「Defect」を含む例文一覧(18306)

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  • To provide a defect inspection device, a specimen for an electronic device, and a defect inspection method, capable of inexpensively and easily inspecting a defect in a short time.
    欠陥の検査を安価、短時間、及び容易に行うことができる欠陥検査装置、電子装置用試験体、及び欠陥検査方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a defect inspection device capable of detecting a defect independently, and calculating a characteristic quantity of the detected defect, and an image processing device therefor.
    単独で欠陥を検出し検出した欠陥の特徴量を算出することができる欠陥検査装置及びその画像処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide an ultrasonic probe capable of detecting even an inclined defect and having high evaluation precision of the defect, and a defect evaluation method using the probe.
    傾いた欠陥でも検出することができ、、且つ、欠陥の評価精度が高い超音波プローブ及びこれを用いた欠陥評価方法を提供する。 - 特許庁
  • After a certain process if completed, defects of a wafer W are detected by a defect detecting apparatus 2, and the defect positioning data is transferred to a defect observation apparatus 3.
    あるプロセスが終了した後、欠陥検出装置2によりウェハWの欠陥を検出し、その欠陥位置データを欠陥観察装置3に送出する。 - 特許庁
  • To provide a defect inspection method for automatically discriminating between the shape of an inspected part and a defect as to defect inspection using a radiation image.
    放射線画像を用いた欠陥検査において、被検査部位の形状と欠陥を自動的に区別することのできる欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁
  • Defect information including at least information on each defect position is acquired by detecting each defect on the substrate with the use of an inspection device (S302).
    検査装置によって基板上の欠陥をそれぞれ検出して、各欠陥の位置を表す情報を少なくとも含む欠陥情報を取得する(S302)。 - 特許庁
  • To provide a defect detecting unit, a defect detecting method capable of detecting a defect with high sensitivity, and a manufacturing method for a pattern substrate.
    高感度で欠陥検出をすることができる欠陥検出装置及び欠陥検出方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • Hereby, a true device defect caused by a short-circuit defect, a disconnection or the like can be classified discriminably from a pseudo defect caused by contamination, particles or the like.
    これによって、短絡欠陥や断線等による真のデバイス欠陥と、コンタミネーションやパーティクル等を起因とする擬似欠陥とを識別して分類する。 - 特許庁
  • This defect detection device for the optically transparent film A includes: a defect candidate detection part 20; a presentation means 21; a selection means 22; and a defect specification means 23.
    光透過性フィルムAの欠陥検出装置は、欠陥候補検出部20、提示手段21、選択手段22、及び欠陥特定手段23を備える。 - 特許庁
  • To provide a defect analyzer for a memory LSI which can efficiently detect regularity of defect caused partially, and a defect analysis method.
    部分的に発生した不良の規則性を効率良く検出することができるメモリLSIの不良解析装置及び不良解析方法を提供する。 - 特許庁
  • An image processing section 24 determines whether a defect exists, whose size allows to make a defect decision by visual inspection, based on information representing the size of the defect.
    画像処理部24は、欠陥の大きさを示す情報に基づいて、目視によって欠陥の判断が可能な大きさの欠陥があるかどうかを判断する。 - 特許庁
  • A secondary defect detection part 37 executes secondary defect detection processing for detecting a defect on the inspection object by using image data of the inspection object.
    2次欠陥検出部37は、検査対象物の画像データを用いて検査対象物上の欠陥を検出する2次欠陥検出処理を実行する。 - 特許庁
  • To provide a defect inspection device and a defect inspection method capable of enlarging a taking range of light scattered from a fine defect, and heightening signal intensity.
    微細な欠陥から散乱した光の取込範囲を拡大し信号強度を高める欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a defect inspection apparatus and defect inspection method capable of detecting the defect on the back surface side of a mask blank for a stencil mask with high accuracy.
    ステンシルマスク用マスクブランクスの裏面側の欠陥を精度良く検出することができる欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供すること。 - 特許庁
  • To dissolve defect by easily and quickly specifying the cause of the defect when defect occurs in a medical image.
    本発明の課題は、医用画像に異常が発生した場合に、容易かつ速やかに異常の発生原因を特定して、異常の解消を図ることである。 - 特許庁
  • Thus, when a white defect occurs, where the pixel is displayed always brightly, the white defect can be changed into a black defect in which pixels are hardly discriminated.
    これにより、画素が常に明るく表示されるホワイト不良が発生する場合、画素をほとんど識別が不可能なブラック不良に容易に変えることができる。 - 特許庁
  • INFORMATION STORAGE MEDIUM STORING DEFECT MANAGEMENT INFORMATION, ALTERNATION PROCESSING METHOD OF DEFECT MANAGEMENT INFORMATION, AND APPARATUS PERFORMING ALTERNATION PROCESSING OF DEFECT MANAGEMENT INFORMATION
    欠陥管理情報を格納する情報記憶媒体、欠陥管理情報の交替処理方法、および欠陥管理情報の交替処理を行なう装置 - 特許庁
  • To make it possible to enhance the detection accuracy of a line defect and to enhance the identification accuracy of the point defect and the line defect in inspection of a TFT array.
    TFTアレイの検査において、線欠陥の検出精度を高めることができ、また、点欠陥と線欠陥の識別精度を高めること。 - 特許庁
  • Alternatively, the operator may manually repair the defect in the place of defect after the material stationing machine has automatically returned to the place of defect.
    代替的に、材料配置機械が欠陥の場所に自動的に戻り、その後オペレータが欠陥の場所における欠陥を手動で修復してもよい。 - 特許庁
  • When defect detection is performed by a defect data detecting part 112c, judgment of reliability of the detection is first performed prior to the defect detection.
    欠陥データ検出部112cによる欠陥検出を行なう場合、まず、その欠陥検出に先立って、その検出の信頼性判定を行なう。 - 特許庁
  • To provide a defect correction method capable of easily correcting a fine white defect part without damaging and contaminating the neighborhood of a defect part.
    欠陥部の近傍にダメージを与えたり、汚染することなく、微細な白欠陥部を容易に修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a defect correcting device capable of precisely correcting a defect in a short time by being equipped with a defect detection unit for a substrate.
    基板の欠陥検出ユニットを備えることによって、正確かつ短時間で欠陥の修正を行うことが可能な欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁
  • Furthermore, the profile of the defect degree along the X-axis and the profiles of the defect degree along the Y-axis are calculated from the defect degree calculated.
    さらに、算出された欠陥度に基づいて、X軸に沿った欠陥度のプロファイルおよびY軸に沿った欠陥度のプロファイルが算出される。 - 特許庁
  • To decide accurate defect inspection parameters which are not influenced by the knowledge, etc., of a defect inspection unit, by reducing the occupying time of a defect inspection device.
    欠陥検査装置の占有時間を減少し、欠陥検査者の知識等に左右されることのない正確な欠陥検査パラメータを決定する。 - 特許庁
  • To provide a defect analyzing system, a defect analyzing method, and a defect analyzing program capable of improving analyzing accuracy and suppressing an increase in an analyzing time.
    解析精度を向上し、且つ解析時間の増大を抑制する欠陥解析システム、欠陥解析方法及び欠陥解析プログラムを提供する。 - 特許庁
  • METHOD FOR VERIFYING PRECISION OF SOLIDIFICATION DEFECT PREDICTION ANALYSIS
    凝固欠陥予測解析の精度検証方法 - 特許庁
  • IMPRINT METHOD AND DEFECT INSPECTION METHOD OF TEMPLATE
    インプリント方法及びテンプレートの欠陥検査方法 - 特許庁
  • A defect detection part 25 extracts a defect on an inspection object by using the reduced image information.
    欠陥検出部25は、縮小画像情報を用いて検査対象物上の欠陥を抽出する。 - 特許庁
  • To inspect a defect in a mask pattern with high accuracy and to prevent a defect in an exposure pattern on a wafer.
    マスクパターンの欠陥検査を精度良く行い、ウェハ上の露光パターンに欠陥が生じないようにする。 - 特許庁
  • SUBSTRATE SURFACE DEFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE THEREOF
    基板表面欠陥検査方法およびその装置 - 特許庁
  • To provide a defect inspection device and a defect inspection method capable of reliably detecting various defects.
    様々な欠陥を確実に検出し得る欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁
  • SPECIFICATION OF DISSOLUTION DEFECT-GENERATING SOURCE OF OVEN FOR MELTING GLASS AND SYSTEM FOR ANALYZING DISSOLUTION DEFECT-GENERATING SOURCE
    ガラス溶融炉の溶解欠点発生源特定方法および溶解欠点発生源解析システム - 特許庁
  • METHOD AND PROGRAM FOR DETECTING DEFECT OF IMAGE PICKUP ELEMENT
    撮像素子の欠陥検出方法及びプログラム - 特許庁
  • METHOD FOR EVALUATING GROWN-IN DEFECT DENSITY OF SILICON WAFER
    シリコンウエハのグローン・イン欠陥密度の評価方法 - 特許庁
  • DEFECT HEIGHT ESTIMATION METHOD BY ULTRASONIC FLAW DETECTION
    超音波探傷による欠陥高さ推定方法 - 特許庁
  • LEAKAGE FLUX FLAW DETECTING-APPARATUS AND METHOD FOR JUDGING DEFECT
    漏洩磁束探傷装置および疵判定方法 - 特許庁
  • METHOD FOR OBSERVING DEFECT ON SEMICONDUCTOR SINGLE CRYSTAL SUBSTRATE
    半導体単結晶基板の欠陥観察方法 - 特許庁
  • SHEET DEFECT INSPECTING DEVICE AND SHEET MANUFACTURING METHOD
    シートの欠陥検査装置及びシートの製造方法 - 特許庁
  • LED DEFECT DETECTION CIRCUIT, DISPLAY UNIT FOR TRAIN, LED DRIVING CIRCUIT, AND LED DEFECT DETECTION METHOD
    LED異常検出回路、列車用表示器、LED駆動回路、およびLED異常検出方法 - 特許庁
  • INSPECTION METHOD FOR DEFECT OF HONEYCOMB FILTER, INSPECTION DEVICE FOR DEFECT OF HONEYCOMB FILTER, AND MANUFACTURING METHOD FOR HONEYCOMB FILTER
    ハニカムフィルタの欠陥の検査方法、ハニカムフィルタの欠陥の検査装置、及び、ハニカムフィルタの製造方法 - 特許庁
  • LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE DEVICE, PIXEL DEFECT INSPECTING METHOD, PIXEL DEFECT INSPECTING PROGRAM, AND STORAGE MEDIUM
    液晶表示装置及び画素不良検査方法並びに画素不良検査プログラム及び記憶媒体 - 特許庁
  • FUSION DEFECT DETECTION METHOD OF RESIN TUBE FUSION PART
    樹脂管融着部の融着不良検出方法 - 特許庁
  • Only when the line defect 7 still appears, will the defect part be specified and an array substrate 21 be repaired.
    それでも線欠陥7が現れる場合にのみ、欠陥箇所の特定とアレイ基板21のリペアを行う。 - 特許庁
  • SURFACE DEFECT DETECTION SYSTEM AND DATA PROCESSING METHOD
    表面欠陥検出システム及びデータ処理方法 - 特許庁
  • Thus, this casting defect 3 is eliminated by burying the plastically fluidized material M into the casting defect 3.
    塑性流動した材料Mを鋳物欠陥3で埋めることでその鋳物欠陥3を消去する。 - 特許庁
  • EDGE GRADIENT DETECTION METHOD, STAIN DEFECT DETECTION METHOD, EDGE GRADIENT DETECTION DEVICE AND STAIN DEFECT DETECTION DEVICE
    エッジ勾配検出方法、シミ欠陥検出方法、エッジ勾配検出装置、シミ欠陥検出装置 - 特許庁
  • SHEET DEFECT DETECTION METHOD AND SHEET DISCRIMINATION METHOD
    シート欠陥検出方法及びシート分別方法 - 特許庁
  • To remove a defect derived from a correction pattern in a defect inspection of a photomask having the correction pattern.
    補正パターンを有するフォトマスクの欠陥検査において、補正パターンに由来する欠陥を除外すること。 - 特許庁
  • In a step (e), the expert analyzes the defect on the basis of the image information and the product defect information.
    (e)ステップは、画像情報と製品不具合情報とに基づいて、専門家が不具合の解析を行う。 - 特許庁
  • BEARING RING WITH ARTIFICIAL DEFECT, ROLLER BEARING WITH AN ARTIFICIAL DEFECT, AND LIFETIME TESTING METHOD FOR ROLLER BEARING
    人工欠陥付軌道輪及び人工欠陥付転がり軸受と転がり軸受の寿命試験方法 - 特許庁
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