METHOD FOR RESTRAINING DROSS DEFECT ON CONTINUOUS GALVANIZED STEEL SHEET 連続溶融亜鉛めっき鋼板のドロス欠陥抑止方法 - 特許庁
METHOD FOR DETECTING DEFECT OF CIRCUIT ON MEMORY BOARD メモリを搭載したボードにおける回路の不良発見方法 - 特許庁
ARRAY BOARD WITH CORRECTED DOT DEFECT, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR 点欠陥を矯正したアレイ基板、及び、その製造方法 - 特許庁
CENTER DEFECT REDUCING METHOD OF CONTINUOUSLY CAST STEEL SLAB 鋼の連続鋳造鋳片の中心欠陥低減方法 - 特許庁
PARTIAL FORMATION METHOD OF THIN FILM, PARTIAL DEFECT RESTORATION METHOD OF THIN FILM AND DEFECT RESTORATION DEVICE OF THIN FILM 薄膜の部分的形成方法および薄膜の部分的欠陥修復方法ならびに薄膜の欠陥修復装置 - 特許庁
EDGE DEFECT DETECTING METHOD, PROGRAM OF THE SAME, AND DETECTOR エッジ欠陥検出方法、そのプログラム、および検出装置 - 特許庁
To surely and rapidly detect a through defect in a membrane. メンブレンの貫通欠陥を速く確実に検出すること。 - 特許庁
OPTICAL ELEMENT HAVING RESISTANCE TO PRESSURE-INDUCED DEFECT 圧力に誘起される欠陥に抵抗性のある光学素子 - 特許庁
NEEDLE PART DEFECT CORRECTION METHOD OF MANIPULATOR, AND NEEDLE MEMBER SET マニピュレータのニードル部欠陥修正方法とニードル部材セット - 特許庁
To provide a device and a method of healing a defect location, especially a defect part of the knee meniscus. 軟組織の欠陥部位、特に膝の半月板の欠陥部位を修復するためのデバイスおよび修復方法を提供する。 - 特許庁
SURFACE DEFECT DETECTING DEVICE FOR STEEL STRIP IN PICKLING LINE 酸洗ラインにおける鋼帯の表面欠陥検出装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR GROWING LOW-DEFECT SINGLE CRYSTAL 低欠陥の単結晶の成長方法及び成長装置 - 特許庁
LIQUID CRYSTAL DISPLAY, AND METHOD OF CORRECTING POINT DEFECT OF THE SAME 液晶表示装置及びその点欠陥修正方法 - 特許庁
RETICLE DEFECT INSPECTION DEVICE AND INSPECTION METHOD USING THE SAME レチクル欠陥検査装置およびこれを用いた検査方法 - 特許庁
DEFECT ANALYSIS METHOD, PROGRAM, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE 欠陥解析方法、プログラム及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁
DEFECT INSPECTION DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME 欠陥検査装置およびそれを用いたデバイス製造方法 - 特許庁
To provide a display defect evaluation method capable of accurately evaluating a linear defect of a display device. 表示デバイスの線状欠陥評価を精度良く行うことができる表示欠陥評価方法を提供すること。 - 特許庁
OPTICAL DISK DRIVE, AND DEFECT PART DETECTION METHOD FOR OPTICAL DISK 光ディスク装置及び光ディスクの欠陥部検出方法 - 特許庁
DEFECT INSPECTION APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING SUCH APPARATUS 欠陥検査装置及び該装置を用いたデバイス製造方法 - 特許庁
On a picture plane of thumbnail display for a defect, an image most saliently showing the features of a defect is determined/displayed for each of defects from inspection information, the kind of defect, etc. 欠陥のサムネイル表示画面において、検査情報や欠陥種類等から、欠陥毎にその欠陥の特徴を最も顕著に表すような画像を決定し、表示する。 - 特許庁
As it has an addition circuit to integrate the image information as well as it enlarges the image of a defect, even a defect of fine line width can be inspected exactly as a defect. 欠陥の画像を拡大すると共に画像情報を積分する加算回路を有することにより、微細線幅の欠陥であっても欠陥として正確に検査することができる。 - 特許庁
To provide a thin film transistor matrix and a defect repairing method thereof wherein a defect in a pixel can be easily repaired to a normal pixel even when the defect is generated in the pixel in a manufacturing process. 製造過程において画素内で欠陥が発生しても、容易に正常画素に修復することができる薄膜トランジスタマトリクス及びその欠陥修復方法を提供する。 - 特許庁
Before the recording medium is finalized, updated defect management information is recorded in any of the plurality of temporary defect management area for each update of defect management information. 記録媒体10をファイナライズする前は、ディフェクト管理情報が更新される度に、更新されたディフェクト管理情報を複数の一時的ディフェクト管理エリアのいずれかに記録する。 - 特許庁
A defect structure point calculation part 18c calculates a defect structure point for composing the outline of defect formed in the object to be measured on the basis of the reference points and the reference curve. 欠損構成点算出部18dは、基準点および基準曲線に基づいて、計測対象物に形成された欠損の輪郭を構成する欠損構成点を算出する。 - 特許庁
To provide a method for inspecting a phase shift mask, which never detects a false defect of a pattern as a pattern defect by mistake when a pattern defect of the phase shift mask is inspected. 位相シフトマスクのパターン欠陥検査に際し、パターンの疑似欠陥を誤ってパターン欠陥として検出することがないようにした、位相シフトマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁
To provide a defect-correcting device which coats a color defect of a color filter with a correcting fluid without using a dispenser and a method of correcting the defect. この発明は、ディスペンサを用いることなく、カラーフイルタの色抜け欠陥に修正液を塗布する欠陥修正装置および欠陥修正方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
In an analytical database 9, defect-shape recognized data obtained by a defect-shape recognition part 8 and defect shape data obtained by the generation part 11 are stored. 解析データベース9には不良形状認識部8によって得られた不良形状認識済みデータと不良発生部11によって得られた不良形状データとが蓄積される。 - 特許庁
To provide a material for repairing a tissue defect which is capable of rapidly healing the defect site of the tissue or organs without requiring extracorporeal cell culture in repairing and healing of the tissue defect part. 組織欠損部分の補修治癒において、体外での細胞培養を必要とせず、組織又は臓器の欠損部位を速やかに治療できる組織欠損補修用材料を提供する。 - 特許庁
The picture element defect is moved into the visual field of the magnifying lens 11 in accordance with the approximate picture element defect coordinate determined by this picture element defect position instruction device 25 and the exact coordinate position is measured. 絵素欠陥位置指示装置25を用いて求めた概略絵素欠陥座標に基づいて拡大レンズ11の視野内に絵素欠陥を移動させ、正確な座標位置を測定する。 - 特許庁
To recognize whether a reflector reflecting an ultrasonic wave has a defect due to a crack or a defect other than a defect due to rust, when a reflected wave is obtained in ultrasonic inspection of a low-pressure steam turbine wheel. 低圧蒸気タービンホイールの超音波検査において、反射波が得られた場合に、超音波の反射体が割れ等の欠陥なのか錆等の欠陥以外のものかを識別する。 - 特許庁
The statistically based variance data can include Pooled Polymer De-protection Variance (PPDV) data that is used to determine micro-bridging defect data, LER defect data, and LWR defect data. 前記統計に基づく分散データは、マイクロブリッジ形成欠陥データ、LER欠陥データ、及びLWR欠陥データの決定に用いることのできる共有されたポリマー脱保護分散(PPDV)データを有して良い。 - 特許庁
Since adjustment of an optical system or fine correction by signal processing becomes possible, positional accuracy of defect inspection and accuracy of defect level (defect size) can be improved. 本発明により、光学系の調整や信号処理による微細な補正が可能になるため、欠陥検出の位置精度および欠陥強度(欠陥寸法)の精度を向上させることができる。 - 特許庁
The outline of the defect is extracted, and the contrast is given to the outline of the defect to discriminate the defect of the front surface 1a and that of the rear surface 1b of a searched object 1 with high accuracy. 欠陥の輪郭を抽出し、欠陥の輪郭のコントラストにより検査対象物1の表面1aの欠陥と裏面1bの欠陥を高精度に識別することが可能となる。 - 特許庁
To provide a system for analyzing defect of semiconductor which can guarantee the effectiveness of a possible solution for defect-derived degradation of yield and make easier defect occurring factor estimation based on the defects formed on a wafer. 欠陥起因歩留まり解析方法の有効性を保証し、ウェーハ上の欠陥に基づく不良発生要因推定を容易化する半導体欠陥解析システムを提供する。 - 特許庁
To acquire electrical characteristics of a defect without being limited to detecting a substrate defect at the stage of a substrate inspection process and to determine a causative substance being a factor of the detected defect. 基板検査工程の段階で、基板欠陥を検出するに限らず、その欠陥の電気的特性を取得し、検出した欠陥の要因となる原因物質を特定する。 - 特許庁
To provide an image defect detecting technique which enables the accurate detection of defect pixels of an image formed on a recording medium, and grasp of the defect pixels with precision. 画像記録媒体に形成された画像の欠陥画素を高精度に検出すると共に、的確に欠陥画素を把握することができる画像欠陥検査技術を提供する。 - 特許庁
This defect repairing method comprises a first process of eliminating a part or the whole of impurities existing inside a defect, and a second process of sealing the defect. 本発明の欠陥補修方法は、欠陥の内部に存在する不純物の一部あるいは全部を除去する第1の工程と、前記欠陥を封止する第2の工程とを有する。 - 特許庁
When a defect is detected on a disk, a defect detection signal is extended between the small interval detecting the defect and the next small interval by registers 113 and 114. 一方、ディスク上に欠陥が検出されると、レジスタ113および114により、欠陥が検出された小区間と次の小区間の間、欠陥検出信号が引き延ばされる。 - 特許庁
To ensure the sensitivity for detecting a low intensity defect, and accurately determine a defect rank of a high intensity defect in a halation region in an image inspection. 画像検査において、低輝度の欠陥を検出するための感度を確保しつつ、ハレーション領域における高輝度の欠陥についても、正確な欠陥ランクの判定を可能にする。 - 特許庁
When the installation defect is detected by the installation defect detection unit 242, a display 110 of a control PC 100 is configured to perform processing for giving an operator notification showing that the installation defect is detected. 設置不備検出部242によって設置不備が検出された場合、制御PC100のディスプレイ110が、設置不備が検出された旨を操作者に通知する処理を行う。 - 特許庁
To provide an apparatus for processing defect of a control system, in which a defect determination can be made proper by preventing the erroneous determination of a communication defect between entities of the control system. 制御システムの各要素間における通信異常の誤判定を防止して異常判定の適正化を図ることの可能な制御システムの異常処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a pixel defect correction device, along with an imaging apparatus, pixel defect correction method and program, capable of improving edge detection accuracy, and capable of improving defect detection accuracy. エッジ検出精度の向上を図れ、ひいては欠陥検出精度の向上を図ることが可能な画素欠陥補正装置、撮像装置、画素欠陥補正方法、およびプログラムを提供する。 - 特許庁
Otherwise, an island defect is detected in a totalized angle domain exceeding a standard deviation value on a defect detection amount classified by angle in defect number histogram data classified by angle. あるいは角度別の欠陥数ヒストグラムデータにおける角度別の欠陥検出量についての標準偏差値を越える集計角度領域において島状欠陥の検出をする。 - 特許庁
The educated artificial neural network determines the classification of the degree of the defect on the basis of the defect signal and a plurality of the defect approach signals, and outputs them. また、教育された人工ニューラルネットワークは、欠陥信号及び複数の欠陥近接信号に基づいて、欠陥の重度分類を決定し、欠陥の重度分類を出力することができる。 - 特許庁
To provide an inspection apparatus and an inspection method for achieving precise and high-throughput defect detection performance, in a wide range of defect sizes from a small defect to a large one. 小欠陥から大欠陥までの広範囲の欠陥サイズにおいて、高精度且つ高スループットな欠陥検出性能を実現する優れた検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁
To provide an inspection method enabling accurate detection of a defect by a foreign substance and a defect by a minute change in film thickness around the defect in manufacturing an antireflection film. 反射防止フィルムの製造において、異物などの欠陥とその周辺の膜厚の微小な変化による欠陥を正確に検出できる検査方法を提供するものである。 - 特許庁
To provide a semiconductor defect inspection device which automatically detects a defect on a semiconductor wafer using circuit design data to estimate the cause of the defect generation, and a method thereof. 回路設計データを用いた半導体ウェーハ上の欠陥を自動的に検出し、欠陥発生原因の推定を行う半導体欠陥検査装置ならびにその方法を提供する。 - 特許庁
Places, when the logic defects have generated can be narrowed down by defect dictionary analysis by defect diagnosis of a semiconductor IC, and thereby the accuracy of the current leakage defect analysis is increased. 論理不良の発生箇所は、半導体集積回路の故障診断における故障辞書解析によって絞り込むことができ、それによって電流リーク不良解析の的確化を図る。 - 特許庁