「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 96 97 98 99 100 101 102 103 104 .... 366 367 次へ＞- To provide a filter design method, a filter, a defect inspection method and a defect inspection device that can reduce cost and cycle time for defect inspection and remove only as many moire fringes as possible from an input image without losing a feature value of a defective portion.
欠陥検査に要するコストおよびタクトタイムの低減を図るとともに、欠陥部の特徴量を失うことなく、入力画像からモアレ縞だけを極力除去することが可能なフィルタの設計方法、フィルタ、欠陥検査方法および欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - In the defect management region, a plurality of recording regions including an alternative region are provided as a region in which defect management information is recorded, so that the recording region can be changed according to an update frequency, an error state, and the like of the defect management region.
また、ディフェクトマネージメント領域においては、ディフェクトマネジメント情報を記録する領域として、交替領域を含む複数の記録領域を設けることで、ディフェクトマネジメント領域の更新回数、エラー状況などに応じて記録領域を変化させることができるようにする。 - 特許庁 - To provide a device having a small device scale, allocating surely a defect of an observation object into a visual field of an electron microscope or the like, concerning a device for observing minutely by the electron microscope or the like, a defect detected by an optical defect inspection device or an optical appearance inspection device.
光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。 - 特許庁 - According to the apparatus, since the timing of activating defect detection by the defect detecting means can be arbitrarily selected and set by the user's operation by the setting means in association with the operation of the apparatus, a high-quality image having no defect can be always maintained, and the photographing chance can be prevented from being missed.
これによれば、設定手段によりユーザー操作により欠陥検出手段による欠陥検出を起動するタイミングを装置の動作に関連して任意に選択して設定するので、常に欠陥のない高品質な画像を維持でき、また撮影機会を損ねることがない。 - 特許庁 - In the defect inspection apparatus for determining an inconsistency part as the defect by comparing the image of a pattern formed to be the same pattern, the amount of the characteristics of the image of a region where a plurality of the optical conditions are dealing is plotted to the characteristic space and an aberrant value in the characteristic space is detected as a defect.
同一パターンとなるように形成されたパターンの画像を比較して不一致部を欠陥と判定する欠陥検査装置を複数の光学条件の対応する領域の画像の特徴量を特徴空間にプロットし、特徴空間上のはずれ値を欠陥として検出。 - 特許庁 - Inspection results detected under the plurality of defect detecting conditions are found preliminarily by changing a parameter of the defect detecting condition for detecting the defect based on a Gray level difference between corresponding partial images in the two inspection images, and the optimum inspection result is selected out of the plurality of inspection results.
２つの検査画像の対応する部分画像のグレイレベル差から欠陥を検出するための欠陥検出条件のパラメータを変えて、複数の欠陥検出条件で検出した検出結果を求めておき、これら複数の検査結果のうちから選んで最適な検出結果を得る。 - 特許庁 - In other words, when a defect occurs in the wiring 20 due to stress such as patterning in a wafer process, the defect causes resistance for increasing the value of the resistance of the wiring 20, and the defect in the wiring 20 is easily and highly sensitively detected.
すなわち、ウェハ工程においてパターニング等によるストレスによって欠陥検査用配線２０内に欠陥が発生すると、その欠陥が抵抗となって、欠陥検査用配線２０の抵抗値が増大するため、欠陥検査用配線２０内の欠陥を容易に、かつ、高感度に検出することができる。 - 特許庁 - According to algorithm for discriminating the kind of defect on a wafer, if the size of defect measured with a wafer inspection device containing a plurality of dark field part detectors is smaller than a limit value indicating the maximum size of COPs, the kind of defect is decided as being not particles.
ウェーハ上の欠陥の種類を判別するためのアルゴリズムによれば、複数の暗視野部検出器を含むウェーハ検査装置によって測定されたウェーハ上の欠陥のサイズがＣＯＰの最大サイズを表わす限界値よりも小さければ前記欠陥の種類がパーチクルでないと判定する。 - 特許庁 - Here, when there is a defect location on the metal tape 11, the colored tape 13 is pasted on the insulating film 12 in front of and behind the defective location; and when there is a defect location on the insulating film 12, the colored tape 13 is pasted on the defect location of the insulating film.
ここでは、金属テープ１１に不良箇所がある場合には、不良箇所の前後の絶縁フィルム１２に着色テープ１３が貼り付けられ、絶縁フィルム１２に不良箇所がある場合には、不良箇所の絶縁フィルムフィルムに着色テープ１３が貼り付けられている。 - 特許庁 - To provide an apparatus for marking a defect, which can detect the defect in a long sheet product transferred to the longitudinal direction by using an inspection device, and can place a mark at the detected defect position by using an oil-based marking pen, without causing a decrease in the marking property due to drying of the tip of the pen.
長さ方向に搬送される長尺のシート状製品の欠陥を検査装置により検出し、ペン先の乾燥によるマーキング性の低下を招くことなく、検出された欠陥部分に油性マーキングペンを用いてマーキングを施すことができる欠陥マーキング装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection method discovering early a VA pattern formation defective substrate by detecting a partial VA deficiency of VA having a line width of 5-10 μm, and improving a line production efficiency, and also to provide a defect inspection device to which the defect inspection method is adapted.
線幅５μｍ〜１０μｍのＶＡの、部分ＶＡ欠損を検出することで、ＶＡパターン形成不良基板を早期に発見し、ラインの生産効率を向上させることが可能な欠陥検査方法、および、この欠陥検査方法を適応した欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an optical film or an antireflection film free from point defect and coating unevenness, to provide a polarizing plate which is free from point defect and coating unevenness and is subjected to antireflection treatment, and to provide an image display device which is free from point defect and coating unevenness and is subjected to antireflection treatment.
点欠陥や塗布ムラのない光学フィルムまたは反射防止フィルムの製造法、点欠陥や塗布ムラがなく反射防止処理がなされている偏光板、および点欠陥や塗布ムラがなく反射防止処理がされている画像表示装置を提供すること。 - 特許庁 - Thereupon, the presence or absence of the foreign substance aggregation defect X is inspected by lighting inspection; and if the foreign substance aggregation defect X is detected, vibrations are applied by an oscillator 30 to the foreign substance aggregation defect point, so as to thereby disperse the aggregated granular foreign substances (x).
そこで、点灯検査により異物凝集欠陥Ｘの有無を有無を検査し、異物凝集欠陥Ｘが検出された場合には、加振装置３０により異物凝集欠陥箇所に振動を付与することで、凝集した粒状異物ｘを分散させるようにする。 - 特許庁 - To provide a defect detecting method to reliably detect solely a defect in an inspection object with laminated layers on which information, such as a pattern is printed on a base material without influence of the information, such as the pattern printed on the print layers when detecting the defect.
基材上に絵柄等の情報が印刷された印刷層が積層された検査対象物の欠陥検出に際し、印刷層に印刷された絵柄等の情報の影響を受けずに、欠陥のみを確実に検出することができる欠陥検出方法等を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for correcting a photomask deficiency defect by which an FIB (focused ion beam) correction device can be used as a tool to correct a minute edge deficiency defect portion in a circuit pattern part, the deficiency defect region of the circuit pattern part is subjected to vapor deposition with high accuracy, and the photomask having excellent cleaning durability can be obtained.
回路パターン部の微小なエッジ欠損欠陥部を修正するツールとしてＦＩＢ修正装置を用いることができ、精度良く回路パターン部の欠損欠陥領域に蒸着するとともに、フォトマスクの耐洗浄性に優れたフォトマスク欠損欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - Circumference of an optical disk 101 is divided into a plurality of circumferential sections by a circumferential section dividing signal generating means 110, a defect correcting means 111 decides whether a defect exists for each circumferential section, a control means 150 holds position control of the light spot in a circumferential section having a defect.
周区間分割信号生成手段１１０により光ディスク１０１の１周を複数の周区間に分割し、欠陥有無補正手段１１１は周区間単位で欠陥有無を決定し、欠陥有がある周区間において制御手段１５０は光スポットの位置制御をホールドする。 - 特許庁 - This system is provided with a gap correcting means 103 for correcting a gap portion of a displayed image in the STN liquid crystal display by minimum filter processing, and a defect detecting means 104 for detecting the point defect portion in the STN liquid crystal display to be area-emphasis- processed in the detected point defect portion.
ミニマムフィルタ処理によってＳＴＮ液晶ディスプレイの表示画像のギャップ部分を補正するギャップ補正手段１０３と、ＳＴＮ液晶ディスプレイの点欠陥部分を検出し、検出された点欠陥部分に面積強調処理を施す欠陥検出手段１０４とを設ける。 - 特許庁 - A defect checking screen includes; a map display section 61 for displaying a wafer map; an image display section 62 for displaying a defective image in a listed fashion; a list display section 63 for displaying and setting detailed information of the defect; and a graph display section 64 for carrying out a graphic display about a selected defect item.
欠陥確認画面は、ウェハマップを表示する「マップ表示部」６１、欠陥画像を一覧表示する「画像表示部」６２、欠陥の詳細情報を表示及び設定する「リスト表示部」６３、選択された欠陥項目についてグラフ表示する「グラフ表示部」６４を有する。 - 特許庁 - To provide a defect control system capable of preventing the generation of defect, outflow and expansion by giving a warning and other improving request by judging the corresponding necessity or a preferential degree from the content and generation quantity of defect generated in the whole of an extrusion molded product manufacturing line.
押出成形品生産ライン全体の中で発生した不良の内容と発生量から、対応の必要度や優先度を判定し、警報その他の改善要求を報知することにより、不良の発生・流出・拡大を防止しうる不良管理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a surface treating method of a coating defect article which can perform the repairing work of the coating defect part of the coating defect article uniformly and independently of workers, in a short time, by generating no variation or irregularity and by generating no environmental problems or raising the cost as before.
塗装不良品の塗装欠陥部の補修作業を、従来のような環境問題や高コスト化を引き起こすことなく、作業者によらず均一に、かつ短時間で、バラツキやムラを生ずることなく行うことができる塗装不良品の表面処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect correction method of a color filter which prevents ultraviolet burn at a normal portion upon correction by ultraviolet curing ink for correction for a defect portion of the color filter and that stably hardens a portion where the ink for correction is overlapped with a normal area around the defect portion.
カラーフィルタの欠陥部の紫外線硬化性修正用インクによる修正時における正常な部分の紫外線焼けを防ぐとともに、該欠陥部周辺の正常な領域と該修正用インクの重なり部分も安定的に硬化させるカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - The inspecting device for printed matters has a defect detecting means, which judges the existence of defects and their kinds so as to output a detection signal, and an alarming means for alarming the kind of the defect with a defect specifying sound on the basis of the detection signal.
欠陥の存在とともにその種類を判別して検出信号を出力する欠陥検出手段と、前記検出信号に基づいて前記欠陥の種類を特定する欠陥特定音で警報する警報手段とを有するようにした印刷物検査装置。 - 特許庁 - To provide an optical disk recording system, a recording method and a recording medium which are reused in a file system having no defect control functions, by physically avoiding a defective part even when the defect is present in an optical disk used in a file system having a defect control function.
欠陥管理機能を有するファイルシステムで使用されていた光ディスクに欠陥部分が存在しても、物理的に欠陥部分となった部分を回避するようにして、欠陥管理機能を有さないファイルシステムで再使用できる光ディスク記録システム、記録方法及び記録媒体を提供する。 - 特許庁 - This allows to change allocation of a worker with reduced defect discovery rate according to the report, and prevents reduction of the defect discovery rate resulting from contiguous tests regarding a same testing item by the worker with reduced defect discovery rate.
したがって報知に基づいて、不具合の発見率が低下した作業者の割当てを変更することが可能であり、作業者が、処理速度が低下しているにもかかわらず、同一試験項目の試験を継続して行い、不具合の発見率が低下してしまうことを防止することができる。 - 特許庁 - In the scanning charged particle microscope designed for semiconductor tests and measurements, the use of an image after image restoration to perform a pattern size measurement, defect detection, and defect classification or the like enables the improvement of the precision of measurement and the rise in the precision of detection and classification of a defect.
さらに、半導体検査および半導体計測用の走査型荷電粒子顕微鏡において、画像復元後の画像を用いてパターン寸法計測、欠陥検出、欠陥分類等に用いることにより、計測精度向上や欠陥検出、欠陥分類の高精度化を可能とした。 - 特許庁 - Thereby, since CMP processing can be executed while viewing the substrate defect 3 in executing the CMP processing, it can be avoided that the board defect can not be removed even if the CMP processing is executed because the board defect is located at a deep position, and the CMP processing is executed up to a part without needing to be removed by taking a lot of time.
これにより、ＣＭＰ加工の際に、基板欠陥３を目視しながら行えるため、基板欠陥が深い位置にあるためにＣＭＰ加工してもそれが取り除けていなかったり、除去する必要がない部分まで時間をかけてＣＭＰ加工を行ったりすることを防止できる。 - 特許庁 - This defect detection apparatus is provided with an image processor 8 that detects a defect by processing an image photographed by the surveillance camera 7, and a marking device 10 that marks the width end of the base paper sheet 2 on the downstream side of a position where the coating liquid is applied, according to a marking command signal from a controller 11 based on a defect detecting signal.
監視カメラ７で撮影した画像を処理して欠陥を検出する画像処理装置８と、欠陥検出信号に基づく制御器１１からのマーキング指令信号により塗工液塗布位置の下流で原紙２の幅端部にマーキングを行うマーキング装置１０を備える。 - 特許庁 - When a defect such as a void 34 and a gap 35 is produced inside the X-ray absorption parts 24, the defect such as the void 34 and the gap 35 is eliminated by melting the X-ray absorption parts 24 and a recess 24a produced by the defect elimination is re-filled with the X-ray absorber.
Ｘ線吸収部２４内にボイド３４やシム３５等の欠陥が生じている場合には、Ｘ線吸収部２４を溶融してボイド３４やシム３５等の欠陥を修復し、欠陥修復により生じた凹部２４ａ内にＸ線吸収材を補充する。 - 特許庁 - The method avoids only the defect portion to execute alternatively a corrected module by using a part of a flash memory to store the module in which the defect of the program is corrected to an arbitrary address when the defect occurs in the control program stored in a mask ROM in a CPU.
ＣＰＵ内のマスクＲＯＭに格納される制御プログラムに不具合が発生した場合、フラッシュメモリの一部を使用して、制御プログラムの不具合を修正したモジュールを任意のアドレスへ格納することで、不具合部分のみを回避して代わりに修正モジュールを実行する。 - 特許庁 - Similarly in correcting a black defect, an etching source material in a liquid state is supplied from the probe of a scanning probe microscope onto only the black defect region by a similar method to Dip-Pen Nanolithography, and an ion beam or an electron beam is supplied to etch to correct the black defect.
黒欠陥修正の場合も同様に、走査プローブ顕微鏡の探針から液体状のエッチング原料をＤｉｐ−Ｐｅｎ Ｎａｎｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙと同様な方法で黒欠陥領域上のみに供給し、イオンビームや電子ビームを供給してエッチングを行い黒欠陥を修正する。 - 特許庁 - To correctly and easily detect not only presence of a defect on a surface parallel to the inside and outside surfaces of a face part of a panel but also presence of an inside defect in the thickness direction of the face part to avoid complication of relief work for the defect due to incapability of three-dimensionally detecting the presence of the inside defect, and unreasonable disposal of the panel or a bulb.
パネルのフェース部における内外表面と平行な面上の欠点の存在状況のみならず、該フェース部の厚み方向に対する内部欠点の存在状況をも正確且つ容易に検出可能とし、内部欠点の存在を三次元的に知得できないことによる欠点対策作業の繁雑化やパネル或いはバルブの不当な廃棄を回避する。 - 特許庁 - To provide a method of marking the defect of an optical film in which a position of the defect is easily specified by marking the defect of the optical film and even if the marking is erroneous recognition, the marking itself does not cause defect and it is prevented that the marked optical film has adverse effect upon a final product.
光学フィルムの欠陥をマークするマーキングによって、欠陥の位置を容易に特定することができるとともに、そのマーキング自体が誤認であった場合においても、そのマーキング自体が欠陥とならず、マーキングされた光学フィルムが最終製品の品質に悪影響を及ぼすことを回避することができる光学フィルムの欠陥マーキング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To simply and surely correct a defect of disconnection when a scanning line and a signal line are disconnected.
走査線及び信号線の断線時に、簡潔かつ確実に断線欠陥を修正する。 - 特許庁 - To provide a method of repairing a thin film transistor array panel capable of easily repairing a pixel defect.
画素不良を容易に修理できる薄膜トランジスタ表示板の修理方法を提供する。 - 特許庁 - TREATING AGENT FOR DECREASING CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST PATTERN DEFECT AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
化学増幅型レジストパターンディフェクト低減用処理剤及びそれを用いるレジストパターン形成方法 - 特許庁 - To decrease man-hours in manufacturing and to prevent the connection defect by the corrosion of electrode wiring.
製造における工数削減を図り、電極配線の腐食による接続不良を防止する。 - 特許庁 - To obtain a good radioactive ray image even in the case of occurrence of Image defect in the image data.
画像データに画像欠陥を生じた場合であっても良好な放射線画像を得る。 - 特許庁 - Crystal defect in the surface of substrate 2S is higher in the vicinity of the silicide film than on the periphery thereof.
当該シリサイド膜付近の基板表面２Ｓ内の結晶欠陥密度は周辺よりも高い。 - 特許庁 - IMAGE PROCESSING DEVICE AND METHOD FOR SUPPORTING PARAMETER CONCERNING DETECTION OF DEFECT ON IMAGE
画像処理装置および画像上の欠陥検出に係るパラメータの設定を支援する方法 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR INSPECTING FILM SURFACE DEFECT AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FILM
フィルム表面欠陥検査装置、フィルム表面欠陥検査方法及び光学フィルムの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR DETECTING DEFECTS OF WELDING GUN FOR CAPACITOR DISCHARGE TYPE STUD WELDING AND DEFECT DETECTION DEVICE
コンデンサ放電型スタッド溶接用溶接ガンの良否判定方法及び良否判定装置 - 特許庁 - SUBSTRATE FOR DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE EQUIPPED WITH THE SAME, AND DEFECT REPAIRING METHOD THEREFOR
表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置及びその欠陥修復方法 - 特許庁 - To provide an apparatus which determines a defect position of a panel with high precision.
本発明の目的は、パネルの欠陥位置を精度良く特定する装置を提供することにある。 - 特許庁 - To enable easier judgment of the position of a defect of an image while obtaining a better radiation image.
良好な放射線画像を得ると共に画像欠陥の位置を容易に判別可能とする。 - 特許庁 - Therefore, defect detection is facilitated regardless of inclusion of the scan line driving circuit of CC driving.
よって、ＣＣ駆動を行う走査線駆動回路を含んでいても欠陥検出が容易となる。 - 特許庁 - To provide a defect-inspecting method for surely inspecting defects on the surface of an inspected object.
被検査物の表面における欠陥を、より確実に検査する欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - To precisely detect a defect having a low reflection echo intensity existing in a body to be inspected.
被検査体中に存在する反射エコー強度が弱い欠陥を精度よく検出する。 - 特許庁 - After that, the value is compared with a reference value to determine a defect in the plasma processing system.
次いで、値は、プラズマ処理システムにおける欠陥を決定するために基準値と比較される。 - 特許庁 - To provide a hot rolled steel strip of special steel free from a scale defect pattern and having less surface roughness.
スケール欠陥模様のない、表面粗さの小さい特殊鋼熱延鋼帯を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for producing an SiC single crystal that can constrain a crystal defect.
結晶欠陥をより抑制することが可能なＳｉＣ単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁
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