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「sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > sputteringの意味・解説 > sputteringに関連した英語例文

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sputteringを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 6531



例文

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, SPUTTERING APPARATUS USING IT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法これを用いたスパッタ装置、半導体装置 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS, TRAP FOR SPUTTERING, FILM-FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE APPARATUS例文帳に追加

スパッタリング装置、スパッタリング用トラップ、成膜方法および有機電界発光装置の製造方法 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD, SPUTTERING SYSTEM, SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT APPARATUS例文帳に追加

成膜方法、スパッタリング装置、スパッタリングターゲットおよび有機電界発光装置の製造方法 - 特許庁

BACKING PLATE FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

マグネトロンスパッタ装置用バッキングプレートおよびマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁

例文

PLANER MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND PLANER MAGNETRON SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加

プレーナマグネトロンスパッタ装置およびプレーナマグネトロンスパッタ成膜方法 - 特許庁


例文

SINTERED COMPACT FOR SPUTTERING TARGET MATERIAL, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリングのターゲット材用焼結体、その製造方法、及びスパッタリング用ターゲット - 特許庁

A transparent conductive film is manufactured by performing sputtering using the manufactured sputtering target.例文帳に追加

作製したスパッタリングターゲットを用いてスパッタリングを実施して、透明導電膜を作製する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING METHOD USING THE TARGET例文帳に追加

スパッタリング用のターゲット及びこのターゲットを用いたスパッタリング方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS, SPUTTERING METHOD AND PROGRAM FOR MAKING COMPUTER PERFORM THE METHOD例文帳に追加

スパッタリング装置、スパッタリング方法及びこの方法をコンピュータに実行させるためのプログラム - 特許庁

例文

BACKING PLATE USED IN SPUTTERING APPARATUS, AND SPUTTERING METHOD例文帳に追加

スパッタリング装置に用いられるバッキングプレートおよびスパッタリング方法 - 特許庁

例文

The sputtering face 2a of the target 2 for sputtering is provided with a raised region.例文帳に追加

また、スパッタリング用ターゲット2のスパッタ面2aには、盛り上げられた領域を備えている。 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS, DOUBLE ROTARY SHUTTER UNIT, AND SPUTTERING METHOD例文帳に追加

スパッタリング装置及び二重回転シャッタユニット並びにスパッタリング方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET SUPERIOR IN SPUTTERING CRACK RESISTANCE FOR FORMING PHASE-CHANGE MEMORY FILM例文帳に追加

耐スパッタ割れ性に優れた相変化型メモリー膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

PHASE CHANGE TYPE OPTICAL RECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET, AND SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

相変化型光記録媒体、スパッタリングターゲット及びスパッタリング装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTIVE FILM HAVING HIGH STRENGTH AND FREE FROM CRACKING DURING SPUTTERING例文帳に追加

高強度を有しかつスパッタ割れのない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

MANUFACTURE OF COPPER SPUTTERING TARGET, AND ASSEMBLY OF COPPER SPUTTERING TARGET AND BACKING PLATE例文帳に追加

銅スパッタ・ターゲットの製造方法および銅スパッタ・ターゲットと裏当て板の組立体 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, JOINT TYPE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット、並びに接合型スパッタリングターゲット及びその作製方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND RECORDING MATERIAL OF HARD DISK FORMED FROM THE SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタターゲットおよびスパッタターゲットから形成されるハードディスクの記録材 - 特許庁

To realize an economical structure even in a sputtering apparatus equipped with a plurality of sputtering vaporization sources.例文帳に追加

複数のスパッタ蒸発源を備えるスパッタ装置においても経済的な構成とする。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING SPUTTERING FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

スパッタリング成膜方法、電子デバイスの製造方法及びスパッタリング装置 - 特許庁

ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM, SPUTTERING TARGET USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET例文帳に追加

導電性フィルム、これを用いたスパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, SPUTTERING DEVICE AND LIQUID-SPOUTING HEAD例文帳に追加

スパッタリングターゲットとその製造方法及びスパッタリング装置並びに液体噴射ヘッド - 特許庁

To provide a sputtering target having excellent target strength, and a high sputtering rate.例文帳に追加

ターゲット強度に優れ、スパッタ速度が速いスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target that hardly causes arcing during sputtering.例文帳に追加

スパッタリング時のアーキングが生じ難いスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus capable of catching sputtering particles flying around a target.例文帳に追加

ターゲットの周囲に飛行するスパッタリング粒子が捕獲されるスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering system configured to achieve uniform sputtering and deposition.例文帳に追加

均一なスパッタリング及び蒸着効果を得ることができるスパッタリングシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target suppressing the generation of nodules during sputtering.例文帳に追加

スパッタ時のノジュールの発生を抑制できるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR DEPOSITING OPTICAL RECORDING PROTECTIVE FILM CAPABLE OF DIRECT CURRENT SPUTTERING例文帳に追加

直流スパッタリング可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

SPLIT TARGET DEVICE FOR SPUTTERING AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング用分割ターゲット装置及びそれを利用したスパッタリング方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL, MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND PRODUCTION METHOD OF SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

スパッタターゲット材料、磁気記録媒体及びスパッタターゲット材料の製造方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD OF THIN FILM DEPOSITION BY MAGNETRON SPUTTERING例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置およびマグネトロンスパッタリングによる薄膜形成方法 - 特許庁

To provide an apparatus for sputtering provided with a plurality of sputtering targets.例文帳に追加

複数のスパッタリングターゲットを備えたスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMATION OF PROTECTIVE FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM HAVING HIGH STRENGTH AND FREE FROM CRACK BY SPUTTERING例文帳に追加

高強度を有しかつスパッタ割れのない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTIVE FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM WHICH ENABLES HIGH-SPEED SPUTTERING例文帳に追加

高速スパッタリングが可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

To provide an Ag-based alloy sputtering target with which pre-sputtering time is shortened.例文帳に追加

プリスパッタ時間の短縮されたAg基合金スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR DEPOSIT OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTIVE FILM FREE FROM SPUTTERING CRACK例文帳に追加

スパッタ割れのない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

To provide a self-sputtering method capable of stable shift to self- sputtering.例文帳に追加

セルフスパッタリングへ安定して移行可能なセルフスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTIVE FILM OF OPTICAL RECORDING MEDIUM FREE FROM SPUTTERING CRACK例文帳に追加

スパッタ割れのない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING PROTECTIVE FILM CAPABLE OF DIRECT CURRENT SPUTTERING例文帳に追加

直流スパッタリング可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

To provide an ECR sputtering system enhanced in sputtering efficiency and high in film deposition rate.例文帳に追加

スパッタ効率を高め、成膜レートが大きいECRスパッタリング装置を提供すること。 - 特許庁

SPUTTERING METHOD, SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR例文帳に追加

スパッタリング方法、スパッタリング装置及び電子写真感光体の製造方法 - 特許庁

STANDARD SAMPLE FOR SPUTTERING RATE CORRECTION, AND METHOD OF CALCULATING SPUTTERING RATE RATIO BY USING THE SAME例文帳に追加

スパッタ率補正用標準試料およびその試料を用いたスパッタ率比の算出方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTIVE FILM FREE FROM SPUTTERING CRACK例文帳に追加

スパッタ割れのない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMATION OF OPTICAL LOGGING PROTECTION FILM CAPABLE OF DC SPUTTERING例文帳に追加

直流スパッタリング可能な光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

To provide a magnetron sputtering system, and to provide a magnetron sputtering method.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置及びそのマグネトロンスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR INSPECTING TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING, AND METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット材料の検査方法及びスパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

SPLIT TARGET DEVICE FOR SPUTTERING AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング用分割ターゲット装置、及びそれを利用したスパッタリング方法 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus and a sputtering method which can efficiently cool a workpiece with a simple constitution.例文帳に追加

簡易な構成で、被処理物を効率良く冷却できるスパッタリング装置及び方法を提供する。 - 特許庁

This RF sputtering device is a device for applying RF sputtering to a wafer 21.例文帳に追加

本発明に係るRFスパッタ装置は、ウエハ21にRFスパッタ処理を行う装置である。 - 特許庁

例文

the noise of something spattering or sputtering explosively 例文帳に追加

何かが破裂してポンポンいったり、パチパチする音 - 日本語WordNet

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