「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 35 36 37 38 39 40 41 42 43 .... 366 367 次へ＞- METHOD FOR DETERMINING CLEARING OF YARN DEFECT AND DEVICE FOR PROCESSING YARN
糸欠点のクリアリング判定方法と糸処理装置 - 特許庁 - To detect a defect in a mask with high sensitivity by acquisition of a dark field image without generating a pseudo defect.
疑似欠陥を発生させることなく、暗視野像の取得によりマスクの欠陥を高い感度で検出する。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING MASK DEFECT FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE
電子ビーム露光用マスク欠陥検査方法及び装置 - 特許庁 - The defect list includes a header 121 arranged at a fixed position, N defect entries 122 to 125 containing information regarding the positions of the defect areas, and an anchor 126.
欠陥リストは、固定位置に配置されたヘッダ１２１と、欠陥領域の位置に関する情報を含むＮ個の欠陥エントリ１２２〜１２５と、アンカ１２６とを含む。 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL, AND PIXEL DEFECT CORRECTION METHOD THEREFOR
液晶ディスプレイパネル及びその画素欠陥修正方法 - 特許庁 - OPTICAL DISK DRIVE HAVING ENVELOPE DEFECT DETECTION FUNCTION
包絡線異常検出機能を備えた光ディスクドライブ - 特許庁 - The processing means includes functions to extract the defect information on the identical defect imaged by different camera devices from the position information and output the clipped images (defect images) as to the extracted defect simultaneously to an identical display screen (defect time series display screen shown in the figure).
処理手段は、位置情報に基づき異なるカメラ装置で撮像された同一の欠陥についての欠陥情報を抽出し、その抽出した欠陥について切り出した画像（欠陥画像）を同一の表示画面（図に示す欠陥時系列表示画面）に同時に出力する機能を備えた。 - 特許庁 - Rank determination of the liquid crystal panel is performed based on a defect area of the irregular defect and average brightness detected in the irregular defect detection process (ST300) (rank determination process ST400).
ムラ欠陥検出工程（ＳＴ３００）にて検出されたムラ欠陥の欠陥面積、平均輝度に基づいて液晶パネルをランク判定する（ランク判定工程ＳＴ４００）。 - 特許庁 - To detect a defect on an optical disk more accurately.
光ディスク上のディフェクトをより正確に検出する。 - 特許庁 - To accurately evaluate the defect detection sensitivity of an inspection apparatus for a defect in a mask pattern by suppressing influences of the shift of a pattern defect created in a basic pattern from a design value.
基本パターンに作り込んだパターン欠陥の、設計値からのズレによる影響を抑えて、正確にマスクパターンの欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価する。 - 特許庁 - DEFECT PREVENTION APPARATUS OF SEALING PART OF FILM MATERIAL MANUFACTURING APPARATUS
フィルム材製造装置のシール部の不良防止装置 - 特許庁 - DEFECT MANAGEMENT OF HDD BY VARIABLE INDEX ARCHITECTURE
可変インデックス・アーキテクチャによるＨＤＤの欠陥管理 - 特許庁 - SURFACE DEFECT INSPECTING APPARATUS, SURFACE DEFECT INSPECTION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD USING THE INSPECTION METHOD
表面欠点検査装置、表面欠点検査方法およびその検査方法を用いた回路基板の製造方法 - 特許庁 - Then, a generation cause of the common defect is specified from a common defect distribution corresponding to the discrimination number.
そして、識別番号に対応する共通欠陥分布から、当該共通欠陥の発生原因を特定する。 - 特許庁 - To separate a low defect density film from a base substrate after growing the low defect density film on the base substrate.
ベース基板に低欠陥密度膜を形成した後低欠陥密度膜をベース基板から分離させること。 - 特許庁 - To form a low-defect density crystalline silicon film.
欠陥密度の小さい結晶性珪素膜を形成する - 特許庁 - TEST PATTERN WAFER FOR DEFECT INSPECTING DEVICE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND EVALUATION METHOD OF DEFECT INSPECTION APPARATUS USING IT
欠陥検査装置用テストパターンウエハ、その製造方法及びそれを用いた欠陥検査装置の評価方法 - 特許庁 - METHOD FOR EVALUATING CRYSTAL DEFECT OF SILICON SINGLE-CRYSTAL WAFER
シリコン単結晶ウエーハの結晶欠陥の評価方法 - 特許庁 - DEFECT INSPECTION DEVICE WITH CATADIOPTRIC OBJECTIVE LENS
反射屈折型対物レンズを用いた欠陥検査装置 - 特許庁 - To obtain a defect correcting apparatus capable of correcting a large-sized defect by efficiently polishing in an optimum sequence.
大型の欠陥について最適な順序で効率よく研磨処理できる欠陥修正装置を実現する。 - 特許庁 - When a defect is detected, the position of the defect is recorded as a relative position to the reference mark (step S107).
欠陥が検出された場合、その位置を基準マークからの相対位置として記録する（ステップＳ１０７）。 - 特許庁 - The defect correction method for a photomask includes removing a foreign matter defect on a photomask by use of a plurality of probes.
フォトマスク上の異物欠陥を複数のプローブを用いて除去するフォトマスクの欠陥修正方法である。 - 特許庁 - DEFECT EVALUATING DEVICE BY PLASMA OR ARC, AND EVALUATING METHOD
プラズマ・アークによる損傷評価装置と評価方法 - 特許庁 - To provide a press apparatus where the generation of forming defect based on operation defect is prevented, and to provide a method for controlling the same.
操作不良に基づく成形不良の発生を防止するプレス装置とその制御方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD AND PHOTOGRAPHIC SYSTEM FOR COMPENSATING DEFECT OF FILM UNIT
フィルムユニット欠陥を補償する方法及び写真システム - 特許庁 - OPTICAL DISK DEVICE AND DEFECT PROCESSING METHOD OF OPTICAL DISK
光ディスク装置及び光ディスクの欠陥処理方法 - 特許庁 - FEATURE DEFECT DETECTION DEVICE AND DOCUMENT PROCESSING DEVICE
形体欠陥検出装置および帳票加工装置 - 特許庁 - To diagnose whether a defect of the mobile terminal is caused by the mobile terminal itself or a defect in a network.
携帯端末の不具合が携帯端末自身の不具合なのか、ネットワークの不具合によるものかを診断する。 - 特許庁 - A defect generation date and time, the defect item, and an image data and an inspection result correlated with information thereof are stored, when inspection is carried out and when a defect is determined.
検査を実行し、不良判定がなされた場合、不良発生日時、不良項目、さらにこれらの情報に関連付けて、画像データ、検査計測結果を記憶する。 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING COLOR FILTER DEFECT, AND COLOR FILTER SUBSTRATE
カラーフィルタ欠陥の修正方法及びカラーフィルタ基板 - 特許庁 - METHOD FOR DETECTING SURFACE DEFECT OF DATA RECORDING DISK
情報記録用ディスクの表面欠陥検出方法 - 特許庁 - DEVICE FOR INSPECTING DEFECT OF FLAT PANEL DISPLAY AND ITS METHOD
フラットパネルディスプレイの欠陥検査装置およびその方法 - 特許庁 - DOT DEFECT DECISION DEVICE FOR DOT MATRIX DISPLAY UNIT
ドットマトリックス表示器におけるドット欠陥判定装置 - 特許庁 - The plurality of target defect clusters obtained in S101 are classified into a known group similar to the known defect cluster and an unknown group not similar to the known defect cluster (S102).
Ｓ１０１で得られた複数の対象欠陥クラスタを、既知欠陥クラスタに類似する既知グループと既知欠陥クラスタに類似しない未知グループとに分類する（Ｓ１０２）。 - 特許庁 - To provide a defect sensing method capable of surely detecting a defect existing in a film in a short time.
膜に存在する欠陥を短時間に確実に検出することが可能な欠陥センシング方法を提供する。 - 特許庁 - SURFACE DEFECT INSPECTING METHOD AND DEVICE
表面欠陥検査方法および表面欠陥検査装置 - 特許庁 - STAINLESS STEEL MINIMIZED IN DEFECT OR SURFACE COATING LAYER OF STAINLESS STEEL MINIMIZED IN DEFECT AND FORMED ON SUBSTRATE
欠陥の少ないステンレス鋼又は基体に形成されたステンレス綱からなる欠陥の少ない表面被覆層 - 特許庁 - In this case, preferably, a defect model corresponding to each type of welding defects is held, and by comparing the defect model with defect information corresponding to an actually detected welding defect, the type of the detected welding defect is identified and treatment corresponding to the identified result is performed.
この場合、溶接欠陥の種類ごとに対応する欠陥モデルを保持しておき、この欠陥モデルと、実際に検出された溶接欠陥に対応する欠陥情報とを比較することで、検出された溶接欠陥の種類を特定し、その特定結果に応じた処理を行うことが好ましい。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING LASER WELDING DEFECT
レーザー溶接欠陥検査装置、及び欠陥検査方法 - 特許庁 - CORRECTION OF SURFACE DEFECT BY INFRARED REFLECTION SCANNING
赤外線反射走査による表面欠陥の修正 - 特許庁 - To suppress or prevent transfer of a defect in a photomask.
フォトマスクの欠陥の転写を抑制または防止する。 - 特許庁 - DEFECT SECTION DETECTING APPARATUS USING ACOUSTIC EMISSION METHOD
アコースティックエミッション法を用いた欠陥部位検出装置 - 特許庁 - METHOD OF GROWING NITRIDE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE HAVING LOW DEFECT
低欠陥な窒化物半導体基板の成長方法 - 特許庁 - (E) The defect cross-section and the defect width of the defective portion of the inspected body are estimated based on the first and second groups of data for defect quantity estimation and on the first and second amplitudes.
（Ｅ）第１および第２の欠損量推定用データと、第１および第２の振幅とに基づいて、欠損部分の欠損断面積および欠損幅を推定する。 - 特許庁 - To provide a substrate with a defect identification marker in which a defect position is readily apparent even if a defect itself is not detected in a device process, and the defect position can be identified from the substrate itself even if the data of defect position information is not prepared separately.
デバイスプロセス工程でウェハの欠陥そのものを検出しなくても、欠陥位置が容易に分かり、欠陥位置情報のデータを別途用意しなくても、基板自体からその欠陥位置を識別することができる欠陥識別マーカー付き基板、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection method and an inspection device determining quickly whether a defect on a disk is a circumferential flaw or an island defect.
ディスク上の欠陥について円周疵か、島状欠陥かの判定を高速に処理することが可能な欠陥検査方法および検査装置を提供することにある。 - 特許庁 - The scattered light from the defect in the inspection range 22 is weaker than the scattered light from the defect in the inspection range 23, so that only a further large defect can be detected.
検査範囲２２の欠陥からの散乱光は検査範囲２３の欠陥からの散乱光よりも更に弱いから、より大きな欠陥のみが検出される。 - 特許庁 - To provide a defect inspection device capable of outputting the inspection result of the defect related to the whole of an inspection target surface even if there are many defects, and a defect inspection method.
欠陥が多くても検査対象面の全体についての欠陥の検査結果を出力可能な欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - The differential interface image of the surface of the substrate is supplied to a defect detection means (34), and a defect is detected.
基板表面の微分干渉画像は欠陥検出手段（３４）に供給されて欠陥が検出される。 - 特許庁 - An information recording device 110 comprises: a defect list updating unit 122 which updates a defect list registering a defect address showing a position of a defect area exists in an user area; a recording unit 113 which records information in an information recording medium 130 based on the updated defect list.
情報記録装置１１０は、ユーザ領域内に存在する欠陥領域の位置を示す欠陥アドレスが登録された欠陥リストを更新する欠陥リスト更新部１２２と、更新された欠陥リストに基づいて、情報記録媒体１３０に情報を記録する記録部１１３とを備えている。 - 特許庁
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