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semianglesを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
To provide an electron beam exposure control method and system for use in a low-acceleration electron beam lithography system using electrostatic lenses, wherein shot beam shapes are drawn as varied as desired, drawing beam currents and convergence semiangles on the specimen surface are selected at the shot level, and an electrooptical system is provided for reducing resolution degradation due to the space charge effect.例文帳に追加
静電レンズを使用した低加速電子ビーム描画装置において、ショットビーム形状が任意に変えられる可変成形ビーム描画の機能と、描画時のビーム電流と試料面収束半角をショットレベルで選択できる機能と、空間電荷効果による解像性低下の影響を低減できる電子光学系を具えた電子ビーム露光制御方法とその装置を提供すること。 - 特許庁
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