「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 181 182 183 184 185 186 187 188 189 .... 366 367 次へ＞- To enhance the yield of manufacture by developing a novel detection/measurement method of an application defect in the manufacture of orientation thermoplastic resin film with coated film.
塗膜コーティング配向熱可塑性樹脂フィルム製造における塗布欠点の新しい検出・測定方法を提供し、製造歩留まりを向上させること。 - 特許庁 - In this way, defect discovery rate of the product can be improved, and many potential defects in the product can be found in a time as short as possible.
このようにして、製品の不具合の発見率を向上し、製品に潜在する不具合をできるだけ短時間に多く発見することができる。 - 特許庁 - To provide a film container with which stable processing is made possible by eliminating the transportation defect by the curling of a film, film, camera, automatic developing machine and print forming system.
フィルムの巻き癖による搬送不良をなくし、安定した処理が可能なフィルム容器、フィルム、カメラ、自動現像機及びプリント作成システムを提供する。 - 特許庁 - Thus, gettering is easily applied to a metal impurity, the defect of the epitaxial substrate can easily be cured, and the annealing step can be achieved in a short time.
これにより、金属不純物を容易にゲッタリングでき、エピタキシャル半導体基板の欠陥が容易に治癒でき、アニーリング工程を短時間に遂行できる。 - 特許庁 - To detect and diagnose a defect of a structural member applied with a load using a semiconductor magnetic sensor without impressing a magnetic field or the like.
荷重がかかる構造部材の欠陥を半導体磁気センサを用いて磁場等を印加することなく検出、診断する方法とその装置の提供。 - 特許庁 - To coat a substrate with a resist and subject it to developing processing to prevent residues from being deposited and remaining as a defect on the surface of the resist of the substrate.
レジストを塗布し、露光後に現像処理を行った基板のレジスト表面に残渣が付着したまま残る残渣欠陥の発生を抑えること。 - 特許庁 - To obtain suitable printing performance responding to the change of the transfer speed of a paper sheet caused by various factors without causing a defect in print image.
様々な要因によって生じる用紙の搬送速度の変化に対応して、印刷画像に不良を発生させることなく、好適な印刷性能を得る。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a piezoelectric sheet with excellent mass-productivity whereby defect or the like is not caused to a piezoelectric element chip and exfoliation of a resin film is not required.
圧電素子チップを破損等することがなく、しかも樹脂膜の除去作業が不要となる、量産性に優れた圧電シートの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an alignment apparatus which easily and promptly implements alignment of design data and measurement data, a defect detection device and an alignment method.
容易に、かつ迅速に設計データと計測データとの位置合わせを実施する位置合わせ装置、欠陥検出装置、および位置合わせ方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a fiber having an antibacterial performance and not exhibiting a loss of hinokithiol caused by vaporization or photodecomposition, which is a defect of it, without using complicated processes and at a low cost.
ヒノキチオールの欠点である揮散や光分解による消失がなく、煩雑な工程なしに低コストで抗菌性能などを有する繊維を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for crystal growth capable of improving crystal quality by preventing defect formation and impurity contamination in a crystal.
結晶中に欠陥の発生や不純物の混入を防止することにより結晶品質の改善を図ることが可能な結晶成長方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection apparatus capable of detecting a focusing position of an oblique detection system and a position of illumination with high accuracy, and setting the position of illumination with high accuracy.
斜方検出系の合焦位置と照明の位置とを高精度に検出し、照明の位置を高精度に設定可能な欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁 - The count number of the defects and the like are reset simultaneously with writing the count number into the memory, and counting is similarly repeated when the next defect start position is detected.
欠点のカウント数等は、カウント数をメモリに書き出すと同時にリセットし、次の欠点開始位置を検出したら同様にカウントを繰り返す。 - 特許庁 - The second insulating layer 14 is formed on the low-defect region 10b on the principal surface 10a of the GaN layer 10, and has an opening formed.
第２の絶縁層１４は、ＧａＮ層１０の主表面１０ａにおける低欠陥領域１０ｂの上に形成され、開口部が形成される。 - 特許庁 - The second insulating layer 14 is formed on the low-defect region 10b on the principal surface 10a of the GaN layer 10, and has an opening formed.
第２の絶縁層１４は、ＧａＮ層１０の主表面１０ａにおける低欠陥領域１０ｂの上に形成され、開口部が形成されている。 - 特許庁 - Since a wall thickness reduction part 12 is formed on the pipe wall 8a, weight increase of the water cooled adapter 2 is prevented and a defect of casting article is prevented.
管壁８ａに肉盗み部１２を形成しているので、水冷排気アダプタ２の重量増加を防止できると共に鋳造品の欠陥を防止できる。 - 特許庁 - To excellently mount a component on a substrate while preventing a solder defect from occurring by suitably adjusting a mounting position for the component in accordance with a printing deviation amount.
印刷ズレ量に応じて部品の実装位置を適切に調整することで半田不良の発生を防止しつつ部品を基板に良好に実装する。 - 特許庁 - To provide a visual inspection device capable of rapidly detecting problems by transmitting defect information such as the number of occurred defects in an easily understood manner.
欠陥の発生数などの欠陥情報を分かり易く伝えることで、問題点の検知を迅速に行うことができる外観検査装置を提供する。 - 特許庁 - By locating the passage of venting inside an ejector pin not being close to a sliding part, the exhaust of a gas is performed without causing a problem of a working defect.
ガス抜きの経路を摺動部とは近接しないエジェクタピンの内側にする事で、作動不良の問題を引き起こす事なく、ガスの排出を可能にできた。 - 特許庁 - To detect minute defect existing in a PMOS load transistor of an SRAM (Static Random Access Memory) memory cell without extremely increasing circuit area and at high speed.
回路面積を極端に増大させることなく、かつ高速に、ＳＲＡＭメモリセルのＰＭＯＳ負荷トランジスタに存在する微小欠陥を検出すること。 - 特許庁 - This automated defect inspection system has been invented and is used to inspect patterned wafers, whole wafers, broken wafers, partial wafers, waffle packs, MCMs, and the like.
自動化欠陥検査システムが発明され、これはパターン化されたウェハ、全ウェハ、破損ウェハ、部分ウェハ、ワッフルパック、ＭＣＭなどを検査するために使用される。 - 特許庁 - For example, the intensity values from a target die are compared to the intensity values from a corresponding portion of a reference die, wherein a significant intensity difference may be defined as a defect.
例えば、ターゲットダイからの強度値は、レファレンスダイの対応する部分からの強度値と比較され、大きな強度差は欠陥として定義される。 - 特許庁 - To determine a binarization threshold, coping with a brightness fluctuation in various magnetic particle flaw inspection images, reduce misdetections, and attain a high defect detection rate.
様々な磁粉探傷画像の輝度変動に対応可能な２値化のしきい値の決定して、誤検出を少なくすると共に高い欠陥検出率を実現する。 - 特許庁 - To provide an exposure device capable of removing foreign matters attached on a photomask in an exposure step to prevent the occurrence of white defect caused by foreign matters.
露光工程でのフォトマスクに付着した異物を除去し、異物に起因した白欠陥の発生を未然に防ぐことを可能とする露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for reducing pitch in a paper-making process of paper and paperboard, wherein pitch causes troubles such as paper making defect and blot generation.
紙及び板紙の製紙工程において、製紙欠陥や汚れ発生等のトラブルの要因となるピッチの低減方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The insulation defect type in the diagnosis target device is identified based upon the detected frequency or frequency band manifesting the maximum amplitude strength.
そして、検出された最大振幅強度を示す周波数または周波数帯域に基づいて、診断対象機器の絶縁欠陥種別を判別する（ステップ0703、0705、0707）。 - 特許庁 - Further, it is determined whether it is an acute angle concavity defect on the basis of the differential value at a predetermined differential width in the first direction with each pixel as the center.
さらに、各画素を中心とする第１の方向での予め定める微分幅での微分値に基づいて、鋭角凹欠陥であるか否かを判定する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection apparatus and a method of inspecting defects for precisely inspecting defects even if an inspection region is not divided in a width direction.
幅方向に検査領域を分割しなくても精度良く検査することができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供することにある。 - 特許庁 - To effectively measure a surface shape of a phase defect existing on an exposure mask, and contribute to improvement of production efficiency of the exposure mask.
露光用マスク上に存在する位相欠陥の表面形状を効率的に測定することができ、露光用マスクの生産効率向上に寄与する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method that can reduce pattern defect in an imprint lithography method used for the manufacture of semiconductor device or the like.
半導体装置等の製造に用いられるインプリントリソグラフィ方法において、パターン欠陥を低減することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a surface defect-free fiber-reinforced composite material molded product with good appearance by preventing occurrence of a pinhole and fiber meandering.
ピンホールと繊維蛇行の発生を防止でき、表面欠陥の無い外観に優れた繊維強化複合材料成形品の製造方法を課題とする。 - 特許庁 - To provide an inspection method for a photomask and an inspection apparatus for a photomask, for determining a defect of a photomask for double patterning and verifying a degree of influences by defects.
ダブルパターニング用フォトマスクの欠陥判定及び欠陥影響度を検証するフォトマスクの検査方法及びフォトマスクの検査装置を提供する。 - 特許庁 - To form a high-quality toner image with less image defect even when a rotating direction of a developing roller 46Y relative to a photoreceptor drum 31Y is fixed.
感光体ドラム３１Ｙに対する現像ローラ４６Ｙの回転方向が一定であっても、画像欠陥の少ない高画質なトナー像を形成する。 - 特許庁 - In the correction data generating process, luminance data of the point defect pixel is eliminated (S7) from the luminance data by use of the position data before the correction data is generated.
前記補正データ生成工程において、補正データを生成する前に輝度データの中から位置データを利用して点欠陥画素の輝度データを除く（Ｓ７）。 - 特許庁 - The pattern formation defect region is calculated by performing convolution operation of the correspondence relation on the layout used for forming the step portion.
前記パターン形成不良領域は、前記段差部の形成に用いたレイアウトに対して前記対応関係の畳み込み演算を行うことによって算出される。 - 特許庁 - As a result, a detection defect of the cover can be prevented and a decrease in sealing performance between the container body and cover can be prevented.
その結果、蓋体の検出不良を防止することができると共に、容器本体と蓋体との間のシール性能の低下を防止することができる。 - 特許庁 - To provide a nonvolatile memory device having reduced area by decreasing the number of elements in a circuit for latching and comparing a defect column address to improve performance.
欠陥カラムアドレスをラッチし比較するための回路の素子個数を減らして面積を減らし、性能を向上させられる不揮発性メモリ素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device having high reliability, by which occurrence of the defect of gold plating due to lowering of thallium concentration is restrained.
タリウム濃度低下による金メッキの不良発生を抑止できる信頼性の高い半導体集積回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The defect inspection device inputs the illuminance distribution of the light detected by the detection optical system, and calculates the thresholds by pixels of the detection optical system based upon the input data.
検出光学系で検出された光の照度分布を取り込み、取り込んだデータを基に、検出光学系の画素毎にしきい値を算出する。 - 特許庁 - The buffer memory further stores a defective address of the main memory, and the first data conversion part stores defect information in an address of the first table corresponding to the defective address.
さらに、バッファメモリは、メインメモリの欠陥アドレスを格納し、第１データ変換部は、欠陥アドレスに対応する第１テーブルのアドレスに欠陥情報を格納する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor memory device test circuit where a defect detection rate has been improved and a semiconductor memory device where a repair efficiency has been improved.
不良検出率を向上させた半導体メモリ装置のテスト回路及びリペア効率性を向上させた半導体メモリ装置を提供する。 - 特許庁 - The apparatus also includes a defect inspection unit 100 which detects a defective place formed on the board before the board is loaded on the stage 220.
また、前記基板が前記ステージ２２０にローディングされる前に、前記基板に形成された欠陥の位置を検出する欠陥検査部１００をさらに含む。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a cleaning blade superior in wear resistance without generating image defect for a long period even when using a polymerized toner.
重合トナーを使用した場合であっても長期に画像不良を発生しない耐摩耗性に優れたクリーニングブレードの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an ignition coil that eliminates the occurrence of a defect due to welding or solder by employing neither welding nor soldering etc., and is easily assembled.
溶接又は半田付け等を使用しないことで溶接又は半田による不良の発生が無くなり、さらには容易に組み立てられる点火コイルを提供する。 - 特許庁 - To provide a reflection electrode having high reflectance and low contact resistance and having excellent heat resistance without generating a defect such as a hillock.
高い反射率および低い接触抵抗を有しており、しかも、ヒロックなどの欠陥を生じることのない耐熱性にも優れた反射電極を提供する。 - 特許庁 - To transfer a photomask to a cleaning part with an appropriate timing so as to prevent a defect occurring in the photomask and having transferability to a wafer from reducing the yield.
フォトマスクに発生するウエハへの転写性を有する欠陥が歩留まりの低下を起こさないように適切なタイミングで洗浄に移行できるようにする。 - 特許庁 - To provide a toner-supplying roller capable of maintaining toner supply of a fixed amount over a long period of time and suppressing occurrence of image defect.
長期に亘って一定量のトナー供給を維持することができ、画像不良の発生を抑制することができるトナー供給ローラを提供する。 - 特許庁 - To provide an efficient method of manufacturing an antireflection film which does not cause a defect in an antireflection layer having a fine rugged structure and to provide a manufacturing apparatus.
微細な凹凸構造を持つ反射防止層に欠陥を生じさせない効率的な反射防止フィルムの製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device which neither breaks the semiconductor device to be manufactured nor generates a defect in post-steps.
製造する半導体デバイスを破損させず、且つ、後工程で不良を発生させることのない半導体デバイスの製造方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a spinning machine which can efficiently remove spun yarn remaining on a yarn accumulating roller due to generation of a yarn defect in which yarn strength is low.
糸強力の弱い糸欠点の発生により糸貯留ローラに残留した紡績糸の除去を効率的に行うことのできる紡績機を提供する。 - 特許庁
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