「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 90 91 92 93 94 95 96 97 98 .... 366 367 次へ＞- To provide a toner supply roller which does not cause an image defect such as a horizontal white stripe.
横白スジ画像不良を発生させることのないトナー供給ローラを提供する。 - 特許庁 - To improve accuracy in correcting a pixel value of a defect pixel in phase difference detection pixels.
位相差検出画素における欠陥画素の画素値の補正の精度を向上させる。 - 特許庁 - To provide a toner composition for improving developing property and preventing a back ground defect.
現像性を改善するとともに、バックグラウンド欠陥を防止するトナー組成物を提供する。 - 特許庁 - The data structure on the recording medium includes a temporary defect management area storing a data block.
記録媒体上のデータ構造は、データブロックを格納する仮欠陥管理領域を含む。 - 特許庁 - The n-type defect layer practically functions as an n-type high n+ buffer layer 2b.
このｎ型欠陥層は実質的にｎ型高ｎ^＋バッファ層２ｂとして機能する。 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF PHOTOMASK AND ATOMIC FORCE MICROSCOPE MICROPROCESSING DEVICE USED THEREFOR
フォトマスク欠陥修正方法及びそれに用いる原子間力顕微鏡微細加工装置 - 特許庁 - To provide a method and apparatus for adaptively performing defect scan according to channel characteristics.
チャンネル別特性による適応的ディフェクトスキャン処理方法及びその装置を提供する。 - 特許庁 - PIXEL DEFECT DETECTING APPARATUS OF IMAGING ELEMENT, ITS DETECTING METHOD, AND IMAGING APPARATUS FOR MICROSCOPE
撮像素子の画素欠陥検出装置、その検出方法、及び顕微鏡用撮像装置 - 特許庁 - You found the cause of the defect and were you able to take preventative measures against its recurrence?
あなたはその不良の原因を見つけて、再発防止対策を取ることができましたか？ - Weblio Email例文集 - In a defect analysis memory part 100, a data storage memory 110 and a compact memory 120 are provided.
不良解析メモリ部１００が、データ格納メモリ１１０とコンパクトメモリ１２０を備える。 - 特許庁 - In a step (c), product defect information as character information on the product is acquired.
（ｃ）ステップは、製品に関する文字情報としての製品不具合情報を取得する。 - 特許庁 - METHOD OF MANAGING DEFECT IN INFORMATION RECORDING MEDIUM, APPARATUS THEREFOR AND INFORMATION RECORDING MEDIUM
情報記録媒体の欠陥を管理する方法、その装置及び情報記録媒体 - 特許庁 - To eliminate a defect of a spurious signal depending on an input to delta sigma (ΔΣ) modulation.
デルタ・シグマ（ΔΣ）変調における入力に依存したスプリアス不具合を解消する。 - 特許庁 - To shorten time required for defect inspection and to suppress a decrease in the capacity of a data zone.
ディフェクト検査にかかる時間を短縮し，またデータゾーンの容量の減少を抑える。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING OPTICAL SIGNAL POWER IN RESPONSE TO DEFECT IN OPTICAL FIBER PATH
光ファイバ路中の欠陥に応答し、光信号パワ—を制御する方法及び装置 - 特許庁 - To provide a start device for an engine capable of preventing meshing defect of a flywheel gear and a pinion.
フライホイールギヤとピニオンとの噛合不良を防止できるエンジンの始動装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display element reducing visible defect caused by air bubbles generation.
気泡発生による表示不良を低減させた液晶表示素子を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR VERIFYING DISK DEFECT MANAGEMENT AREA INFORMATION AND TEST DEVICE FOR PERFORMING THE SAME
ディスクの欠陥管理領域情報検証方法及びこれを行うためのテスト装置 - 特許庁 - Consequently, whether there is any defect in the sealant can be judged by looking at whether there is light in the lens 5.
よって、レンズ５の光の有無によって、封止体の欠陥の有無が判定できる。 - 特許庁 - To provide a method and a device for detecting a defect or the deterioration of an elevator rope.
エレベータロープの欠陥や劣化を検出するための方法および装置を提供する。 - 特許庁 - To appropriately adjust the sheet thickness of a strip while evading a quality defect.
品質不良を回避しつつストリップの板厚調整を適切に行えるようにする。 - 特許庁 - DEFECT DETECTION METHOD FOR CONTINUOUS CASTING SLAB AND TREATMENT METHOD FOR CONTINUOUS CASTING SLAB
連続鋳造鋳片の欠陥検出方法及び連続鋳造鋳片の処理方法 - 特許庁 - METHOD FOR INSPECTING MASK DEFECT, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT
マスク欠陥検査方法、マスク製作方法及び半導体集積回路の製造方法 - 特許庁 - All the image data are transferred to a inspection PC to execute defect inspection by the PC.
画像データを全て検査用ＰＣに転送し、検査用ＰＣで欠陥検査を実行する。 - 特許庁 - Then, the discriminated defect of the short-circuit type or the disconnection type is repaired as required.
その後、判別した短絡欠陥および断線欠陥を必要に応じて修正する。 - 特許庁 - METHOD FOR REPAIRING DEFECT OF SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE INCLUDING METHOD FOR REPAIRING
液晶表示装置用基板の欠陥修復方法及びそれを含む製造方法 - 特許庁 - The second regions 52 and 62 have crystal defect density higher than that of first regions 51 and 61.
第２領域５２，６２は第１領域５１，６１よりも結晶欠陥密度が高い。 - 特許庁 - To eliminate a spurious defect depending on an input in the delta sigma(ΔΣ) modulation.
デルタ・シグマ（ΔΣ）変調における入力に依存したスプリアス不具合を解消する。 - 特許庁 - INFORMATION RECORDING MEDIUM, DEFECT MANAGING METHOD, INFORMATION RECORDING/REPRODUCING APPARATUS, AND INFORMATION REPRODUCING APPARATUS
情報記録媒体、欠陥管理方法、情報記録再生装置及び情報再生装置 - 特許庁 - WELD DEFECT DETECTION SYSTEM, METHOD FOR PRODUCING ELECTRIC RESISTANCE WELDED TUBE AND WELDED PRODUCT
溶接欠陥検出システム及び電縫鋼管の製造方法並びに溶接製品 - 特許庁 - To prevent a development defect due to sticking of dust on an image formation medium.
画像形成媒体への塵埃の付着に起因する現像不良の発生を防止する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device of thin film transistors which can eliminate a block defect.
ブロック欠陥を無くすことができる薄膜トランジスタの液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING BLACK DEFECT IN CHROME MASK BY USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE MICROPROCESSING DEVICE
原子間力顕微鏡微細加工装置を用いたクロムマスクの黒欠陥修正方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR DETECTING DEFECT CIGARETTES AND/OR IRREGULARLY ARRANGED CIGARETTES AND EXCLUDING THE SAME
欠陥煙草および／または不正配置煙草を探知し排除するための方法と装置 - 特許庁 - To reduce defect rate, when a resin layer is formed to manufacture an active matrix substrate with the resin layer.
樹脂層付アクティブマトリクス基板への樹脂層形成時の不良率を低減する。 - 特許庁 - (II) When a bug is deemed to be a product defect, what responsibility does the Vendor have to the user?
（２）バグが瑕疵に該当する場合、ベンダーに対してどのような責任を問えるか - 経済産業省 - In particular, the following are the examples of cases in which the program may not be considered a defect.
瑕疵に該当しないと考えられる場合は、具体的には以下のとおりである。 - 経済産業省 - METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND SYSTEM FOR JUDGING NECESSITY OF DEFECT CORRECTION
露光用マスク、半導体装置の製造方法及び欠陥修正要否判定装置 - 特許庁 - To provide a multilayer substrate that suppresses a defect in function, and to provide a method of manufacturing the same.
機能不良を抑制できる多層基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The length of the runaway 2 is made larger than the expected weld defect generation length at the tube ends.
ランナウエイ２は想定される管端の溶接欠陥発生長さよりも長くしておく。 - 特許庁 - To heighten a correct answer ratio between genuine defects and pseudo-defects, and to improve the defect detection ratio.
真正欠陥と疑欠陥の正答率を高め、欠陥検出率を向上させる。 - 特許庁 - WELDING DEFECT DETECTION SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRIC RESISTANCE WELDED PIPE, AND WELDED PRODUCT
溶接欠陥検出システム及び電縫鋼管の製造方法並びに溶接製品 - 特許庁 - To quickly detect a power feed defect when executing power feed to a power receiving device.
受電装置に対して給電を実行する際の給電不良を迅速に検出する。 - 特許庁 - On the basis of data on a sector read from the logic disk 12 by read access that matches a read request from the host 20, a data defect determining part 115a determines if the defect information indicating data defects is recorded in the defect information area of the sector.
データ欠損判定部１１５ａは、ホスト２０からのリード要求に従うリードアクセスによって論理ディスク１２から読み出されるセクタのデータに基づき、当該セクタの欠損情報領域に“データ欠損あり”を示す欠損情報が記録されているかを判定する。 - 特許庁 - The method for correcting the pattern comprises the steps of: applying correction ink 8 to the central part of a white defect 7; and jetting air from just above the white defect 7 through an injection plate 23 formed from a porous material to uniformize the thickness of the applied correction ink 8 in the white defect 7.
このパターン修正方法では、白欠陥７の中央部に修正インク８を塗布した後、多孔質材料で形成された噴射板２３を介して白欠陥７の真上からエアーを噴射し、白欠陥７における修正インク８の厚みを均一化する。 - 特許庁 - Defect pixel information R(k, m) to be updated is determined out of a plurality of pieces of defect pixel information R(k, m) in database DB and a radiation dose and an accumulation time for acquiring the defect pixel information R(k, m) are determined.
データベースＤＢ内の複数の欠陥画素情報Ｒ（ｋ，ｍ）のうち、更新すべき欠陥画素情報Ｒ（ｋ，ｍ）が決定されるとともに、その欠陥画素情報Ｒ（ｋ，ｍ）を取得するための放射線照射量および蓄積時間が決定される。 - 特許庁 - To provide a defect inspection apparatus, a defect inspection method, a program, and a recording medium, in which an area having no artificial detect can be surely inspected and increase of loads and reduction of inspection accuracy caused by an artificial defect can be prevented by utilizing inspection results in automatic inspection.
疑似欠陥が存在しない領域の検査を確実に行い、自動検査での検査結果を利用して、疑似欠陥による負荷の増大と検査精度低下を防ぐことができる欠陥検査装置、欠陥検査方法、プログラムおよび記録媒体を提供する。 - 特許庁 - To eliminate a shadow by an end part of a screw part to reduce confusion with a defect image caused by the generation of the shadow, and to precisely inspect the presence of a defect, even in case of the small defect such as a small bubble, foreign matter and small chip generated in the end part of the screw part.
ねじ部の端部による影を無くして、その影が生じることによる欠陥画像との紛らわしさを低減し、ねじ部の端部に生ずる小さい気泡や異物や小さい欠けなどの小さい欠陥でも、その有無を精度良く検査できるようにする。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a photomask which produces an electronic circuit board and also performs inspection of a mask defect inspection device itself, and also to provide a method for inspecting a photomask defect inspection device, by using the photomask, and a device for inspecting a photomask defect inspection device.
電子回路基板の製造と共にマスク欠陥検査装置自体の検査を実行可能なフォトマスクを製造するフォトマスク製造方法、そのフォトマスクを用いたフォトマスク欠陥検査装置判定方法、及びフォトマスク欠陥検査装置判定装置を提供する。 - 特許庁 - A crystal defect formed in the drift region 4 includes a crystal defect of a trap level generated by performing termination processing to the crystal defect formed in a region of <0.2 eV in an energy difference from the center of a band gap.
ドリフト領域４内に形成されている結晶欠陥には、バンドギャップの中心からのエネルギー差が０．２ｅＶ未満の領域内に形成されている結晶欠陥を終端処理することにより生じるトラップ準位の結晶欠陥が含まれている。 - 特許庁
