)の再生を補助するためのシステムであって、エンジン(1)は、燃料をシリンダに共通するための共通マニホールド手段(5)と関連しており、システムは、一定のトルクで、少なくとも一つの後噴射で燃料をエンジンのシリンダに噴射することによって再生戦略を実施するようになっているシステムを提供する。 - 特許庁

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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
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