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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > sputteringの意味・解説 > sputteringに関連した英語例文

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sputteringを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 6532



例文

SPUTTERING TARGET FOR FORMING ALUMINUM-ALLOY FILM例文帳に追加

アルミニウム合金膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

SINTERING FURNACE FOR SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION OF ITO SPUTTERING TARGET USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングタ—ゲット用焼結炉およびそれを用いたITOスパッタリングタ—ゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, WIRING FILM, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

スパッタリングターゲット、配線膜および電子部品 - 特許庁

ITO SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

ITOスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁

例文

SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD, AND DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

スパッタリング装置及びスパッタリング方法、プラズマディスプレイパネルの製造装置及び製造方法 - 特許庁


例文

Ni-Mo BASED ALLOY SPUTTERING TARGET PLATE例文帳に追加

Ni−Mo系合金スパッタリングターゲット板 - 特許庁

ELASTOMER BONDING OF LARGE AREA SPUTTERING TARGET例文帳に追加

大面積スパッタリングターゲットのエラストマー接着 - 特許庁

FERROMAGNETIC SPUTTERING TARGET, MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

強磁性体スパッタリングターゲット、マグネトロンスパッタリング装置、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING TUNGSTEN TARGET FOR SPUTTERING例文帳に追加

スパッタリング用タングステンターゲットの製造方法 - 特許庁

例文

Ir SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING Ir SPUTTERING TARGET例文帳に追加

薄膜形成用Irスパッタリングターゲット材およびIrスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

例文

Cr-Mn ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Cr−Mn合金スパッタリング用ターゲット材 - 特許庁

HIGH PURITY SR(X)BI(Y)TA(2)O(5+X+3Y/2) SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

高純度SrxBiyTa2O5+x+3y/2スパッタリングターゲット材 - 特許庁

REACTIVE SPUTTERING METHOD AND OPTICAL MEMBER例文帳に追加

反応性スパッタリング方法及び光学部材 - 特許庁

SPUTTERING DEVICE AND FORMATION OF THIN FILM例文帳に追加

スパッタリング装置および薄膜形成方法 - 特許庁

COOLED BACKING PLATE FOR SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING TARGET COMPRISING A PLURALITY OF BACKING PLATES例文帳に追加

スパッタターゲットのための冷却されたバックプレートおよび複数のバックプレートから成るスパッタターゲット - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM AND OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

スパッタ装置及び光情報記録媒体 - 特許庁

This RF sputtering device is a device for applying RF sputtering to a wafer 21.例文帳に追加

本発明に係るRFスパッタ装置は、ウエハ21にRFスパッタ処理を行う装置である。 - 特許庁

To provide a sputtering target capable of suppressing the occurrence of abnormal discharge even if an IGZO sputtering target is used in DC sputtering.例文帳に追加

IGZOスパッタリングターゲットをDCスパッタリングで使用しても、異常放電の発生を抑制できるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

SPUTTERING FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加

スパッタリング成膜装置及び成膜方法 - 特許庁

FORMING METHOD OF FORMED BODY FOR SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリングターゲット用成型体の成型方法 - 特許庁

Respective layers are formed by a sputtering method.例文帳に追加

各めっき層ともスパッタリング法で形成する。 - 特許庁

FACING TARGET TYPE SPUTTERING APPARATUS FOR THIN FILM COMPOSITE MEMBRANE例文帳に追加

複層膜用対向ターゲット式スパッタ装置 - 特許庁

Nb SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

Nbスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL DISK PROTECTIVE FILM例文帳に追加

光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL DISK RECORDING FILM例文帳に追加

光ディスク記録膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

BACKING PLATE, TARGET DEVICE, AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

バッキングプレート、ターゲット装置及びスパッタリング装置 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL DISK AND SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

光ディスクの製造方法及びスパッタ装置 - 特許庁

OPTICAL DISK-SUPPLYING DEVICE TO SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

スパッターリング装置への光ディスク供給装置 - 特許庁

SPUTTERING SOURCE, FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加

スパッタ源、成膜装置及び成膜方法 - 特許庁

MAGNETIC CONTROL SPUTTERING TARGET STRUCTURE AND EQUIPMENT例文帳に追加

磁気制御スパッタリング・ターゲット構造及び設備 - 特許庁

EXTERNAL CATHODE ELECTRODE MOUNTED TYPE SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

エクスターナル・カソード電極搭載型スパッタ装置 - 特許庁

OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

光情報記録媒体及びスパッタリングターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

スパッタリングターゲット及び光情報記録媒体 - 特許庁

SPUTTERING TARGET OF ZnO AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

ZnOスパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁

ITO SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

ITO焼結体及びスパッタリングターゲット材 - 特許庁

SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

スパッタ成膜方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁

The sputtering apparatus includes the target structure.例文帳に追加

当該ターゲット構造を有するスパッタリング装置。 - 特許庁

ROTATING MAGNET, AND INLINE TYPE SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

回転磁石およびインライン型スパッタリング装置 - 特許庁

THIN FILM MANUFACTURING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

薄膜の製造方法およびスパッタリング装置 - 特許庁

VACUUM SPUTTERING APPARATUS AND VAPOR DEPOSITION METHOD THEREFOR例文帳に追加

真空スパッタリング装置とその蒸着方法 - 特許庁

FLAT DISPLAY PANEL AND Cu-SPUTTERING TARGET例文帳に追加

平面表示パネル及びCuスパッタリングターゲット - 特許庁

Ta SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

Taスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR USE IN FORMING TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM例文帳に追加

透明導電膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

POWER COUPLER FOR HIGH-POWER SPUTTERING例文帳に追加

高電力スパッタリングのための電力結合器 - 特許庁

SPUTTERING DEVICE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM PRODUCTION例文帳に追加

情報記録媒体生産用のスパッタ装置 - 特許庁

TANTALUM SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加

タンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

FILM-FORMING METHOD BY GAS-FLOW SPUTTERING AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

ガスフロースパッタリング成膜方法及び装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL DISK, AND SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

光ディスクの製造方法及びスパッタ装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING PROTECTIVE FILM例文帳に追加

光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

例文

OXIDE SINTERED COMPACT SPUTTERING TARGET ASSEMBLY例文帳に追加

酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体 - 特許庁




  
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