「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 52 53 54 55 56 57 58 59 60 .... 366 367 次へ＞- In the small surface irregularity defect detection method detecting the small surface irregularity defect of a magnetic metal object to be inspected, physical quantity resulting from a distortion of the defect part in the object to be inspected is measured, then using the measured value, the surface defect is detected.
磁性金属被検体の微小凹凸表面欠陥を検出する微小凹凸表面欠陥の検出方法において、前記被検体の欠陥部の歪に起因する物理量を測定し、その測定値を利用して前記表面欠陥を検出する。 - 特許庁 - To detect an existing defect on a substrate or a panel, a defect confirmed after a mounting process, or a possible future defect, and to correct them according to detected defect modes, in an active matrix substrate or an active matrix liquid crystal display panel.
アクティブマトリクス基板、又はアクティブマトリクス液晶パネルにおいて、基板又はパネルに発生している欠陥、実装工程後に確認される欠陥、或いは将来欠陥となる恐れのある欠陥を検出し、検出した欠陥モードに応じた修正を行う。 - 特許庁 - To provide a solid-state image pickup device, a pixel defect inspection device and a pixel defect correction method that can properly correct a defect of a remarkable area in an image screen and satisfy a requirement for effective utilization of a defect correction performance so as to obtain an excellent image.
画面での目立つ領域の欠陥補正を的確に行い、かつ欠陥補正能力の有効利用という要求を満足させて良好な画像を得ることのできる固体撮像装置、画素欠陥検査装置および画素欠陥補正方法の提供。 - 特許庁 - In this process, a defect is detected by comparing a basic inspection image obtained from the basic pattern formed in the basic pattern region of the mask for inspection of pattern defect detection sensitivity with a defect reference image produced by image processing based on the design data of the defect pattern.
この際、パターン欠陥検出感度検査用マスクの基本パターン領域に形成された基本パターンから取得した基本検査画像と、欠陥パターンの設計データを基に画像処理により生成した欠陥参照画像とを、比較して欠陥を検出する。 - 特許庁 - Accordingly, the defect correction method of the defective part is generated based on the position information, characteristic information, defect classification, and substrate design information of the defective part so as to make the defect correction by operating a defective correction mechanism 4 based on the generated defect correction method.
そして、欠陥部位の位置情報、特徴情報、欠陥種別及び基板設計情報に基づいて欠陥部位の欠陥修正方法を生成し、生成された欠陥修正方法に基づき欠陥修正機構４を動作させて欠陥修正を行う。 - 特許庁 - To provide a production method for a mask blank-use translucent substrate, a mask blank and an exposing mask to prevent occurrence of a transfer pattern defect and a mask pattern defect by correcting a recessed defect on the surface of a translucent substrate, and to provide a method of correcting a defect in an exposing mask.
透光性基板表面にある凹欠陥を修正して転写パターン欠陥やマスクパターン欠陥の発生を防止するマスクブランク用透光性基板、マスクブランク及び露光用マスクの製造方法、並びに露光用マスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern defect repairing device where a problem when a laser beam is adopted as a light source of an inspection device of a pattern defect, the defect of a pattern is inspected with higher resolution and the defect of the mask pattern can highly precisely be repaired.
レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern defect repair apparatus capable of repairing the defect of a higher fineness mask pattern by solving the problem of the case a laser beam is employed as a light source for an inspection apparatus for the pattern defect and by inspecting the defect of the pattern with higher resolution.
レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁 - A correction control part 4 compares pixel defect detection signals with respect to multiple frames, determines that the pixel defect is the true one when the same kind of pixel defects exist at the same pixel positions of the multiple frames, and indicates the correction of the pixel defect to a pixel defect correction part 5.
補正制御部４は、複数フレームに対する画素欠陥検出信号を比較し、複数フレームの同じ画素位置に同種の画素欠陥が存在している場合は真の画素欠陥と判定し、画素欠陥補正部５に対し画素欠陥の補正を指示する。 - 特許庁 - The CPU (central processing unit) refers to the defect pixel information stored in the memory to set the light-receiving element group having many OB defect pixels to lower sensitivity and the light-receiving element group having a few OB defect pixels to higher sensitivity.
ＣＰＵは、メモリに記憶された欠陥画素情報を参照して、ＯＢ欠陥画素の多い受光素子群を低感度、ＯＢ欠陥画素の少ない受光素子群を高感度に設定する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection method and a defect inspection device for a metal component, capable of detecting a defect existing in a surface and an inside of the metal component, without using a fluid such as water.
水等の液体を用いること無く、金属部品の表面及び内部に存在する欠陥を検査することが可能な金属部品の欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - Even the small rugged defect which was difficult to identify in a conventional polarization type surface defect inspection device can thereby be identified with high accuracy, not to mention the small pattern-like defect.
これによって小さな模様状欠陥は勿論、従来の偏光式表面欠陥検査装置では識別が困難であった小さな凹凸欠陥についても高精度に識別することができる。 - 特許庁 - Model defect reproduction information for reproducing the image of the model defect prepared in the preparation process ST100 is stored in a model defect reproduction information storage process ST200.
モデル欠陥再現情報記憶工程ＳＴ２００においてモデル欠陥作成工程ＳＴ１００にて作成されたモデル欠陥の画像を再現するためのモデル欠陥再現情報を記憶する。 - 特許庁 - When a defect (for example, operational defect of a starter 2 or the defect of a belt 5 leading to the breakage of the belt) is detected in this system, an economical running ECU performs the measures against these defects as follows.
エコランＥＣＵは、本システムに異常（例えばスタータ２の作動異常、あるいはベルト切れに至る様なベルト５の異常等）が検出されると、その異常発生に対する以下の処置を実行する。 - 特許庁 - To provide a processing system for defect information and a processing method for defect information which are capable of analyzing defect information of products on a production line and quickly notifying an operator of the analyzed result.
製造ラインにおける製品の不具合情報を解析し、解析結果を作業者に速やかに伝達することができる不具合情報の処理システム及び不具合情報の処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a steel sheet defect inspection device capable of identifying the kinds of defects generated on a surface and in a surface layer, a defect generated in an inside, and a hole defect.
本発明は、表面及び表層に発生する欠陥、内部に発生する欠陥、及び穴欠陥の種類を識別することが可能な鋼板欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To properly inspect the defect in a solid-state image pickup element without being affected by a dot defect included in a small signal in the case of inspecting the defect by using the small signal outputted from the solid-state image pickup element.
固体撮像素子から出力される小信号を用いて欠陥検査を行う場合に、前記小信号に含まれる点状の欠陥の影響を受けることなく適正な検査を行う。 - 特許庁 - When the valve closure defect is similarly detected even with the drain valve 20, the drain valve is driven to be forcibly opened and closed several times and if the cause for the valve closure defect is the bite of the foreign matter, the foreign matter is removed and the valve closure defect is automatically repaired.
排水弁２０についても、同様に閉弁不良が検知されたら強制的に開閉駆動され、異物の噛み込みによる閉弁不良であれば、異物が除去されて自動修復される。 - 特許庁 - On a detailed display picture plane for a defect, images and displaying order of the images are determined/displayed for displaying so that the features of the defect are saliently shown based on the inspection information, the kind of defect, etc.
また、欠陥の詳細表示画面において、検査情報や欠陥種類等を基に、その欠陥の特徴を顕著に表すように表示する画像やその画像の表示順序を定め、表示する。 - 特許庁 - The defect position is acquired (step 120) by comparing these low magnification images (6) and (7) with each other and the electron beam is deflected to irradiate the defect position to acquire the composition spectrum of the defect (step 121).
そして、これら低倍画像(６），(７）を比較することにより、欠陥位置を取得し（ステップ１２０）、電子ビームを偏向させてこの欠陥位置に照射し、この欠陥の組成スペクトルを取得する（ステップ１２１）。 - 特許庁 - To provide a self discharge defect detection device and a self discharge defect detection method for a secondary battery that can detect self discharge defect without accelerating depletion of the battery in a short time.
短時間で、かつ、電池の劣化を加速させることなく自己放電不良を検出することができる二次電池の自己放電不良検出装置および自己放電不良検出方法を提供する。 - 特許庁 - A p-side crystal defect layer 108 is also formed similarly, and the p-side crystal defect layer 108 and n-side crystal defect layer 107 are formed contiguously and alternately as shown in Fig.1(a).
ｐ側結晶欠陥層１０８も同様であり、図１（ａ）に示されるように、ｐ側結晶欠陥層１０８とｎ側結晶欠陥層１０７とは隣接して交互に形成されている。 - 特許庁 - To analyze a defect distribution state based on defect data detected by an inspection apparatus and easily identify a defect reason due to an apparatus or a process in a semiconductor wafer manufacturing process.
半導体ウェーハの製造工程において、検査装置によって検出された欠陥データに基づいて欠陥分布状態解析を行い、装置あるいはプロセス起因の不良原因の特定を容易にする。 - 特許庁 - When the defect occurs when data are written in a predetermined recording medium using a plurality of pickups, a pickup which detects the defect reports the occurrence of the defect.
所定の記録媒体に、複数のピックアップで、データの書き込みを行っているときに、ディフェクトが発生した場合、ディフェクトを検出したピックアップから、ディフェクトが発生したことに関する通知がある。 - 特許庁 - An image processing section 12 creates defect feature information showing the feature of the feature of a defect from the image information and decides an irradiation condition when emitting a laser beam according to the defect feature information.
画像処理部１２は、画像情報から、欠陥の特徴を示す欠陥特徴情報を生成し、欠陥特徴情報に基づいて、レーザ光を照射する際の照射条件を決定する。 - 特許庁 - Since the gradation of the test pattern displayed on the screen is changed by a transmission defect of each bit, the defect of the low-order bit and the defect of the high-order bit can be visually judged on the single screen.
このとき、各ビットの送信不良によって、画面に表示されるテストパターンの階調は変化するため、一画面上で上位ビットの不良と、下位ビットの不良を視覚的に判断できる。 - 特許庁 - To attain a stable inspection for a defect even though sensitivity in the defect inspection is different for every inspection head, in the defect inspection method of a disk storage medium such as a magnetic disk.
磁気ディスクなどのディスク記憶媒体の欠陥検査方法に関し，検査ヘッドごとのＤｅｆｅｃｔ検出感度に差があっても，安定した欠陥検査を可能にすることを目的とする。 - 特許庁 - To provide an MLC display having no defect of a conventional technique or only the low level defect even if the defect is present, simultaneously having extremely high specific resistance value, and based on ECB and VA effects.
従来技術の欠点を有していないか、または有していても小さい程度のみであり、同時に極めて高い比抵抗値を有する、ＥＣＢおよびＶＡ効果に基づくＭＬＣディスプレイを提供する。 - 特許庁 - The defect pixel detection section 112b conducts defect pixel discrimination on the basis of priority, where defect pixel objects resident adjacent to each other with lower priority are not discriminated to be defective.
欠陥画素検出部１１２ｂでは、複数の欠陥画素候補が隣接した場合には優先順位の低いものは欠陥と判定しないという、優先度に基づく欠陥画素判定が行われる。 - 特許庁 - (B) In cases where a guided wave has a second frequency, a second group of data for defect quantity estimation are previously found which show relations among the amplitude of a reflected wave, a defect cross-section, and a defect width.
（Ｂ）ガイド波が第２の周波数を有する場合における、反射波の振幅と、欠損断面積および欠損幅との関係を示す第２の欠損量推定用データを予め求める。 - 特許庁 - The evaluation image 52 is binarized to a defect region 52a and a normal region 52b, and the maximum intensity information of the defect region 52a of the evaluation image 52 is outputted to a defect determination circuit 55.
評価画像５２は、欠陥領域５２ａと正常領域５２ｂとに二値化され、評価画像５２の欠陥領域５２ａの最大強度情報は、欠陥判定回路５５に出力される。 - 特許庁 - To provide a defect analysis method and a defect analysis apparatus for a semiconductor apparatus, and a computer program for the same capable of determining defect points, without the comparison with a non-defective product in a noncontact manner by the defective product itself.
非接触で良品との比較なしに不良品単独で不良箇所を判定できる半導体装置の不良解析方法、不良解析装置、及びそれらのコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁 - (A) In cases where a guided wave has a first frequency, a first group of data for defect quantity estimation are previously found which show relations among the amplitude of a reflected wave, a defect cross-section, and a defect width.
（Ａ）ガイド波が第１の周波数を有する場合における、反射波の振幅と、欠損断面積および欠損幅との関係を示す第１の欠損量推定用データを予め求める。 - 特許庁 - The detection device detects from an obtianed imaged image, defect pixel candidates in each classification, by using each different detection condition in each classification of a point defect or a line defect detected from the imaged image.
また、検出装置は、取得した撮像画像から、該撮像画像から検出する点欠陥又は線欠陥の種別ごとに異なる検出条件を用いて種別ごとに欠陥画素候補を検出する。 - 特許庁 - The media defect detection circuit 112 can operate to identify a media defect, and the anchor fixing circuit 114 can operate to identify a location based on the criterion of the media defect.
媒体欠陥検出回路１１２は、媒体欠陥を識別するように動作可能であり、アンカ固定回路１１４は、その媒体欠陥を基準とするロケーションを識別するように動作可能である。 - 特許庁 - The projecting defect Wi of the measuring object W is detected as a white defect image in the image of the dark field section W_b imaged by the line sensor camera 2, but the recessed defect is not detected.
被測定物Ｗの凸状欠陥Ｗｉは、ラインセンサカメラ２によって撮像された暗視野部Ｗ_b の画像の中に白い欠陥画像として検出されるが、凹状欠陥は検出されない。 - 特許庁 - The defects of the wafer W are observed by the defect observation apparatus 3 based on the defect positioning data so as to identify defects, and the identified result is stored in a memory as an initial defect identification data.
次いで、欠陥観察装置３により欠陥位置データを基にしてウェハＷの欠陥を観察し、欠陥の識別を行い、その識別結果を初期欠陥識別データとしてメモリに記憶する。 - 特許庁 - A black defect region 3 is recognized by the observation of AFM, and anodic oxidation is repetitively performed only on the black defect region 3 in selective scanning while a height is monitored in the middle of work and the black defect is removed.
AFMの観察で黒欠陥領域3を認識し、加工途中で高さをモニターしながら選択的な走査で黒欠陥領域3のみ繰り返し陽極酸化を行って黒欠陥を除去する。 - 特許庁 - Further, defect inspection data wherein the defect inspections ensitivity and defect inspection positions are defined for the specific pattern of the mask having a plurality of inspection areas are prepared and photomask inspection is performed according to the data.
また、複数の検査領域を有するフォトマスクの所定のパターンに対する欠陥検査感度と欠陥検査位置とを定義した欠陥検査データを用意しこのデータに基づいてフォトマスク検査を行う。 - 特許庁 - The defect as the object is changed, and, with the registered rectangular region as the object, in the case the rectangular region comprises the defect, the longitudinal and transverse cutter lines are set so as to evade the defect.
対象となる欠点を変更し、登録された矩形領域を対象として、当該矩形領域がその欠点を含む場合には、この欠点を避けるように縦および横のカッター線を設定する。 - 特許庁 - When the defect of the track such as the scratch is formed in the optical disk 10, the defect is detected with a defect detecting part 16a in an RF amplifier 16, and a detection signal is supplied to a servo signal processing part 18.
光ディスク１０に傷などのトラック欠陥が生じた場合、ＲＦアンプ１６内のディフェクト検出部１６ａで検出し、検出信号をサーボ信号処理部１８に供給する。 - 特許庁 - To provide a substrate defect inspection method and a substrate defect inspection system that can grasp accurately how a defect occurred in a certain process affects the subsequent processes.
ある工程で発生した欠陥が後の工程にどの程度影響を与えているかを正確に把握することができる基板の欠陥検査方法および基板の欠陥検査システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a detection method of a defect caused by chemical solution capable of detecting foreign matter in the chemical solution causing such a fine defect undetectable by a conventional defect inspection device of a resist pattern.
従来のレジストパターンの欠陥検査装置では検出不可能となるほど微細な欠陥の起因となる薬液中の異物の検出が可能な、薬液起因の欠陥検出方法を提供すること。 - 特許庁 - To realize a defect inspection system enabling further efficient production management by sharing inspection result data by the whole production line, and easy recognition of the details of a defect detected by defect inspection.
生産ライン全体で検査結果データを共有してより効率的な生産管理ができるとともに、欠陥検査で検出された欠陥の詳細を容易に認識できる欠陥検査システムを実現する。 - 特許庁 - Even when a defect occurs in the photoelectric conversion substrate 12, a radiation image fitting in a specification in relation to the defect can be acquired by cutting a part causing the generation of a defect signal.
光電変換基板12で欠陥が発生した場合でも、欠陥信号を発生させる原因となっている箇所を切断することで、欠陥に関して規格内に収まる放射線画像を取得できる。 - 特許庁 - This method is provided with a process for adjusting defect detection sensitivity so as to detect the defect in the desired size while using a standard sample prepared by programming the size and position of the defect beforehand.
本発明は、予め欠陥の大きさと位置をプログラムして作製した標準試料を用いて所望の大きさの欠陥を検出するように欠陥検出感度を調整する工程を備えている。 - 特許庁 - To provide a learning-type defect detection device, method and program, capable of maintaining the accuracy of defect detection regardless of the size of a defect generated in an inspection object.
検査対象物に発生する欠陥の大きさにかかわらず欠陥の検出精度を維持可能な学習型の欠陥検出装置、欠陥検出方法および欠陥検出プログラムを提供する。 - 特許庁 - Judgment of defect is performed at the time without request of recording or readout, avoiding using of a recording position with possibility for generating the error repeatedly by temporary defect registration of a defect temporary registration means 4.
ディフェクト仮登録手段４の仮のディフェクト登録によりエラーを繰り返し生ずる恐れのある記録場所の使用を避け、ディフェクトの判定を記録や読み出しの要求のない時に行う構成にした。 - 特許庁 - To provide a defect detection device for an optically transparent film, improving a detection rate and a detection efficiency of a defect of the optically transparent film, and suppressing erroneous detection of a defect.
光透過性フィルムの欠陥の検出率及び検査効率を向上すると共に、欠陥の誤検出を抑制することができる光透過性フィルムの欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a nondestructive defect detection device for a thin sheet capable of detecting a defect generated on the thin sheet in a short time, and detecting even a fine defect generated on the thin sheet.
薄板に発生した欠陥を短時間で検出することができるとともに、薄板に発生している微細な欠陥までも検出することが可能な薄板の非破壊欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁
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