sputteringを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 6532件
FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加
成膜方法およびスパッタリング装置 - 特許庁
SPUTTERING METHOD AND FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
スパッタリング方法及び成膜装置 - 特許庁
AC POWER SUPPLY FOR SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加
スパッタリング装置用の交流電源 - 特許庁
Ti-Al ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加
Ti−Al合金スパッタリングターゲット - 特許庁
POSITIONING DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加
位置調整装置およびスパッタ装置 - 特許庁
OXIDE SINTERED COMPACT SPUTTERING TARGET例文帳に追加
酸化物焼結体スパッタリングターゲット - 特許庁
SPUTTERING TARGET MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING ALUMINUM MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND ALUMINUM MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加
スパッタリングターゲット材、スパッタリングターゲット材用アルミニウム材の製造方法及びスパッタリングターゲット材用アルミニウム材 - 特許庁
To provide a self-sputtering method capable of stable shift to self- sputtering.例文帳に追加
セルフスパッタリングへ安定して移行可能なセルフスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁
SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置および成膜方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING SPUTTERING FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加
スパッタリング成膜方法、電子デバイスの製造方法及びスパッタリング装置 - 特許庁
SPUTTERING TARGET AND BACKING PLATE MATERIAL例文帳に追加
スパッタリングターゲットおよびバッキングプレート材 - 特許庁
SPUTTERING METHOD, SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR例文帳に追加
スパッタリング方法、スパッタリング装置及び電子写真感光体の製造方法 - 特許庁
SPUTTERING SYSTEM AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置および成膜方法 - 特許庁
To provide a sputtering target having excellent target strength, and a high sputtering rate.例文帳に追加
ターゲット強度に優れ、スパッタ速度が速いスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁
SPUTTERING TARGET MATERIAL OF GLASSY CARBON例文帳に追加
ガラス状炭素製スパッタリングターゲット材 - 特許庁
SPUTTERING APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置および成膜方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET SUPERIOR IN SPUTTERING CRACK RESISTANCE FOR FORMING PHASE-CHANGE MEMORY FILM例文帳に追加
耐スパッタ割れ性に優れた相変化型メモリー膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁
SOLDER ALLOY FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING TARGET USING THE SAME例文帳に追加
スパッタリングターゲット製造用はんだ合金およびこれを用いたスパッタリングターゲット - 特許庁
To provide a sputtering apparatus capable of constantly controlling the film deposition rate without controlling the sputtering power, the sputtering gas partial pressure, the sputtering gas flow rate or the like.例文帳に追加
スパッタ電力、スパッタガス分圧、スパッタガス流量等の制御を行うことなく成膜速度を一定に制御することを可能にしたスパッタ装置を提供する。 - 特許庁
SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTIVE FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM WHICH ENABLES HIGH-SPEED SPUTTERING例文帳に追加
高速スパッタリングが可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁
SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置、および成膜方法 - 特許庁
To provide a high-quality titanium target for sputtering, generating no crack or break even in high-power sputtering (high-speed sputtering), and capable of stabilizing the sputtering characteristics.例文帳に追加
ハイパワースパッタリング(高速スパッタリング)時においても亀裂や割れの発生がなく、スパッタリング特性を安定させ、高品質のスパッタリング用チタンターゲットを提供する。 - 特許庁
ALUMINA SPUTTERING TARGET, ITS PRODUCTION AND HIGH- FREQUENCY SPUTTERING DEVICE例文帳に追加
アルミナ・スパッタリング・ターゲット及びその製造方法並びに高周波スパッタリング装置 - 特許庁
ALUMINUM ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加
アルミニウム合金スパッタリングタ—ゲット材料 - 特許庁
SOLDER ALLOY FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING TARGET USING THE SAME例文帳に追加
スパッタリングターゲット製造用はんだ合金、およびこれを用いたスパッタリングターゲット - 特許庁
SPUTTERING TARGET AND FILM-FORMING METHOD例文帳に追加
スパッタリングターゲットおよび成膜方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁
SPUTTERING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD例文帳に追加
スパッタリング装置及び膜形成方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET HAVING HIGH MELTING POINT PHASE例文帳に追加
高融点相を有するスパッタターゲット - 特許庁
SUPERFINE CRYSTAL GRAIN COPPER SPUTTERING TARGET例文帳に追加
超微細結晶粒銅スパッターターゲット - 特許庁
MOLYBDENUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
モリブデン板材及びその製造方法 - 特許庁
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