「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 46 47 48 49 50 51 52 53 54 .... 366 367 次へ＞- When a new pixel defect is detected after shipping, pixel defect information detected anew is added without erasing pixel defect information added in the past.
出荷後に新たに画素欠陥を検出した場合には、追記する時点より過去に追記された画素欠陥情報を消去することなく、新たに検出された画素欠陥情報を追記する。 - 特許庁 - METHOD OF MEASURING HUMAN C TERMINAL ARGININE DEFECT TYPE C3a CONCENTRATION, POLYPEPTIDE FOR DETECTING C TERMINAL ARGININE DEFECT TYPE C3a, AND HUMAN TERMINAL ARGININE DEFECT TYPE C3a CONCENTRATION MEASUREMENT KIT
ヒトＣ末端アルギニン欠損型Ｃ３ａ濃度測定方法、Ｃ末端アルギニン欠損型Ｃ３ａ検出用ポリペプチド、及びヒトＣ末端アルギニン欠損型Ｃ３ａ濃度測定キット - 特許庁 - Since the number of times of a fetching operation by the continuous defect is limited, defect image data due to other single signals can be fetched, and a fetching oversight in a single defect image is reduced.
連続欠陥による切り出し回数が制限される分、他の単発信号による欠陥画像データが切り出し可能になり、単発欠陥画像の取りこぼしが少なくなる。 - 特許庁 - If the recording medium 10 is not yet finalized, every time the defect management information is updated, the updated defect management information is recorded into any one of the plurality of temporary defect management areas.
記録媒体１０をファイナライズする前は、ディフェクト管理情報が更新される度に、更新されたディフェクト管理情報を複数の一時的ディフェクト管理エリアのいずれかに記録する。 - 特許庁 - To provide a nondestructive defect inspection system capable of detecting automatically the presence of a defect or a hole in an inside, and a position thereof, in the nondestructive defect inspection system using an X-ray.
Ｘ線を用いた非破壊欠陥検査システムであって、内部の欠損や空孔の有無および位置を自動的に短時間で検出する非破壊欠陥検査システムを提供する。 - 特許庁 - A defect forming point calculation part 18d calculates a defect forming point forming the contour of the defect formed in the measurement object based on the reference point and the reference curve.
欠損構成点算出部１８ｄは、基準点および基準曲線に基づいて、計測対象物に形成された欠損の輪郭を構成する欠損構成点を算出する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for visual examinination capable of clearly distinctly detecting whether a defect is a defect due to the same material as the stock or a defect due to a material different from the stock.
素材と同じ材質による欠点であるのか、または素材と異なる材質による欠点であるのか、を明確に区別して検出することができる外観検査装置とする。 - 特許庁 - To provide a defect detecting method and defect detecting device of a press component capable of automatically, certainly detecting a defect such as crack in a pressing process.
プレス工程におけるクラックなどの欠陥を、自動的に確実に検出することを低コストで実現可能なプレス部品の欠陥検出方法、及び欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a honeycomb filter which enables detection of a defect point and defect cause without installing a device for detecting a defect of the honeycomb filter on the downstream of the honeycomb filter.
ハニカムフィルタの下流側にハニカムフィルタの欠陥を検出するための装置を配置することなく、欠陥箇所及び欠陥原因を検出することが可能なハニカムフィルタを提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation detector without image defect and high quality by reducing the defects of fluorescent substance under layer by suppressing the pin hole defect and projection defect in the fluorescent substance under layer.
蛍光体下地層のピンホール欠陥や突起欠陥を抑制して蛍光体層の欠陥を少なくし、画像欠陥のない高品位な放射線検出装置を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR PREDICTING AND DETECTING DEFECT IN CAST SLAB, METHOD FOR MANUFACTURING THE CAST SLAB, DEVICE FOR PREDICTING AND DETECTING DEFECT IN THE CAST SLAB, AND CONTINUOUS CASTING APPARATUS HAVING THE DEVICE FOR PREDICTING AND DETECTING DEFECT IN THE CAST SLAB
鋳片の欠陥予測検知方法、鋳片の製造方法、鋳片の欠陥発生予測検知装置、該鋳片の欠陥発生予測検知装置を備えた連続鋳造設備 - 特許庁 - To automatically discriminate whether a defect is a short (short- circuit), open (disconnection) or the defect of contamination deposition (dust) in the case that the defect is present on a pattern formed on an inspected body surface.
被検査体表面に形成されたパターンに欠陥が有る場合に、その欠陥がショート（短絡）、オープン（断線）、または異物付着の欠陥（ダスト）であるか否かを自動的に判別すること。 - 特許庁 - To detect a defect inside a substrate or on its back regardless of the depth from the substrate surface, and to detect a defect on the substrate surface and discriminate it from the defect inside the substrate or on its back.
基板の内部又は裏面の欠陥を基板の表面からの深さに関わらず検出し、かつ基板の表面の欠陥を検出して基板の内部又は裏面の欠陥と区別する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection system that a degree of finish accuracy necessary for a circuit operation also can extract a defect produced at the same time, and to provide a defect inspection method.
回路動作上要求される仕上がり精度の高低も相まって発生する欠陥を抽出することができる欠陥検査システム及び欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a surface defect inspection method and apparatus capable of detecting a minute surface defect and setting and changing in accordance with the depth of the minute surface defect, a criterion for determining the quality of an object under test.
微細な表面欠陥を検出し、さらには微細な欠陥の深さに基づいて被検査物の良否の判定を設定、変更できる表面検査方法及び装置を得る。 - 特許庁 - To provide an evaluating method of an internal defect of a sample capable of exactly evaluating the existence of the defect, even when the sample has the defect even at a position considerably deep from the surface.
表面より十分に深い位置にまで欠陥を有する試料であっても、欠陥の有無を的確に評価できる試料内部欠陥の評価方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a dark field illumination device and a defect detection device capable of observing and detecting a defect in preferable conditions by a simple adjustment corresponding to the kind of an inspection sample or the direction of the defect.
検査試料の種類や欠陥の方向に応じて、簡単な調整でその欠陥を好条件で観察、検出できる暗視野照明装置、及び、欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁 - Subsequently, the defect observation apparatus 3 forms a primary defect position correction expression for optimizing a defect position at the detection coordinate system, on the basis of the position deviation amount of each measurement point.
続いて、欠陥観察装置３は、各測定ポイントの位置ずれ量に基づき、検出座標系での欠陥位置を適正化するための１次の欠陥位置補正式を作成する。 - 特許庁 - To provide a defect detail specifying device of a rotating speed detection device allowing a proper measure to be taken according to the defect detail by specifying the defect detail of the rotating speed detection device.
回転速度検出装置の異常内容を特定して同異常内容に応じた適切な処置を採りえる回転速度検出装置の異常内容特定装置を提供すること。 - 特許庁 - The implantable prosthesis 20 for an anatomical defect, such as a tissue or muscle defect, promotes tissue or muscle growth into the prosthesis and subsequently strengthens the area of the defect.
プロテーゼ内への組織または筋肉の成長を促進し、その後に欠損領域を補強する組織または筋肉の欠損などの解剖学的欠損用の植込み型プロテーゼ２０。 - 特許庁 - To access a defect position quickly and surely when a defect on a semiconductor wafer detected by a defect inspection apparatus is reviewed and analyzed by means of a charged beam system.
荷電ビーム装置で欠陥検査装置で検出された半導体ウェハの欠陥をレビュー，分析するに際し、欠陥位置へのアクセスが迅速かつ的確に行なうことを可能にする。 - 特許庁 - An implantable prosthesis (20) for an anatomical defect, such as a tissue or muscle defect, that promotes tissue or muscle growth into the prosthesis and subsequently strengthens the area of the defect.
プロテーゼ内への組織または筋肉の成長を促進し、その後に欠損領域を補強する組織または筋肉の欠損などの解剖学的欠損用の植込み型プロテーゼ（２０）。 - 特許庁 - A different method for selecting defects for defect analysis includes selecting defects having the greatest diversity of defect characteristic(s) for defect analysis.
欠陥解析のために欠陥を選択する別の方法は、欠陥解析のために、欠陥特性（１つ又は複数）のうち、もっとも多様なものを有する欠陥を選択することを含む。 - 特許庁 - To realize high-quality defect correction of a photomask without leaving a halo component or re-deposition in the mask defect correction using ion beams or the mask defect correction using electron beams.
イオンビームを用いたマスク欠陥修正や電子ビームを用いたマスク欠陥修正に対して、ハロー成分や再付着のない高品位なフォトマスクの欠陥修正を可能にする。 - 特許庁 - To provide an edge defect detection method and a detection device capable of detecting a defect only from a photographed image, and detecting accurately even a defect near the edge.
撮像画像のみから欠陥を検出することができ、エッジ付近における欠陥であっても精度よく検出することができるエッジ欠陥検出方法、及び検出装置の提供。 - 特許庁 - To provide a disk drive which is not affected by a reading defect by storing a processing signal in a normal state all the time and by substituting it for the above reading defect when the reading defect of a disk is detected.
正常時の処理信号を常に格納しておき、ディスクの読取不良（ディフェクト）を検出するとこれを代用することで、ディフェクトの影響を受けないディスク装置を提供。 - 特許庁 - To provide a pattern defect detector and a pattern defect detecting method capable of detecting a pattern defect without generating detection missing, and allowing the detection without lowering a detection speed, and without separating a defective area.
パターンの欠陥を漏れなく検出し、検出速度を低下させず、欠陥領域を分離させずに検出可能なパターン欠陥検出装置及びその方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect position information generation device and the like for enabling an inspector to speedily identify a defect part in a long sheet material without directly marking the defect part.
欠陥箇所に直接マーキングすることなく、検査官が長尺シート材における欠陥箇所をすみやかに特定することのできる欠陥位置情報生成装置等を提供する。 - 特許庁 - A defect detecting algorithm is applied to the image data to extract a defect pixel by a defect extracting part 40, which is stored as a black flaw position in a second area of the first storing part 20.
該画像データに欠陥抽出部４０で欠陥検出アルゴリズムを適用して欠陥画素の抽出を行い、黒きず位置として第１記憶部２０の第２領域に格納する。 - 特許庁 - When acquiring an image of a position specified by position information of a defect registered in the defect detection data by the imaging device, as for the repeated defect, control is performed, so as not to acquire repeatedly the image of the position of the repeated defect.
欠陥検出データに登録されている欠陥の位置情報で特定される位置の画像を、撮像装置により取得する際に、重複欠陥については、当該重複欠陥の位置の画像を重複して取得しない制御を行う。 - 特許庁 - A defect classification processing section 222 classifies the defects, by what a position of the defect is included in which region of the defined regions with regard to defect data 133 (233) sampled from the defects obtained at a defect-reviewing device 10.
欠陥分類処理部２２２は、欠陥レビュー装置１０で取得された欠陥からサンプリングしたサンプリング欠陥データ１３３（２３３）について、その欠陥の位置が前記定義された領域のどの領域に含まれるかによって、欠陥を分類する。 - 特許庁 - A verification part 6, after obtaining the defect relief conditions from the defect relief condition storage part 5 via the defect relief condition generation part 4, verifies the description conditions and informs the defect relief condition generation part 4 of the verification result.
検証部６は、不良救済条件作成部４を介して不良救済条件記憶部５から不良救済条件を取得したのち、その記述内容を検証してその検証結果を不良救済条件作成部４に通知する。 - 特許庁 - A defect judgement circuit 14 repeats the judgement of the pixel defect on the basis of address information stored in the position memory circuit 13, decides the address information of the pixel defect from the continuity of the judgement result and registers it in a defect registration circuit 15.
位置メモリ回路１３に記憶されたアドレス情報に基づいて欠陥判定回路１４が画素欠陥の判定を繰り返し、その判定結果の連続性から画素欠陥のアドレス情報を決定し、欠陥登録回路１５に登録する。 - 特許庁 - According to the present invention, dry etching is performed on the condition that the etching rate of Si is higher than that of SiO_2, a crystal defect is actualized as a protrusion (convex defect), and a defect caused by processing is actualized as a pit (concave defect).
本発明によれば、ＳｉＯ_２よりもＳｉのエッチング速度が大きい条件でドライエッチングを施していることから、結晶欠陥については突起（凸型の欠陥）として顕在化し、加工起因欠陥についてはピット（凹型の欠陥）として顕在化する。 - 特許庁 - A defect element pair determining part 53 performs Delaunay triangulation with the typical point of the respective defect elements as base point, and determines a defect element pair constituted of the defect elements of both end points of the respective sides that constitute a plurality of triangles.
欠陥要素ペア決定部５３では各欠陥要素の代表点を母点としてドローネ三角形分割を行い、複数の三角形を構成する各辺の両端点の欠陥要素により構成される欠陥要素ペアが求められる。 - 特許庁 - The device 11 for indicating a defect of a web comprises a defect detecting part 32 to detect a defect of a semifinished web 21 which is running and a printing part 34 to print a sign on the semifinished web 21 based on a detection signal from the defect detecting part 32.
ウエブの欠陥標示装置１１は、走行中の半製品ウエブ２１の欠陥部を検出する欠陥検出部３２と、欠陥検出部３２からの検出信号に基づいて、半製品ウエブ２１に記号を印字する印字部３４と、を有する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection device that can efficiently detect an actual defect by removing a false defect due to unevenness caused by the growth of crystal grains or the like generating on the circuit pattern of a semiconductor integerated circuit, and to provide a defect inspection method.
半導体集積回路の回路パターン上に発生する結晶粒成長等によって生じる凹凸による疑似欠陥を除去し、実欠陥を効率よく検出する欠陥検査装置、および、欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - Since the defect cause is made clear owing to the defect rate distribution display screen to which the defect rate distribution of the second full-shot molded article is displayed and the known second molding causative value, unskilled workers can estimate the defect cause same as skilled workers.
第２フルショット成形品の不良度分布を表示する不良度分布表示画面と既知の第２成形原因値とにより、その不良原因が明白になり、未熟練者は熟練者並みにその不良原因を推定することができる。 - 特許庁 - Next, when the defect is detected based on the defect signal, the signal based on the stored target value is output as the servo control signal when the defect exists at the defect position which has the specific positional relation with the stored defective position.
次に、欠陥信号に基づいて欠陥が検出されたとき、記憶した欠陥位置と所定の位置関係を有する欠陥位置に欠陥があるときに、記憶した目標値に基づいた信号を前記サーボ制御信号として出力する。 - 特許庁 - A remaining defect detecting section 22 acquires height information relating to the height of the glass substrate 2 in the area of the defect, deciding presence/absence of the remaining defect to be further corrected after the correction of the defect on the basis of the height information.
残存欠陥検出部２２は、欠陥の範囲におけるガラス基板２の高さに関する高さ情報を取得し、欠陥の修正後にさらに修正すべき残存欠陥が存在するか否かを、高さ情報に基づいて判断する。 - 特許庁 - The write-once type recording medium 10 is provided with a definite defect management area 13 for recording definitely defect management information, a plurality of temporary defect management area 14A, 14B, 14C for recording temporarily defect management information.
追記型記録媒体１０上に、ディフェクト管理情報を確定的に記録するための確定的ディフェクト管理エリア１３と、ディフェクト管理情報を一時的に記録するための複数の一時的ディフェクト管理エリア１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃを設ける。 - 特許庁 - To provide a shading correction method for improving precision for removing shading in a display defect detection step of a display device and detecting display defects precisely, and to provide a defect detection method, a defect detector, and a control method program of the defect detector.
表示デバイスの表示欠陥検出工程においてシェーディング除去の精度を高め、表示欠陥を高精度に検出できるシェーディング補正方法、欠陥検出方法、欠陥検出装置、その制御方法プログラムを提供すること。 - 特許庁 - When a defect is developed in the cathode ray tube, information on a position of the defect or the like is inputted from a defect information input device 25, and an operation device 27 compares information on the defect and information on each of the members.
陰極線管に欠陥Ｐが生じた場合、この欠陥Ｐに関する発生位置の情報等を欠陥情報入力装置25から入力して、この欠陥Ｐに関する情報と各部材に関する情報とを演算装置27で比較する。 - 特許庁 - A defect extraction part 13 discriminates defects in inspection target regions including the secondary defect candidate region, using a difference between a gradation value of picture elements in the secondary defect candidate region and a gradation value of picture elements around the secondary defect candidate region.
欠陥抽出部１３は、二次欠陥候補領域を含む検査対象領域において二次欠陥候補領域に含まれる画素の濃淡値と二次欠陥候補領域の周辺の画素の濃淡値との差分を用いて欠陥を判別する。 - 特許庁 - On the write-once-type recording medium 10, there are provided: a definite defect management area 13 to definitely record therein defect management information; and a plurality of temporary defect management areas 14A, 14B, and 14C to temporarily record therein the defect management information.
追記型記録媒体１０上に、ディフェクト管理情報を確定的に記録するための確定的ディフェクト管理エリア１３と、ディフェクト管理情報を一時的に記録するための複数の一時的ディフェクト管理エリア１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃを設ける。 - 特許庁 - A defect analyzing apparatus 10 comprises an inspection information acquirer 11 for acquiring a defect observation image P2 in a semiconductor device, a layout information acquirer 12 for acquiring layout information, and a defect analyzer 13 for analyzing a defect.
半導体デバイスの不良観察画像Ｐ２を取得する検査情報取得部１１と、レイアウト情報を取得するレイアウト情報取得部１２と、不良解析を行う不良解析部１３とによって不良解析装置１０を構成する。 - 特許庁 - The presence or absence of a defect in a wiring pattern is confirmed by visual observation, image processing, or the like; defect information on the position, coordinates, size, or the like is confirmed, and the type of the defect is determined; when the defect is detected; and a machining method and machining conditions are set according to the type and state of the defect (step S1).
目視又は画像処理等により配線パターンの欠陥の有無を確認し、欠陥を検出した場合は、その位置、座標及び大きさ等の欠陥情報を確認すると共に欠陥の種類を判定し、欠陥の種類及び状態に応じて加工方法及び加工条件を設定する（ステップＳ１）。 - 特許庁 - To provide a silicon wafer inspection method for confirming a new defect that affect device processes and for effectively detecting such new defect, manufacturing method of a silicon wafer without the defect manufacturing method of a semiconductor device using the silicon wafer without the defect and the silicon wafer without the defect.
デバイス工程に影響する新たな欠陥の確認及びその新たな欠陥を効果的に検出するシリコンウエーハ検査方法及びこの欠陥の存在しないシリコンウエーハの製造方法及びこの欠陥のないシリコンウエーハを用いた半導体デバイスの製造方法並びにこの欠陥のないシリコンウエーハを提供する。 - 特許庁 - A defect signal preceding in a maximum value detecting circuit 34 and a defect detecting circuit 35 is obtained from a reproduced signal by a preceding sub-beam pre-amplifier 32, and the defect signal reproduced by a main beam pre-amplifier 31 is removed by a defect signal removing circuit 36 utilizing this defect signal.
先行するサブビームプリアンプ３２による再生信号から、最大値検波回路３４及びディフェクト検出回路３５で先行したディフェクト信号が取得され、このディフェクト信号を利用してディフェクト信号除去回路３６によりメインビームプリアンプ３１で再生されるディフェクト信号が除去される。 - 特許庁 - The detection sensitivity for a mask defect is inspected by using a mask for inspection of defect detection sensitivity having a basic pattern region where a pattern is formed based on the design data of a basic pattern and a defect pattern region where a pattern is formed based on the design data of a defect pattern prepared by adding a specified defect to the basic pattern.
基本パターンの設計データを基づきパターンが形成された基本パターン領域と、基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを元にパターンが形成された欠陥パターン領域とを備える欠陥検出感度検査用マスクを用いて、マスク欠陥検出感度の検査を行う。 - 特許庁
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