「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 72 73 74 75 76 77 78 79 80 .... 366 367 次へ＞- A control mechanism 103 performs signal processing relative to the intensity of a reflected wave signal obtained from defect DE-V, defect DE-H or the like, when scanning at an optional angle with the ultrasonic wave, to thereby detect a defect and measure a length.
制御機構１０３は、超音波を任意の角度で走査したとき、欠陥ＤＥ—Ｖおよび欠陥ＤＥ—Ｈ等から得られる反射波信号の強度を、信号処理を行うことで欠陥の検出および長さ測定を行う。 - 特許庁 - When the good item indicating button 8 or the garbage instruction button 9 is selected, the inspecting device recognizes that the defect corresponding to the button selected causes no problem, and the inspecting result of the defect is changed from the defect to the good item.
良品指示ボタン８あるいはごみ指示ボタン９が選択された場合、検査装置は、選択されたボタンに対応する欠陥を問題なしと認識して、この欠陥についての検査結果を欠陥から良品に変更する。 - 特許庁 - A macro-image having a plurality of macro-defect parts G_1-G_8 and point display are displayed at the portion on a display screen corresponding to the coordinates (X, Y) of micro-defect parts S_1-S_n in micro-defect map data.
複数のマクロ欠陥部分Ｇ_１〜Ｇ_８を有するマクロ画像と、ミクロ欠陥マップデータにおけるミクロ欠陥部分Ｓ_１〜Ｓｎの座標（Ｘ，Ｙ）に対応するディスプレイ画面上の部分にポイント表示とを重ね合わせて表示する。 - 特許庁 - And the defect detecting operation to select a pixel with large dark output level as the defective pixel is carried out by analyzing image information after compensating the defect based on the initial defect data by the digital process 108.
そして、初期欠陥データに基づいて欠陥補償された後の画像情報をディジタルプロセス１０８で解析することにより、暗出力レベルの大きい画素を欠陥画素として選択するための欠陥検出動作が実行される。 - 特許庁 - The reticle is transferred into a pattern defect correcting device and only the black defect on the reticle is extracted and, for example, the defect coordinate data obtained during the reticle pattern inspection and the coordinates within the defective device are opposed, by which a processing size is defined.
レチクルをパターン欠的修正装置内に搬送し、レチクル上の黒欠陥のみを抽出し、例えば、レチクルパターン検査時に得た欠陥座標データと欠陥装置内の座標とを相対させて、加工サイズを定義する。 - 特許庁 - When forming the first cap layer, a local defect is introduced into the first cap layer, and the local defect is positioned in a place corresponding to the substantial topography variation, and the local defect is suitable for passing a predetermined fluid.
第１キャップ層の形成の際、第１キャップ層に局所欠陥が導入され、局所欠陥は、実質的な地形変動に対応した場所に位置決めされており、局所欠陥は、所定の流体が通過できるのに適している。 - 特許庁 - To provide a redundancy circuit which corrects a light point defect, which is caused by a defect of an active matrix substrate, as a normal image, the light point defect having been corrected by blackening, and to provide a correcting method therefor.
アクティブマトリクス基板の欠陥により発生した輝点欠陥に対して、黒点化処理による修正処理が行われてきたが、この修正を正常画素として修正する冗長化回路および修正方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a memory test circuit and a memory test method capable of easily obtaining a state of defect and collecting all defect information even with a small capacity of memory for storing the defect information.
不良が発生した状態を容易に把握することができ、かつ不良情報を格納するメモリの容量が少なくともすべての不良情報を収集することができるメモリテスト回路及びメモリテスト方法を提供すること。 - 特許庁 - In two adjacent pixels 7A, 7B that are connected to a signal line 3 where a defect 50 has occurred across a defect portion, signal lines 3 and parallel lines 102 are short-circuited to configure a parallel circuit 80 parallel to the defect portion.
欠陥５０が発生した信号配線３に当該欠陥箇所を挟んで接続された画素７Ａ、７Ｂで信号配線３と並列配線１０２を短絡させて欠陥箇所に並列な並列回路８０を構成する。 - 特許庁 - The n-side electrode has such a shape that covers a part of a surface of the low-defect region, intermittently covers a surface of the high-defect region in the central part, and does not cover surfaces of high-defect regions in both end parts.
ｎ側電極は、低欠陥領域の表面の一部を覆うと共に、中央領域にある高欠陥領域の表面を断続的に覆い、両端部にある高欠陥領域の表面を覆わないような形状となっている。 - 特許庁 - The oxygen ion-implanted silicon substrate has preferably a void defect or COP crystal defect density of ≥1×10^5 cm^-3, and a maximum frequency of ≤0.12 μm in the crystal defect size distribution.
酸素イオンが注入されるシリコン基板は、ボイド欠陥又はＣＯＰからなる結晶欠陥密度が１×１０^5ｃｍ^-3以上でありかつ結晶欠陥のサイズ分布の最大頻度が０．１２μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁 - When the thickness of the surface non-defect layer of the annealing wafer is evaluated, the surface of the annealing wafer is etched by an etchant, and an etching allowance up to the observation of a defect on a wafer surface is evaluated as the thickness of the non-defect layer.
アニールウエーハの表面無欠陥層の厚さを評価するに際し、該アニールウエーハの表面をエッチング液によりエッチングし、ウエーハ表面に欠陥が観察されるまでのエッチング代を無欠陥層の厚さとして評価するようにした。 - 特許庁 - To provide a defect inspection device capable of detecting with high sensitivity the defects in a mixed mount wafer (system LSI, or the like), capable of detecting widely a defect species, and capable of enhancing a defect capturing rate, and to provide a method therefor.
混載ウェハ（システムＬＳＩなど）などに対して欠陥を高感度に検出し、しかも欠陥種を幅広く検出して、欠陥捕捉率を向上することができるようにした欠陥検査装置及びその方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a method and a device for inspecting a surface defect of steel capable of inspecting precisely the surface defect of steel, in particular, the surface defect in an edge part (angled part) of the steel, irrespective of a slight displacement in the edge part.
鋼材の表面欠陥、特に鋼材のエッジ部(角部)における表面欠陥をエッジ部の多少の変位にかかわらず精度良く検査することが可能な鋼材表面欠陥の検査方法および検査装置を提供する。 - 特許庁 - The method for repairing the fissure-like defect 2 occurring on the surface 1a of the nuclear reactor structure 1 comprises the steps of disposing a sacrificial anode 7 on the fissure-like defect 2 and isolating the defect 2 from the outer environment.
原子炉構造物１の表面１ａに発生したき裂状欠陥２を補修する補修方法は、き裂状欠陥２上に犠牲アノード７を配置する工程と、き裂状欠陥２を外部環境から隔離する工程と、を備えている。 - 特許庁 - The system 1 for inspecting a semiconductor wafer comprises a defect classifier for automatically classifying semiconductor wafer defects, based on defect inspection parameters and a knowledge base, and a classification support unit for supporting the defect classifier.
半導体ウェハの検査システム１は、欠陥検出パラメータと知識ベースとに基づき、半導体ウェハの欠陥分類を自動的に行う欠陥分類装置と、この欠陥分類装置を支援する分類支援装置とを備えている。 - 特許庁 - To surely resolve an image quality defect by sufficiently securing the amount of toner discharge from a developing device and allowing deteriorated toner, toner aggregates, or the like to be surely ejected in a situation that the image quality defect like a void defect has occurred.
白抜けディフェクト等の画質欠陥に至った状況にて、現像装置からのトナー吐出量を十分に確保し、かつ、劣化トナーやトナー凝集体等を確実に排出可能とし、もって、画質欠陥を確実に解消する。 - 特許庁 - When defect exists in a part contacting with the electrode means 5 for inspection, discharge is made in the defect part, whereby existence of a defect in the piezoelectric tube 3 which makes contact with the electrode means 5 for inspection can be specified.
これによって、検査用電極手段５に接触する部分に欠陥が存在する場合、その欠陥部で放電するので、欠陥が検査用電極手段５に接触する部分の圧電体チューブ３に存在することを特定できる。 - 特許庁 - To provide a device inspection unit capable of determining a defect in an electric circuit of a device inside discriminatingly from a defect of electric connection between a device electrode and an inspection unit side electrode, when the defect is detected by inspection.
検査により不良が検出されたとき、デバイス内部の電気回路の不良であるか、又はデバイス電極と検査装置側電極との間の電気的接続の不良であるかを判別できるデバイス検査装置の提供。 - 特許庁 - The open box having the lowest frequency in generation of defect among the selected open boxes or combination thereof is replaced in the piling position of the open box, wherein the defect is generated, to reduce the defect generation ratio.
選択された無蓋ボックスあるいはその組合せの内、最も不具合発生頻度の低いものと不具合の発生した無蓋ボックスとの積付位置を入れ替えることによって、次回からの不具合発生率を減少させることができる。 - 特許庁 - Further, the 1st image is moved by the virtual movement distance according to the detected pixel defect position and a 2nd pixel defect correction table is generated based upon the 1st image which is moved and the pixel defect position.
更に、上記検出された画素欠陥位置に基づき上記第１の画像を上記仮想の移動距離だけ移動し、上記移動された第１の画像と上記画素欠陥位置に基いて第２の画素欠陥補正テーブルを生成する。 - 特許庁 - Further in the pattern forming apparatus 1, additional coating data 45 is formed by detecting the existence and the position of defects such as a white defect, a black defect or the occurrence of projecting part and additional coating is carried out on the defect position based on the additional coating data 45.
また、パターン形成装置１は、基板上の白欠陥、黒欠陥、突起等の欠陥の有無及び位置を検出し、追加塗布データ４５を作成し、当該追加塗布データ４５に基づいて、欠陥箇所に追加塗布を行う。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for automatically sorting defects, which supply a non-reviewed defect with a defect class having a definition identical to that of a reviewed defect when carrying out sorting the defects, in order to effectively utilize information of non-reviewed defects being the majority on a wafer.
ウェハ上の大多数を占める，レビューしていない欠陥の情報を有効活用するため，欠陥分類方法において、レビューしていない欠陥に対してレビューした欠陥と同じ定義の欠陥クラスを付与すること。 - 特許庁 - To provide a coated bar surface defect detecting method and device obtained by incorporating a coated bar surface defect detecting optical technique for detecting the surface defect precisely and automatically by an image and an optical system to perform the technique.
表面欠陥を正確かつ自動的に画像によって検出する、塗布バーの表面欠陥検出光学的手法と、そのような光学系を組み込んだ、塗布バーの表面欠陥検出方法及び装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a solid-state image pickup device with which a defect can be more exactly detected by preventing a detection error caused by the time change of a pixel defect and the defect can be corrected without deteriorating a spatial resolution.
画素欠陥の時間変化による検出誤りを防止することを通じてより正確な欠陥検出を行い、また、空間解像度を劣化させることなく欠陥補正を行うことのできる固体撮像装置を提供する。 - 特許庁 - To achieve high efficient defect inspection with a high defect capture rate in a surface defect inspection device for a wafer and the like by enabling detection of forward scattered light with high sensitivity and at the same time enabling detection of specularly reflected light with high sensitivity.
ウエーハ等の表面欠陥検査装置において、前方散乱光を高感度で検出し、正反射光をも同時に高感度検出可能とすることで、欠陥捕捉率の高い高効率の欠陥検査を実現。 - 特許庁 - To improve the manufacturing yield of a liquid crystal display device by providing a liquid crystal display device having structure which facilitates rectifying of a display defect due to the defect of an auxiliary capacitance and its defect rectifying method.
補助容量の欠陥に起因する表示欠陥の修正が容易な構造を備える液晶表示装置およびその欠陥修正方法を提供することにより、液晶表示装置の製造歩留まりを向上する。 - 特許庁 - To provide an exposure device and a mask defect monitor method for detecting the defect of a mask in the early stage without deteriorating the throughput of exposure, and for preventing the generation of the failure of an object to be exposed due to the defect of the mask.
露光のスループットを低下させることなく早期にマスクの欠陥を検出することができ、マスクの欠陥による被露光体の不良の発生を防止することができる露光装置およびマスク欠陥モニタ方法を提供する。 - 特許庁 - Thereby, automatic start of read- out of a ROM is stopped at the time of occurrence of defect, and it can be determined whether a defect part exists in a read-out part of the ROM or in the other part depending on whether defect is caused or not.
これにより、不良発生時にＲＯＭ読み出しの自動的な起動を停止させ、不良が発生するか否かにより不良個所がＲＯＭ読み出し箇所と他の箇所のいずれに存在するかを特定することができる。 - 特許庁 - In an initial inspection, defect detection processing for the solid- state image pickup element is performed, a defect number is attached to the detected defective pixel, and defect information (a defective part and a defective level) is successively stored in a memory space block 10.
初期検査時において、固体撮像素子の欠陥検出処理を行い、この検出された欠陥画素に欠陥番号を付して欠陥情報（欠陥個所、欠陥レベル）を順次メモリ空間ブロック１０に格納していく。 - 特許庁 - The original picture is displayed on a color monitor 9, at the same time a computer 8 processes a G image and detects a defect candidate, and adds and displays a defect candidate marker for each defect candidate in the original picture being displayed on the color monitor 9.
この原画像はカラーモニタ９で表示されるとともに、コンピュータ８はＧ画像を処理して欠陥候補を検出し、カラーモニタ９に表示される原画像中の欠陥候補毎に欠陥候補マーカを付加表示させる。 - 特許庁 - In this case, the image data for inspection is converted in correspondence with the image state of the image for defect detection, and thus it is discriminated whether the abnormal position detected from the image for defect detection is a true defect or not.
その際、検査用画像データを欠陥検出用画像の画像状態に対応させて変換することにより、欠陥検出用画像から検出される異常個所が、真の欠陥であるか否かを判定することができる。 - 特許庁 - When a defect Def exists on a spiral track Tsp, a CPU calculates a point existing one rap before the defect Def of the spiral as movement staring point Pst and the point existing one rap after the defect as movement ending point Psp.
スパイラルトラックＴsp上に、ディフェクトＤefが存在する場合、ＣＰＵ１１０は、ディフェクトＤefに対して、スパイラル１周前の地点を移動開始地点Ｐstとし、スパイラル１周後の地点を移動終了地点Ｐspとして算出する。 - 特許庁 - To accurately inspect a defect such as a hole opening defect penetrating to an internal space, a peeling defect occurring in a surface layer or a deep part, etc., in a method and an apparatus for inspecting shape defects of a plate material having the internal space.
内部空間を有する板材の形状欠陥検査方法及び装置において、内部空間にまで貫通する孔開き不良や、表層及び深部において発生する剥離不良などの高精度の欠陥検査を可能とする。 - 特許庁 - To provide a defect repairing method for positively sealing a defect such as a crack opened in the surface of a structure inside a reactor pressure vessel and positively isolating the defect from the external environment of the structure.
本発明の目的は、原子炉圧力容器内部の構造物表面に開口した亀裂等の欠陥を確実に封止でき、この欠陥を構造物の外部環境から確実に隔離できる欠陥補修方法を提供することにある。 - 特許庁 - The individual defect detection condition is applied to a defect detection condition selection part 008 and sent to a defect detection part 009 together with the signal level of the input signal to judge whether pixels to be given the input signal are defective ones.
個別欠陥検出条件は欠陥検出条件選択部００８に与えられ、入力信号の信号レベルとともに欠陥検出部００９に送られ、入力信号を与える画素が欠陥画素か否かが判定される。 - 特許庁 - Although the displayed image of the defect accidentally includes a part, having no defect because the learning is not completed, operator needs only to enclose the part of the actual defect with a mouse 4, and information on the defective part is provided to the CPU 2.
表示された欠陥の画像は、学習が完了していないため、誤って欠陥でない所も表示されるが、オペレータは実際の欠陥の箇所だけを、マウス４により囲み、欠陥箇所の情報をＣＰＵ２与える。 - 特許庁 - To specify a process of generating a defect, or to detect the defect, even in an area that is not formed with a repeeated pattern on a wafer surface, when detecting the defect appearing on the semiconductor wafer surface by visual inspection.
外観検査により半導体ウエハの表面に現れる欠陥を検出する際に、欠陥を生じた工程を特定する、或いはウエハ表面に繰り返しパターンが成形されていない領域においても欠陥を検出する。 - 特許庁 - To achieve high reliability defect inspection by obtaining and correcting the setting state of a spatial filter in advance, thereby markedly enhancing precision of defect inspection in a DF defect inspection device equipped with a spatial filter.
空間フィルタを備えたＤＦ欠陥検査装置において、事前に空間フィルタの設定状態を把握して補正し、欠陥検査精度を格段に向上させて信頼性の高い欠陥検査を実現することを可能とする。 - 特許庁 - In the flat-panel X-ray detector, a line defect connected in a line may be generated and further, an uncertain defective line that cannot be determined to be a defect at a glance may be present at times, in a line adjacent to the line defect.
フラットパネルＸ線検出器では線状につながった線欠陥が生じる場合があり、さらにその線欠陥に隣接するラインに一目では欠陥とわかりづらい不確かな欠陥ラインが存在する場合がある。 - 特許庁 - The defect detection method comprises an image acquiring process for capturing the image of the object to be inspected having an identical sequence of pattern, and a defect emphasizing process for performing the defect emphasizing processing to the captured image.
欠陥検出方法は、同一繰り返しパターンを有する被検査物を撮像して画像を取得する画像取得工程と、取得した画像に対して欠陥強調処理を行う欠陥強調処理工程とを有する。 - 特許庁 - The display panel with the point defect is specified, the coordinate of a defective pixel is specified, the luminance of the same coordinate corresponding to the point defect of the adjacent pixel of the defective pixel or other display panels is added, and the apparent point defect stops being able to be conspicuous easily.
点欠陥のある表示パネルを特定し、欠陥画素の座標を特定し、欠陥画素の隣接画素、または他の表示パネルの点欠陥に対応する同座標の輝度を加算して、見かけ上点欠陥を目立ちにくくする。 - 特許庁 - Thereby processing efficiency can be improved and specification of a defective level which cannot be relieved is made possible by performing defect analysis and defect relieving discrimination processing independenlty of the tester and a defect analyzing device.
このように、不良解析及び不良救済判定処理をテスタ及び不良解析装置から独立して行うことで、処理効率を向上させることができ、また不良救済不可となった不良レベルの特定が可能である。 - 特許庁 - To provide a defect analysis support system which can readily specify factors of defect and factors of a characteristic variation by carrying out coordination of defect sorting information classified for each factor of defect and characteristic data information to material batch information, manufacturing condition batch information and manufacturing process batch information, and summarizing and analyzing them.
不良の要因毎に分類した不良区分情報や特性データ情報を、材料バッジ情報、製造条件バッジ情報、製造工程バッジ情報と対応付け及び集計、解析し、不良の要因特定、及び特性変動の要因特定を容易に可能とする不良解析支援システムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a device for defect inspection not generating a noise caused by vibration on an imaged image, capable of inspecting a defect such as a foreign matter adhering to a transparent body automatically and accurately in a short time, and also to provide a method for defect inspection using the defect inspection device.
本発明は、撮像した画像に振動によるノイズが発生することがなく、自動的に且つ短時間で且つ正確に透明体に付着した異物等の欠陥を検査することが出来る欠陥検査装置及びその欠陥検査装置を用いた欠陥検査方法を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁 - Erroneous defect data are removed and selected from inside the beam data acquired from the plurality of data detection domains of the pixel, and the intensity value of one pixel portion is calculated by using the selected beam data, and thereby the influence of the erroneous defect data is reduced from an intensity value, and defect determination by the influence of the erroneous defect data is prevented.
画素の複数のデータ検出領域から取得したビームデータの中から誤欠陥データを排除して選択し、選択したビームデータを用いて一画素分の強度値を算出することによって、強度値から誤欠陥データの影響を低減し、誤欠陥データの影響による欠陥判定を防ぐ。 - 特許庁 - To provide a spinning unit to improve accuracy of detecting a yarn defect by a yarn defect detecting device by preventing traverse operation of a spun yarn performed by a winding device from influencing the accuracy of detecting a yarn defect by the yarn defect detecting device, and by appropriately maintaining and stabilizing tension applied to the spun yarn.
巻取装置による紡績糸の綾振が糸欠点検出装置による欠点部の検出精度に影響を与える恐れがなく、更に、紡績糸に掛かる張力を適度に保つとともに、安定させることによって糸欠点検出装置による欠点部の検出精度を向上させるとした紡績ユニットを提供する。 - 特許庁 - To provide an optical member inspecting method in which not only the quality point rating is performed with high accuracy to the defect factors classified in specified shapes or the defect factors located in specified areas, but also representing quality point rating to the defect factors of intermediate shapes and the defect factors located in intermediate areas.
特定形状に分類される不良要因や、特定エリアに位置する不良要因に対する高精度な品質点数化を行うだけでなく、中間形状の不良要因や中間エリアに位置する不良要因にも対応した品質点数化を行う光学部材検査方法を提供すること。 - 特許庁 - To solve the problem that it is difficult to grasp occurrence tendency of a defect since a defect size becoming fatal is miniaturized with miniaturization of a pattern and manufacturing tolerance which is originally not a defect is detected when sensitivity of a fault inspecting device is improved for detecting the minimal defect in a semiconductor manufacturing process.
半導体製造プロセスにおいて，パターン微細化に伴い，致命となる欠陥サイズも微小化しており，微細な欠陥を検出するために欠陥検査装置の感度を上げると，本来は欠陥ではない製造公差などを検出してしまい，欠陥の発生傾向を捕らえることが困難となる。 - 特許庁 - The defect evaluation means 6 includes a mold correction evaluating section 63 that deems the defect as a mold correction spot, on the basis of defect information including a defect position at the previous time, wherein the mold correction spot information regarding the mold correction spot evaluated thereby is registered in a mold correction spot information storing section 83.
欠陥評価手段６には、前回での欠陥位置を含む欠陥情報に基づいて当該欠陥を型修正箇所とみなす型修正評価部６３と、これによって評価された型修正箇所に関する型修正箇所情報が型修正箇所情報格納部８３に登録される。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
