「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 94 95 96 97 98 99 100 101 102 .... 366 367 次へ＞- Ultrasonic waves are transmitted to and received from a defect or the like 200 by oscillators 8, 9 to thereby detect an end 200a toward the test reference direction F of the defect or the like 200.
欠陥等２００に対し振動子８，９より超音波を送受信することにより、この欠陥等２００の検査基準方向Ｆに対する端部２００ａを検出する。 - 特許庁 - To achieve high speed processing by reducing defect decision time of an object, comprising extraction time of a feature point in an image processing part and the defect decision time by a data processing part.
画像処理部での特徴点の抽出時間とデータ処理部による欠陥判定時間の総和から成る対象物の欠陥判定時間を減少させて高速処理を実現する。 - 特許庁 - The semiconductor being composed of a compound single crystal and containing a region having a surface defect density of 1×10^7/cm^2 or more and a region having the surface defect density of 1/cm^2 or less is used.
化合物単結晶からなり、面欠陥密度が１ｘ１０^7／ｃｍ^2以上である領域及び面欠陥密度が１／ｃｍ^2以下である領域を含む半導体。 - 特許庁 - To provide an X-ray inspection method capable of easily extracting a defect and can detect it in a short time even when the slender defect such as a crack is orthogonal to a fault surface.
クラックなどの細長い欠陥が断層面と直交している場合でも、その欠陥を容易に抽出でき、しかも短時間で検査を行い得るＸ線検査方法を提供する。 - 特許庁 - A test circuit 30 conducts inspection of the redundant memories 11 and 12, and when it determines existence of the defect cell, outputs the relief information S3 for relieving the defect cell.
テスト回路３０は、冗長メモリ１１，１２の検査を行い、不良セルが存在すると判定したとき、当該不良セルを救済するための救済情報Ｓ３を出力する。 - 特許庁 - To provide an inspection system which can, even when there is a luminance point defect at an alignment mark part, detect the bright point defect and a position detection system included in the inspection system.
アライメントマーク部分に輝点欠陥があった場合でも、当該輝点欠陥を検出することができる検査装置および検査装置が備える位置検出装置を提供する。 - 特許庁 - In Fig. (a), a potential difference measuring terminal 112 for a defect in the circumferential direction is installed on a terminal holder 122, and a potential difference measuring terminal 114 for a defect in the axial direction is installed on a terminal holder 124.
（ａ）端子ホルダ１２２に周方向欠陥用電位差測定端子１１２を設置しており，端子ホルダ１２４に軸方向欠陥用電位差測定端子１１４を設置している。 - 特許庁 - When it exceeds the defect determination standard value, the co-processor is determined to have less reliability due to the occurrence of defect such as troubles, and a main processor separates the co-processor from a system.
不良判定基準値を超えている場合には、そのコプロセッサは故障などの不良の発生により信頼性が低いと判断し、メインプロセッサは、本システムからそのコプロセッサを切り離す。 - 特許庁 - The system controller 112 confirms an opening/closing state of the eyepiece shutter prior to the defect detection and when the eyepiece shutter is opened, starts the defect detection after performing driving to close it.
欠陥検出に先立ち、システムコントローラ１１２はアイピースシャッタの開閉状況を確認し、アイピースシャッタが開いている場合にはそれを閉駆動してから欠陥検出を開始する。 - 特許庁 - To provide an information reproducing technology for stably reproducing information even when an optical disk has a defect such as a double refraction defect in which the amount of a reflected light is difficult to change.
複屈折欠陥のような光ディスクに反射光量の変化が生じにくい欠陥がある場合でも、安定したデータ再生が行える情報再生技術を提供すること。 - 特許庁 - When a defect exists in the area to be inspected, the scattered light 7 generated by the defect is collected by means of a Schwarzs child optical system 8 and an enlarged image is formed on a two-dimensional image detector 9.
被検査領域中に欠陥があると、それにより発生する散乱光７を、シュバルツシルト光学系８で捕集し、２次元画像検出器９の上に拡大結像する。 - 特許庁 - To increase the defect detecting accuracy by preventing incorrect detection of a false defect apt to occur when two images are in a high-frequency region, in pattern inspection for comparing a multi-level image.
多値画像を比較するパターン検査において、２枚の画像が高周波領域にある場合に発生しやすい擬似欠陥の誤検出を防止して、欠陥検出精度を高くする。 - 特許庁 - To provide a precise three-dimensional image of a surface defect or an internal defect for an inspecting object in a liquid medium, using ultrasonic waves.
超音波により液体媒質中の検査対象の表面欠陥や内部欠陥の３次元画像を精度良く得ることができる３次元超音波画像化装置を提供することである。 - 特許庁 - In a data analytical mechanism 21 inside an EWS for device analysis, a defect generation part 11 generates in a pseudo manner defect shape data assumed to be generated in the actual semiconductor device.
データ解析用ＥＷＳ内のデータ解析機構２ａにおいて、不良発生部１１は、実際の半導体デバイスに発生すると想定される不良形状データを擬似的に発生する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a liquid crystal display element in which an antireflective film of excellent quality can be formed while a defect (foreign matter) causing a display defect by deteriorating image quality is less generated.
画像品質を劣化させ表示欠陥となるディフェクト（異物）の発生の少ない良好な品質の反射防止膜を形成できる液晶表示素子の製造方法を提供する - 特許庁 - To provide a photomask defect correction method that improves the efficiency of defect inspection and correction processes for a photomask and improve and stabilize the yield in mask production.
フォトマスクにおける欠陥検査及び修正工程の効率化を図り、マスク生産における歩留の向上及び安定を図ることができるフォトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect-correcting technique of high transmittance and satisfactory phase controllability, in order to provide a phase shift mask consisting of ruggedness of glass or quartz with high-quality defect correction.
ガラスまたは石英の凹凸からなる位相シフトマスクに対して高品質な欠陥修正を提供するためには、高い透過率で、位相制御性も良い欠陥修正技術が必要である。 - 特許庁 - By irradiating the defect appearing in the synthesized image M3 with a laser beam, even a minute defect D undetectable through the optical microscope can be corrected with accuracy.
合成画像Ｍ３中に現れた欠陥ＤにレーザビームＬを照射すれば、光学顕微鏡では捉えることができない微細な欠陥Ｄも、高精度に修正することができる。 - 特許庁 - To prevent the communication disconnection defect of a single reel tape drive by disposing a sensing assembly which prevents the operation infeasbility of a tape drive by the communication disconnection defect.
連絡切断不良によってテープドライブの操作が不可能になるのを防止する感知アセンブリを設けることにより、単一リールテープドライブにおける連絡切断不良を防止する。 - 特許庁 - To solve such a problem that even if hydrogen molecule is added to quartz glass for ultraviolet resistance, the addition has only a terminating effect on a structural defect but is incapable of suppressing the formation of structural defect.
耐紫外線性のために水素分子を石英ガラス中に含有させても、構造欠陥をターミネートする効果があるのみで、構造欠陥の生成そのものを抑制することができない。 - 特許庁 - At this time, the layout image and defect image 54 is displayed including not only a layout image of the same layer with the defect image 53, but also layout images of other layers one over another.
このとき、レイアウト画像＆欠陥画像５４には、欠陥画像５３と同じレイヤのレイアウト画像だけでなく、他のレイヤのレイアウト画像が欠陥画像５３に重ね合わせて表示される。 - 特許庁 - The electric inspection process S12 includes a coordinate detection process S13 for detecting a position coordinate of the unit region including the defect, when the defect of the unit region is detected.
電気検査工程Ｓ１２には、単位領域の欠陥が検出された場合に、欠陥を含む単位領域の位置座標を検出する座標検出工程Ｓ１３が含まれる。 - 特許庁 - To precisely detect defects by illumination suitable for detecting the respective defects, as to the defect on a surface of a coating layer and the defect between the coating layer and a molding.
コーティング層の表面の欠陥およびコーティング層と成形体との間の欠陥について、それぞれその欠陥の検出に適した照明を行って、欠陥を精度良く検出する。 - 特許庁 - While the pellicle PE is mounted on the mask substrate 1, a defect 2p consisting of the electron beam-sensitive resist film 2 is removed by irradiating the defect 2p with a laser beam LB.
続いて、マスク基板１にペリクルＰＥを装着した状態で、電子線感応レジスト膜２からなる欠陥２ｐにレーザービームＬＢを照射することで欠陥２ｐを除去する。 - 特許庁 - It is determined by a defect decision means 12 that the defect is in the depth of field when images are taken when luminance of pixels is uneven in the images taken by the photographing means 2.
欠陥判定手段１２は、撮影手段２が撮影した画像中の画素の輝度が不均一である場合、その画像を撮影した時の被写界深度内に欠陥があると判定する。 - 特許庁 - The transcribed surface includes the surface defect, and this method further includes formation of a film on the transcribed surface including the surface defect, and polishing processing relative to the surface of the formed film.
上記被転写面は表面欠陥を含み、該表面欠陥を含む被転写面上に被膜を形成し、かつ形成された被膜表面に研磨処理を施すことを更に含む。 - 特許庁 - To provide high-quality, high-performance single crystal SiC which has high smoothness and forms few micropipe defect, interface defect, etc., by controlling the film thickness of the single crystal SiC at growth.
成長時に単結晶SiCの膜厚を制御することにより、マイクロパイプ欠陥や界面欠陥等の発生が少なく平坦度の高い、高品質、高性能な単結晶SiCを提供する。 - 特許庁 - Then image data of an inspection image obtained by a pattern defect inspecting device with inspection wavelength is compared and contrasted with the data for phase shift mask correspondence inspection to detect a pattern defect.
続いて、検査波長でのパターン欠陥検査装置により得た検査画像の画像データと位相シフトマスク対応検査用データとを比較対照してパターン欠陥を検出する。 - 特許庁 - To ascertain concrete conditions required for obtaining a defect-free crystal stably with good reproducibility and to produce a silicon ingot having a wide defect-free area stably with good reproducibility.
無欠陥結晶を安定かつ再現性よく得るために必要な具体的条件を突き止め、広範囲に無欠陥領域を備えるシリコンインゴットを安定かつ再現性よく製造する。 - 特許庁 - Thereafter, ions 30 are irradiated to the substrate 20 to cause a lattice defect layer 20a on the surface of the substrate 20, and further the lattice defect layer 20a is removed by grinding.
その後、基板２０に対してイオン３０を照射することにより基板２０の表面に格子欠陥層２０ａを生じさせ、さらに研磨により格子欠陥層２０ａを除去する。 - 特許庁 - An apparatus for inspecting the display panel detects defect parts deteriorating brightness from obtained pixel images, and compares whether color arrangement of peripheral pixels of the defect parts is matched between pixel images imaged at different visual angles.
得られた画素画像から、輝度が低下した欠陥部位を検出し、この欠陥部位の周辺画素の色配列が異なる視角で撮像した画素画像間で一致するか否か比較する。 - 特許庁 - The apparatus 23 for correcting the defect is used for removing the defect of the defective pixels in the pixel pattern provided on the substrate by irradiating the defective pixels with a laser beam.
本発明にかかる欠陥修正装置２３は、基板上に設けられた画素パターンのうちの欠陥画素に対して、レーザー光を照射することによって欠陥を除去するものである。 - 特許庁 - To heighten potential difference between a pixel electrode having an adjacent defect and a normal pixel electrode and to heighten detection sensitivity of an adjacent defect of pixel electrodes across a source line, in TFT array inspection.
ＴＦＴアレイ検査において、隣接欠陥を有する画素電極と正常な画素電極との電位差を高め、ソースラインを挟む画素電極の隣接欠陥の検出感度を高める。 - 特許庁 - A data region is divided into a plurality of partial areas (UDA1, UDA2) (step 303), and defect management information including a defect management method is set for each partial area (step 305).
データ領域を複数の部分領域（ＵＤＡ１、ＵＤＡ２）に分割し（ステップ３０３）、部分領域毎に欠陥管理方式を含む欠陥管理情報を設定する（ステップ３０５）。 - 特許庁 - To provide a color filter for compensating a defect without increasing processes in compensating the defect included in a spacer formed by stacking a colored layer, and to provide a method of manufacturing the color filter.
着色層を積層して形成されたスペーサが有する欠点を補うに際し、工程を増やすことなく、欠点を補うカラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To detect a defect of a peripheral circuit in a manufacturing stage of an electro-optical device, and to remove it beforehand as a defective product before being used as a product, in the case of having a defect.
電気光学装置の製造段階で周辺回路の欠陥を検出し、欠陥のある場合に製品として使用する前に予め不良品として除去することを可能にする。 - 特許庁 - To provide a semitransmission type liquid crystal display device which is free of an alignment defect of a rubbed-down oblique surface in a rubbing process and a display defect due to light absence and has a high contrast in transmission mode.
ラビング処理時の擦り下げ斜面の配向不良や光抜けによる表示欠陥が無く、透過時に高コントラストを実現できる半透過型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a coil component discriminating system capable of highly accurately detecting the disconnection defect of the coil component in a short time, and appropriately selecting the coil component of the disconnection defect.
短時間且つ高精度にてコイル部品の断線不良を検出し、断線不良のコイル部品を適切に選別することが可能なコイル部品の選別装置を提供すること。 - 特許庁 - The phosphor material is suited for an EL element because of less variation of characteristic since there is no defect formation process in which stress is applied externally to form a defect inside of a phosphor material.
このような蛍光体材料は、外部から応力を付与して内部に欠陥をつくる欠陥生成工程がないため、特性ばらつきが少なく、ＥＬ素子に好適である。 - 特許庁 - To provide a defect inspection device constituted so as to be capable of achieving the drastic enhancement of inspection precision at the time of inspection of defect in a PTP sheet manufacturing process, and a PTP packaging machine.
ＰＴＰシートの製造過程における不良を検査するに際し、検査精度の飛躍的な向上を図ることのできる不良検査装置、及び、ＰＴＰ包装機を提供する。 - 特許庁 - To provide a multilayer ceramic electronic component capable of preventing a structure defect even when made compact and highly multilayered, reducing a short circuit defect, and improving productivity.
小型化、高積層化しても構造欠陥を防止でき、ショート不良の低減ができるとともに生産性の向上が図れる積層セラミック電子部品を提供することを目的とする。 - 特許庁 - Because the terahertz light generated by the defect part 2 can be resonated within the defect part 2, the intensity of the terahertz light outputted from the terahertz light source 1 to the outside can be amplified.
欠陥部２が発生したテラヘルツ光を欠陥部２内で共振させることができるから、テラヘルツ光源１から外部に出力されるテラヘルツ光の強度を増幅することができる。 - 特許庁 - To provide an optical device defect inspection method and an optical device defect inspecting apparatus which is not affected by the difference in curvature or the position of an optical device, and which is high-speed and is low cost.
曲率の違いや光学デバイスの位置に影響されない高速かつ安価な光学デバイス欠陥検査方法及び光学デバイス欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁 - To discriminate the proprietary of the route of a linear pattern with a simple method and allow one to detect, when there is a defect such as discontinuity and adhesion, the defect surely.
線状パターンの経路の適否判別を簡易な方法で精度良く行うとともに、途切れや接着などの不良がある場合には、確実にその不良を検出できるようにする。 - 特許庁 - Whether the measured data recorded by the means 13 receiving the output refers to the internal defect or not is judged by a defect judgment means, and its result is output e.g. as image data.
出力を受けたデータ記録手段１３が記録した計測データは、欠陥判断手段によって内部欠陥か否かの判定を行い、その結果を、例えば画像データとして出力する。 - 特許庁 - To provide a defect detection apparatus for precisely detecting a defect not larger than a size desired by a user without depending on a change and a fluctuation in a generation state of shading.
シェーディングの発生状態の変化及び変動に依存せず、ユーザが所望するサイズ以下の欠陥を高精度で検出することができる欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁 - Consequently, the amount z of irradiation light which is optimal for inspection can be set and neither a detection omission of a pattern defect nor a dummy defect is caused to precisely perform the pattern inspection.
これにより、最適な検査用照射光量ｚが設定できることになり、パターン欠陥の検出漏れや擬似欠陥も起きなくなって、精度よくパターン検査を行うことができる。 - 特許庁 - To detect an occurrence of a defect such as an abnormal build up weld bead or arc, etc., during build up welding operation, and to prevent the occurrence of the defect.
肉盛ビードやアークの異常などの不具合発生を肉盛溶接作業中に発見でき不良品の発生を防止できる、監視装置付き金属管内面肉盛装置を提供する。 - 特許庁 - A plurality of pieces of classification information for a plurality of inspection data about one defect are allowed to be registered, and classification information of a defect which is an object for analysis is allowed to be arbitrarily selected.
ひとつの欠陥に複数の検査データに対する複数の分類情報を登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。 - 特許庁 - To provide a defect inspection method and a method for manufacturing a semiconductor device for suppressing false detection due to color irregularity even when a wafer subjected to defect inspection has color irregularity on a surface thereof.
欠陥検査を行うウエハ表面に色むらがある場合でも色むらによる虚報の検出を抑制できる欠陥検査方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
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