「Defect」を含む例文一覧(18306)

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  • METHOD FOR CORRECTING DEFECT ON COLOR FILTER SUBSTRATE, AND COLOR FILTER SUBSTRATE
    カラーフィルタ基板の欠陥修正方法およびカラーフィルタ基板 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING DEFECT OF CONDUCTOR PATTERN
    導電体パターンの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - 特許庁
  • DEFECT DETECTING CIRCUIT AND MAGNETIC DISK INSPECTING DEVICE USING THE SAME
    欠陥検出回路およびこれを用いる磁気ディスク検査装置 - 特許庁
  • To provide an analysis method of semiconductor defect and a system thereof.
    半導体不良解析方法およびそのシステムを提供する。 - 特許庁
  • DEFECT INSPECTION DEVICE OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, AND DEFECT INSPECTION METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT
    有機エレクトロルミネッセンス素子欠陥検査装置および有機エレクトロルミネッセンス素子および有機エレクトロルミネッセンス素子欠陥検査方法 - 特許庁
  • To obtain a higher quality image, without making the image unnatural due to white defect correction in a white defect correction circuit.
    白欠陥補正回路おいて、白欠陥補正により画像が不自然になることなく、より高画質な画像が得られるようにする。 - 特許庁
  • To provide a defect detecting device capable of detecting a defect at high resolution with significantly shorter inspection time.
    高い分解能で欠陥検出することができると共に検査時間を大幅に短縮できる欠陥検出装置を実現する。 - 特許庁
  • Then the electrical signal is converted into a mask image at an image forming circuit 54, so that a defect is detected at a defect detecting circuit 55.
    そして、画像形成回路５４においてマスク像に変換され、欠陥検出回路５５において欠陥が検出される。 - 特許庁
  • To prevent excessive defect determination from being caused by a defect of a testing device itself built in a semiconductor device having a built-in testing function.
    内蔵試験機能を有する半導体装置の内蔵試験機能自体の不良による過剰な不良判定を防止する。 - 特許庁
  • Evaluation points (elements) are created with respect to a set measurement region 342, and defect degree for each defect point is calculated.
    設定された計測領域３４２に対して、評価点（エレメント）が生成され、その各々についての欠陥度が算出される。 - 特許庁
  • In this case, the coded defect information is printed in a margin region of the defective sheet, and the printing defect can instantly be specified.
    このとき、不良シートの余白領域へコード化した欠点情報を印字し、瞬時に印刷欠点を特定することができる。 - 特許庁
  • A wafer, test object, is inspected by a wafer defect inspection part 11, and coordinate value data S11 are outputted from the wafer defect inspection part 11.
    検査の対象となるウエハがウエハ欠陥検査部11で検査され、該ウエハ欠陥検査部11から座標値データS11 が出力される。 - 特許庁
  • To provide a mask defect inspection apparatus, capable of detecting any defect of various kinds of patterns formed in a mask, at high sensitivity.
    マスク内に形成された各種のパターンの欠陥を高感度に検出することができるマスク欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • The defect removing device 1 moves a nozzle 9 of the suction device 7 to the positions of suction points 35 in the defect regions 33.
    欠陥除去装置１は、欠陥領域３３内の吸引点３５の位置に吸引装置７のノズル９を移動させる。 - 特許庁
  • To provide a defect detection apparatus and a defect detection method capable of shortening inspection time without sacrificing detection accuracy.
    検出精度を犠牲にすることなく、検査時間の短縮を図った欠陥検出装置、及び、欠陥検出方法を実現する。 - 特許庁
  • To provide a center defect prevention method for preventing a center defect attributed to an anvil used when a large-sized product is manufactured by cogging.
    本発明は、鍛伸にて大型製品を製造する際に使用する金敷による中心欠陥防止方法を提供する。 - 特許庁
  • The defect detection part 21 detects delivery defect including the double feed and non-feed of the sheet from the sheet loading base 37.
    不良検出部２１は、シート積載台３７からの用紙の重送及び不送りを含む繰り出し不良を検出する。 - 特許庁
  • The black defect is not conspicuous when white color is displayed and the defect part is not conspicuous when black color is displayed.
    この場合、白色表示時においては黒色欠陥が目立たず、また、黒色表示時においても欠陥部位が目立たない。 - 特許庁
  • To shorten a test time for detecting short circuit defect by detecting efficiently short circuit defect between a word line and another wiring.
    ワード線と他の配線間のショート不良を効率よく検出し、ショート不良を検出するためのテスト時間を短縮する。 - 特許庁
  • A scan start position of CCD data is set to zero, the number of pixels up to a defect is counted, and a defect detection position is retained in a memory.
    ＣＣＤデータのスキャン開始位置をゼロとして欠点までの画素数をカウントし、欠点検出位置をメモリに保持する。 - 特許庁
  • To improve convenience of a defect review device or an inspection system user by shortening the time required to create a report on defect review.
    欠陥レビューのレポート作成に要する時間を短縮し、欠陥レビュー装置あるいは検査システムユーザの利便性を向上する。 - 特許庁
  • To provide an underground structure defect evaluation apparatus capable of accurately evaluating the degree of a defect caused by corrosion.
    腐食による欠陥の程度をより精度よく評価することができる土中構造物の欠陥評価装置を提供する。 - 特許庁
  • OPTICAL ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT, APPARATUS FOR CORRECTING PHASE DEFECT IN OPTICAL ELEMENT, AND METHOD FOR CORRECTING PHASE DEFECT IN OPTICAL ELEMENT
    光学素子、光学素子の製造方法、光学素子の位相欠陥修正装置及び光学素子の位相欠陥修正方法 - 特許庁
  • To provide a defect inspection method and a defect inspection device for a honeycomb filter capable of an inspection in a short time.
    短時間での検査が可能な、ハニカムフィルタの欠陥を検査する方法、及び、ハニカムフィルタの欠陥の検査装置を提供する。 - 特許庁
  • With the defect detecting part detecting a defect and outputting its signal to the control discriminating part 19, an interruption processing is performed.
    パワー設定記憶部１４の第１から第１６のメモリ領域にレーザーダイオード１１のパワー設定値Ｓ１〜Ｓ１６を記憶する。 - 特許庁
  • To provide a substrate holding device that can cope with defect inspection or defect correction for eighth or tenth generation glass substrate.
    第８世代や第１０世代のガラス基板に対する欠陥検査や欠陥修正に対応できる基板保持装置を実現する。 - 特許庁
  • To provide a technique for inspecting a defect of a liquid crystal panel, which accurately detects the defect resulting from contamination getting mixed.
    液晶パネルの欠陥検査技術において、異物混入に起因する欠陥を精度高く検出する技術を提供する。 - 特許庁
  • To provide a defect inspection apparatus for a phase shift mask which is capable of surely detecting the defect, more particularly microdefects of the phase shift mask.
    位相シフトマスクの欠陥、特に微小欠陥を確実に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of growing an artificial quartz crystal having low linear defect density and the artificial quartz crystal having the low linear defect density.
    線状欠陥密度の低い人工水晶の育成方法、及び線状欠陥密度の低い人工水晶を提供する。 - 特許庁
  • To provide a defect inspection device which can detect a surface defect of a member having fine recessed and projecting parts on a surface thereof.
    表面に細かな凹凸を有する部材であってもその表面の欠陥を検出できる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • Or, it is registered to a secondary defect list to which the address of the defect found while recording information and the alternating address are registered.
    または、情報を記録中に発見された欠陥のアドレスとその交替アドレスとを登録する二次欠陥リストに登録する。 - 特許庁
  • To provide a defect inspection apparatus whose resolution and sensitivity to detect a defect are enhanced more by scanning the surface of a workpiece.
    ワークピース表面を走査して、欠陥を見つけるための解像度及び感度が、より向上した欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a defect inspecting device, with which the defect of a resist pattern on a metal sheet can be accurately and efficiently detected.
    本発明は、金属薄板上のレジストパターンの欠陥を精度よく効率的に検出できる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • Also, when short circuit parts are produced in the auxiliary capacitance part 13 between adjacent pixel electrodes 11, a luminous-dot defect can be made to be a dark-dot defect similarly.
    隣接する画素電極11間の補助容量部13に短絡部が発生した場合も同様に暗点欠陥にできる。 - 特許庁
  • To provide a defect analysis method for a semiconductor device that takes defect analysis of a plurality of devices formed on a wafer with high precision.
    ウェハに形成される複数の装置について高い精度で装置の不良解析を行う不良解析方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a defect inspecting apparatus capable of setting proper sensitivity rank for each proper inspection region and performing defect inspection.
    適切な検査領域毎に適切な感度ランクを設定して欠陥検査を行うことができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • The carbon dioxide fixing catalyst is obtained by providing oxygen defect type magnetite on the surfaces of inorganic porous particles and characterized by preferably providing oxygen defect type magnetite on the surfaces of inorganic porous particles.
    無機系多孔質粒子の表面に酸素欠陥型のマグネタイトが設けられてなる二酸化炭素固定化触媒。 - 特許庁
  • To easily set the inspection conditions in a defect inspection apparatus for inspecting defect in patterns of a semiconductor device.
    半導体デバイスのパターンの欠陥を検査する欠陥検査装置において、検査条件の設定を容易に行えるようにする。 - 特許庁
  • Quality determination between a micro defect and a macro defect is performed relative to the data by a data processing device 12, to thereby perform substrate quality determination.
    このデータをデータ処理装置１２により、ミクロ欠陥及びマクロ欠陥の良否判定を行い、基板良否判定を行う。 - 特許庁
  • The photodetector 5 detects thereby only scattered light due to a defect 10c in the wafer 10 when the defect 10c exists in the wafer 10.
    光検出器５は、半導体ウェハに欠陥１０ｃがあった場合のその欠陥１０ｃによる散乱光のみを検出する。 - 特許庁
  • To provide a defect inspection apparatus for a phase shift mask which is capable of surely detecting the defect, more particularly microdefects of the phase shift mask.
    位相シフトマスクの欠陥、特に微小欠陥を正確に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • The thermal oxide film is formed in a shape surrounding a defect in the silicon layer and reflecting or transcribing the defect.
    熱酸化膜は、シリコン層内の欠陥を取り囲み、当該欠陥を反映した又は転写した形状として形成される。 - 特許庁
  • To provide a defect inspection device, capable of implementing defect inspection with correct, high accuracy, and less loss in the signal intensity.
    信号強度のロスが少なく、正確で精度の高い欠陥検査を行うことができる欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device furnished with a defect information storage section where the defect information can be accumulated, with a small capacity.
    小容量で不良情報の蓄積をすることが可能な不良情報格納部を備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • This can provide the liquid crystal display device in which the defect (orientation defect) representing other oriented states than the blue phase is suppressed.
    これによって、ブルー相以外の配向状態を示す欠陥（配向欠陥）を抑制した液晶表示装置を作製する。 - 特許庁
  • None of the provisions shall exempt the seller from liability for the defect in the case the goods have a hidden defect.
    商品に隠れた瑕疵がある場合に販売業者が当該瑕疵について責任を負わない旨が定められていないこと。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • To provide a method by which a crystal defect can be restored without causing temperature rise, and a method by which the crystal defect of nonmetal can be easily controlled.
    温度上昇を伴わずに結晶欠陥の回復を行うこと、非金属の結晶欠陥を容易に制御すること。 - 特許庁
  • CZ METHOD BASED, COOLER EQUIPPED SILICON SINGLE CRISTAL SILICON PULLING-UP DEVICE WITH IMPROVED EFFECT OF DEFECT DISPLACEMENT BY DASHNECK METHOD SILICON SINGLE CRYSTAL PULLING-UP DEVICE BASED ON CZ METHOD AND PROVIDED WITH COOLER, ENHANCED IN ELIMINATING DEFECT IN DASHNECK METHOD
    ダッシュネック法による欠陥排除効が高められたクーラー付ＣＺ法シリコン単結晶引上げ装置 - 特許庁
  • To provide a defect inspecting device capable of reducing a loss of signal intensity, and capable of inspecting a defect accurately and precisely.
    信号強度のロスが少なく、正確で精度の高い欠陥検査を行うことができる欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁
  • When there is the second reception signal whose crest value is more than the threshold, the determination part determines the defect candidate signal as a defect signal.
    判定部は、波高値が閾値以上の第２受信信号がある場合、欠損候補信号を欠損信号として判定する。 - 特許庁
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