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vertical double diffusionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5件
VERTICAL DOUBLE DIFFUSION MOS FET AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
縦型二重拡散MOSFETとその製造方法 - 特許庁
To obtain a vertical double diffusion MOS FET which has a stable quality.例文帳に追加
品質の安定した縦型二重拡散MOSFETを得る。 - 特許庁
In the vertical MOS semiconductor device 1, a source region is formed of double diffusion structures 5 and 6 of different impurity concentrations.例文帳に追加
本発明の縦型MOS半導体装置1では、ソース領域を不純物濃度の異なる二重拡散構造5、6により形成する。 - 特許庁
The semiconductor relay employing a vertical double diffusion MOSFET comprises a first epitaxial layer formed on a substrate, a second epitaxial layer formed on the first epitaxial layer with higher density than the first epitaxial layer, a vertical double diffusion MOSFET formed on the first and second epitaxial layers, and a floating field ring formed around the vertical double diffusion MOSFET at the boundary of the first and second epitaxial layers.例文帳に追加
縦型2重拡散MOSFETを用いた半導体リレーにおいて、基板上に形成された第1のエピタキシャル層と、この第1のエピタキシャル層上にさらに形成され第1のエピタキシャル層よりも濃度の高い第2のエピタキシャル層と、第1及び第2のエピタキシャル層上に形成された縦型2重拡散MOSFETと、縦型2重拡散MOSFETの周囲であって第1及び第2のエピタキシャル層の境界部分に形成されたフローティングフィールドリングとを設ける。 - 特許庁
To provide a semiconductor device having a vertical double diffusion MOS transistor in a trench gate structure, and to provide a manufacturing method of the semiconductor device capable of simplifying a manufacturing process.例文帳に追加
製造工程を簡素化することができる、トレンチゲート構造の縦型二重拡散MOSトランジスタを有する半導体装置およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
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