linewidthsを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 5件
To set the temperature of a heating plate so that the linewidths of an etching pattern are formed uniformly in a wafer surface.例文帳に追加
エッチングパターンの線幅がウェハ面内で均一に形成されるように、熱板の温度設定を行う。 - 特許庁
First, the linewidths of an etching pattern of a wafer is measured, the wafer having been subjected to a photolithography process and then to an etching process.例文帳に追加
先ず、フォトリソグラフィー処理が終了し、その後エッチング処理が終了したウェハのエッチングパターンの線幅を測定する。 - 特許庁
First, the linewidths of an etching pattern in the wafer surface of a wafer is measured, the wafer having been subjected to a photolithography process and then to an etching process.例文帳に追加
先ず、フォトリソグラフィー処理が終了し、その後エッチング処理が終了したウェハのエッチングパターンのウェハ面内の線幅を測定する。 - 特許庁
A coefficient which is set individually for the linewidths is stored in a coefficient storing part 113, and a linewidth compensation coefficient multiplying part 111 acquires compensating coefficients, corresponding to the linewidth, regarding edge and detected pixel detected, and performs multiplication to thereby correct the line width.例文帳に追加
係数記憶部113には、線幅に対して個別に設定された係数が記憶され、線幅補正係数乗算部111は、エッジと検出された画素について、検出された線幅に対応した補正係数を取得し、乗算することで、その線幅を補正する。 - 特許庁
To provide an ink composition for imprint lithography and roll printing, wherein a polymer resin and additive both endurable even at a high temperature are used to raise pattern precision while constantly maintaining pattern linewidths and line intervals and a method for fabricating a liquid crystal display device (LCD) using the same.例文帳に追加
高温にも耐えられる高分子樹脂及び添加剤を使用することによりパターンの線幅及び線間隔を一定に維持する一方、パターンの精度を高めた、インプリントリソグラフィ及びロールプリント工程用インク組成物、並びにこれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
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