「sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

MAGNET UNIT AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

磁石ユニットおよびマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁

MAGNET UNIT FOR MAGNETRON SPUTTERING例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング用磁石ユニット - 特許庁

AL ALLOY ELECTRODE FILM AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ａｌ合金電極膜およびスパッタリング用ターゲット - 特許庁

SECONDARY ION ANALYZER, AND DEVICE FOR SPUTTERING ION BEAM例文帳に追加

二次イオン分析装置及びイオンビームスパッタ装置 - 特許庁

This oxide is utilized as a sputtering target.例文帳に追加

この酸化物をスパッタリングターゲットとして利用する。 - 特許庁

LAYERED PRODUCT FOR SPUTTERING ALUMINUM-NEODYMIUM ALLOYS例文帳に追加

Ａｌ−Ｎｄ合金スパッタリング用積層体 - 特許庁

Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット - 特許庁

IONIZED METAL PLASMA TECHNOLOGY BY HEAVY GAS SPUTTERING例文帳に追加

重ガススパッタリングによるイオン化金属プラズマ技術 - 特許庁

MoTi ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

ＭｏＴｉ合金スパッタリングターゲット材 - 特許庁

ZnS-SiO2 SPUTTERING TARGET例文帳に追加

ＺｎＳ−ＳｉＯ２スパッタリングターゲット - 特許庁

METHOD OF SPUTTERING CHROMIUM FOR BLACK MATRIX例文帳に追加

ブラックマトリクス用クロムのスパッタリング方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, ELECTRODE FILM, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

スパッタリングターゲット、電極膜、および電子部品 - 特許庁

ION IMPLANTATION METHOD USING SPUTTERING METHOD, AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

スパッタ法を用いたイオン注入法及びその装置 - 特許庁

MAGNET UNIT FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

マグネトロンスパッタ装置用磁石ユニット - 特許庁

LOW OXYGEN CONTENT ALLOY COMPOSITIONS AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

低酸素含有合金及びスパッタリングターゲット - 特許庁

SILVER ALLOY, SPUTTERING TARGET THEREOF AND THIN FILM THEREBY例文帳に追加

銀合金、そのスパッタリングターゲット材及びその薄膜 - 特許庁

CATHODE ELECTRODE DEVICE AND SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

カソード電極装置及びスパッタリング装置 - 特許庁

Ti-W MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置用Ｔｉ−Ｗ材 - 特許庁

Ta MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置用Ｔａ材 - 特許庁

SILVER ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCING METHOD例文帳に追加

銀合金スパッタリングターゲットとその製造方法 - 特許庁

ELASTOMER BONDING OF LARGE AREA SPUTTERING TARGET例文帳に追加

大面積スパッタリングターゲットのエラストマー接着 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING TUNGSTEN TARGET FOR SPUTTERING例文帳に追加

スパッタリング用タングステンターゲットの製造方法 - 特許庁

ITO SINTERED BODY AND ITO SPUTTERING TARGET例文帳に追加

ＩＴＯ焼結体およびＩＴＯスパッタリングターゲット - 特許庁

In-Ga-Zn BASED OXIDE SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ系酸化物スパッタリングターゲット - 特許庁

MAGNETIC CIRCUIT FOR MAGNETRON SPUTTERING例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング用磁気回路 - 特許庁

ALUMINUM ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

アルミニウム合金スパッタリングタ—ゲット材料 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS FOR MANUFACTURING PIEZOELECTRIC ELEMENT FILM例文帳に追加

圧電素子膜製造用スパッタリング装置 - 特許庁

Ni-Mo BASED ALLOY SPUTTERING TARGET PLATE例文帳に追加

Ｎｉ−Ｍｏ系合金スパッタリングターゲット板 - 特許庁

FLUORIDE SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

フッ化物スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

ITO SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ＩＴＯスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPIRAL TUBE AND ITS SPUTTERING METHOD例文帳に追加

スパイラルチューブ及びそのスパッタリング方法 - 特許庁

WIRING, ELECTRODE, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

配線・電極及びスパッタリングターゲット - 特許庁

Cr-Mn ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｃｒ−Ｍｎ合金スパッタリング用ターゲット材 - 特許庁

MAGNETRON CATHODE OF SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

スパッタリング装置のマグネトロンカソード - 特許庁

ELECTRON BEAM WELDING FOR SPUTTERING TARGET TILE例文帳に追加

スパッタリングターゲットタイルの電子ビーム溶接 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ZnS-SiO2 SPUTTERING TARGET例文帳に追加

ＺｎＳ−ＳｉＯ２スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, AND CATHODE THEREFOR例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置及びそのカソード - 特許庁

SILICON MONOXIDE SINTERED COMPACT AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

一酸化珪素焼結体およびスパッタリングターゲット - 特許庁

MAGNETRON CATHODE CAN SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

マグネトロンカソード及びスパッタリング装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AL ALLOY FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

スパッタリングターゲット、Ａｌ合金膜および電子部品 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING ALUMINUM-ALLOY FILM例文帳に追加

アルミニウム合金膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

Ti-Al ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｔｉ−Ａｌ合金スパッタリングターゲット - 特許庁

MOLYBDENUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

モリブデン板材及びその製造方法 - 特許庁

TARGET HOLDER FOR MAGNETRON SPUTTERING例文帳に追加

マグネトロンスパッタ用ターゲットホルダー - 特許庁

TUBULAR CATHODE FOR USE IN SPUTTERING PROCESS例文帳に追加

スパッタリング法に用いる筒状カソード - 特許庁