「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 76 77 78 79 80 81 82 83 84 .... 366 367 次へ＞- METHOD FOR CONTINUOUSLY CASTING CAST SLAB HAVING LITTLE BLOW HOLE DEFECT, AND PRODUCED CAST SLAB
気泡欠陥の少ない鋳片の連続鋳造方法及び製造された鋳片 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR DETECTING LINE DEFECT OF PICTURE, AND METHOD FOR CORRECTING IMAGE DATA
画面の線欠陥検出方法及び装置並びに画像データの補正方法 - 特許庁 - EXTRACTION METHOD FOR DEFECT ON PATTERN AND DECISION METHOD FOR PARAMETER USE THEREFOR
パターンの欠陥抽出方法及びこれに用いられるパラメータ決定方法 - 特許庁 - DEFECT CORRECTION METHOD OF METALLIC THIN PLATE HAVING MINUTE SLIT-LIKE OPENING
微細なスリット状開口部を有する金属製薄板の欠陥修正方法 - 特許庁 - METHOD AND ALGORITHM FOR ELONGATED DEFECT IN EDDY CURRENT INSPECTION SYSTEM
渦電流検査システムにおける長手方向欠陥のための方法及びアルゴリズム - 特許庁 - To detect a defect when a transfer MOS transistor does not operate normally.
トランスファＭＯＳトランジスタが正常に動作しない場合の不良を検出する。 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR DETECTING DEFECT OF MATRIX STRUCTURE
マトリクス構造の欠陥検出装置およびマトリクス構造の欠陥検出方法 - 特許庁 - A defect signal is thereby intensified reletively to enhance an S/N ratio.
これにより、相対的に欠陥信号が強調され、Ｓ／Ｎ比が向上する。 - 特許庁 - IMAGE PROCESSING TO MASK LOW DROP VOLUME PRINT DEFECT IN INKJET PRINTER
インクジェットプリンターにおける少液滴量による異常をマスキングする画像処理 - 特許庁 - To solve a defect of a conventional pen input system for mathematical expression.
従来の数式ペン入力システムの不具合を解決することを目的とする。 - 特許庁 - To more accurately detect a defect in an object to be inspected such as a semiconductor wafer and the like.
半導体ウェハ等の検査対象の欠陥をより正確に検出する。 - 特許庁 - If the specimen is slightly shifted, the image of the defect moves inside the LACBED pattern.
もし、試料が僅かにずらされると、欠陥像はLACBED図形の中で移動する。 - 科学技術論文動詞集 - The pattern correcting mechanism 2 automatically corrects a pattern defect of a glass substrate.
パターン修正機構２は、ガラス基板のパターン欠陥を自動的に修正する。 - 特許庁 - DEFECT CORRECTION METHOD FOR THIN METAL SHEET WITH VERY NARROW SLIT TYPE APERTURE
微細なスリット状開口部を有する金属製薄板の欠陥修正方法 - 特許庁 - This is an optical disk reproducing method (S11-S14) to reproduce the optical disk recorded in a format having an optical disk defect control function, and changes (S17-S21) the defect detection levels to operate the defect control function based on the defect control information (S15-S16) made by the defect control function of an optical disk.
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、光ディスクの欠陥管理機能を有するフォーマットで記録された光ディスクを再生する光ディスク再生方法であって（Ｓ１１〜Ｓ１４）、光ディスクの欠陥管理機能により作成された欠陥管理情報（Ｓ１５〜Ｓ１６）に基づき、欠陥管理機能を動作させる欠陥検知レベルが変更されること（Ｓ１７〜Ｓ２１）を特徴とするものである。 - 特許庁 - To provide an automatic defect classifying device for small automatic defects inspecting device by shortening a processing time necessary for inspecting and classifying the defects, and by reducing human intervention to a minimum, and an automatic defect inspecting device having the automatic defect classifying device.
小型で、欠陥検査及び分類を通した処理時間を短縮させ、人間の介在を最小限に抑える、自動欠陥検査装置用の自動欠陥分類装置及び自動欠陥分類装置を備える自動欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a sample for observing a semiconductor wafer surface crystal defect, with which accurate position of the crystal defect in the semiconductor wafer surface is decided, when a surface defect is observed with laser beam, etc., and to provide a method for manufacturing the sample.
表層欠陥をレーザ光等で観察する際、半導体ウェーハ表層にある結晶欠陥の正確な位置を決定できる半導体ウェーハ表層結晶欠陥観察用試料とこの試料の作製方法を提供するものである。 - 特許庁 - In a defect detection processing part 7, the difference in pixel value units, between the inspection object image 6a and the reference image 6b decomposed into space elements, is determined based on the detection gradation threshold set in a defect discrimination condition file 8, and thereby defect is detected.
欠陥検出処理部７においては、欠陥判別条件ファイル８に設定されている検出諧調閾値を基に、空間要素に分解した被検物体像６ａとリファレンス画像６ｂの画素値単位に相違を求め、欠陥を検出する。 - 特許庁 - To provide a defect detection method of a cylindrical structure applied to defect detection of the cylindrical structure in the buried state, having excellent transmission efficiency of an SH wave to be transmitted and received, and capable of detecting the defect accurately and easily.
埋設状態にある円筒形構造物の欠陥の検出に適用され、送受信されるＳＨ波の伝達効率に優れ、その欠陥を精度よく容易に検出することができる円筒形構造物の欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁 - A correction object selection function section 182 selects an image pickup element of a correction object with priority imparted to a defect in an area near the middle of an image while taking a correction number into account and stores defect information to a defect address memory 38b.
補正対象選択機能部182 は、欠陥アドレスメモリ38a からの画像データ180cのうち、画面中央近傍領域の欠陥を優先させて、補正数を考慮して補正対象の撮像素子を選択して欠陥情報を欠陥アドレスメモリ38b に記憶させる。 - 特許庁 - Furthermore, a step is added to an imaging sequence in order to take an image for display with another defect image acquisition device or with other imaging conditions based on a previously named rule in a course of taking defect images or after taking defect images.
さらに、欠陥画像撮像中または欠陥画像撮像後に、予め指定した規則に基づいて別の欠陥画像取得装置や別の撮像条件により表示用の画像を撮像するためのステップを撮像シーケンスに追加する。 - 特許庁 - To provide a pixel defect correction device, a pixel defect detector and a pixel defect detecting method that can correct a defective pixel and stably detect the defective pixel without increasing the circuit scale in response to a color filter of an image pickup element.
撮像素子の有する色フィルタに応じて、回路規模が増大することなく、欠陥画素を補正でき、また、欠陥画素を安定して検出することのできる画素欠陥補正装置および画素欠陥検出装置ならびに方法を提供。 - 特許庁 - The defect inspection device includes a signal processing device for imaging an image of a photomask in various illumination conditions, detecting a defect of the photomask by using an output signal from an A/D converter, and outputting a color image of the photomask including the detected defect.
フォトマスクの画像を種々の照明条件のもとで撮像し、Ａ／Ｄ変換器からの出力信号を用いてフォトマスクの欠陥を検出し、検出された欠陥を含むフォトマスクのカラー画像を出力する信号処理装置とを具える。 - 特許庁 - To provide a substrate defect checkup method permitting detection of 6H type lamination defects contained in nitrogen-doped 4H type SiC bulk monocrystalline substrates, a substrate defect checkup system using this method, and an SiC bulk monocrystalline substrate with defect information.
窒素ドープされた４Ｈ型SiCバルク単結晶基板に含まれる６Ｈ型積層欠陥を検出できる基板の欠陥検査方法、及びこれを用いた基板の欠陥検査システム、並びに欠陥情報付きのSiCバルク単結晶基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a steel plate punching device which accurately detects the existence of a defect in the steel plate, continuously performs a steel plate punching operation without stopping the same even when there is a defect in the steel plate, automatically selects the steel plate having the defect and treats the same.
鋼板の欠陥の有無を正確に検出し、鋼板に欠陥があっても鋼板の打抜き作業を中止させることなく連続的に行わせ、欠陥のある鋼板を自動的に選別して処理する鋼板打抜き装置を提供する。 - 特許庁 - To prevent defect determination by an influence of erroneous defect data by reducing the influence of the erroneous defect data from an intensity value, when calculating the intensity value of one pixel portion by using beam data acquired from a plurality of data detection domains of the pixel.
画素の複数のデータ検出領域から取得したビームデータを用いて一画素分の強度値を算出する場合において、強度値から誤欠陥データの影響を低減し、誤欠陥データの影響による欠陥判定を防ぐ。 - 特許庁 - Among defect correction processing portions 42a to 42c set in each of noise elimination processing portions 30a to 30c, the defect correction processing portion 42c set corresponding to the outline processing portion 38 sets a defect correction level at a low level and maintains an outline information.
ノイズ除去処理部３０ａ〜３０ｃそれぞれに設ける欠陥補正処理部４２ａ〜４２ｃのうち、輪郭処理部３８に対応して設けられた欠陥補正処理部４２ｃは、欠陥補正レベルを低く設定され、輪郭情報を維持する。 - 特許庁 - A substrate is lithographed under three conditions including a normal condition, a safe condition hardly causing a defect, and an acceleration condition easily causing a defect and, after forming a resist pattern, the number of defects is counted with respect to each area using the defect inspection device.
基板に対して、通常条件、欠陥を発生し難い安全条件、欠陥を発生し易い加速条件の３条件で描画を行い、レジストパターンを形成した後、欠陥検査装置を用いて領域毎の欠陥数を求める。 - 特許庁 - To provide a substrate inspection device capable of acquiring a defect distribution on the whole surface of the substrate in early stages, even when overflow of a memory storing defect images occurs, and to provide a method for acquiring the defect distribution on the substrate in the substrate inspection device.
欠陥画像を記憶するメモリのオーバフローが発生した場合でも基板の全面についての欠陥分布を早期に得ることができる基板の検査装置、および、基板の検査装置における基板の欠陥分布を得る方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a device for detecting a surface defect and a defect under the surface skin, and a method for detecting the same wherein an ultrasonic surface wave can carry out flaw detection of a whole surface by going around a width direction of an inspection object, and reflected waves from other than a defect are reduced.
超音波の表面波が被検査体の幅方向を一周して全面探傷することができ、欠陥以外からの反射波を低減する表面欠陥及び表面皮下欠陥の検出装置及びその方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device along with a defect analyzing method for LSI using the same capable of detecting, at high sensitivity, failure of a contact plug which is specific to the logic circuit of a defect analysis LSI, with the defect analysis LSI having the logic circuit periodically manufactured.
ロジック回路を有する不良解析用LSIを定期的に製造し、不良解析用LSIのロジック回路特有のコンタクトプラグの不良を、高感度に検出することができる半導体装置及びこれを用いたLSIの不良解析方法を提供する。 - 特許庁 - Since the integrated value for the small interval detecting the defect and a small interval immediately, before the small interval is made invalid by the extended defect detecting signal, the averaged evaluation value can be obtained, without being influenced by the defect on the disk.
引き延ばされた欠陥検出信号により、欠陥が検出された小区間と、その小区間の直前の小区間の積算値が無効とされるため、ディスク上の欠陥の影響を受けることなく、平均化評価値を得ることができる。 - 特許庁 - By a defect correction processing unit 31R which corrects the defect of an image signal DRa corresponding to red component light, a correction signal generator 311 generates correction signals DHR by defective pixels according to offsets of the defective pixels indicated with the defect information RPR.
赤成分光に応じた画像信号ＤRaの欠陥補正を行う欠陥補正処理部３１Rで、補正信号生成部３１１は、欠陥情報ＲＰRで示された欠陥画素のオフセットに応じて、補正信号ＤＨRを欠陥画素毎に生成する。 - 特許庁 - To provide a defect evaluating device by plasma or arc and an evaluating method that easily simulates an actual using condition of material exposed to plasma or arc, clarifies defect form and defect mechanism of this material, and contributes to improvement in arc resistance.
プラズマやアークに曝される材料の実使用条件を簡単に模擬し、該材料の損傷形態および損傷メカニズムを明確化して耐アーク性の向上に寄与するプラズマ・アークによる損傷評価装置と評価方法を提供する。 - 特許庁 - The solid-state image sensor 3 is activated at a low temperature, a linear defect detection correction circuit 6 detects the linear defect of the solid-state image sensor 3 on the basis of the pixel signal of the solid-state image sensor 3, and an address of the detected linear defect is stored.
固体撮像素子３を低温で動作させ、固体撮像素子３の画素信号に基づいて固体撮像素子３の線状欠陥を線状欠陥検出補正回路６により検出し、検出された線状欠陥のアドレスを記憶しておく。 - 特許庁 - To provide a defect display label which is pasted near a defect part which is detected with a defect detecting device on a running wave-shaped packing material, without a failure in pasting, and is stably and surely detected in a following process.
走行するウエブ状包装材を欠点検出装置で検出された不良箇所近傍に貼付される欠点表示ラベルが、貼り損じがなく、次工程での欠点表示ラベルの検知が安定して確実な欠点表示ラベルの提供にある。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device and a defect restoring method therefor, that can restore a disconnection defect occurring in a storage capacity bus line without causing a new spot defect.
本発明は、液晶表示装置及びその欠陥修復方法に関し、新たな点欠陥を生じさせずに蓄積容量バスラインに生じた断線欠陥を修復できる液晶表示装置及びその欠陥修復方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - When a penetrated defect part 3 causing water leaks occurs in the surface 11 of the subject of inspection, a colored area 5 appears as the result of reaction of water conveyed by the penetrated defect part 3 with the leak inspection film 10, so that the defect can be readily detected through visual observation.
検査物表面１１に水漏れを生じる貫通欠陥３が発生した場合、この貫通欠陥３より運ばれた水と水漏れ検査膜１０が反応すると発色領域５が生じるので目視で容易に検出できる。 - 特許庁 - To provide a prediction support device for a residence-by-residence defect having a function for pre-extracting only defect items pertinent to each residence to be predicted and outputting the defect items concurrently with output of a production drawing, in the production drawing preparation task of each residence.
邸毎の生産図作成業務において、生産図の図面出力と同時に、予測される各邸に該当する不具合項目のみを予め抽出し、出力する機能を有する邸別不具合予測支援装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method with which defect in color filter can be corrected at low cost and with a few number of steps and a time required for correction of the defect can be shortened while sticking of correction ink to a part other than the defect can be prevented.
修正用インクの欠陥部以外への付着を防止するとともに、欠陥を低コストかつ少ない工程数で修正し、欠陥の修正に要する時間を短縮化することのできるカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - Thereafter, in step S5, an area ratio of a defect inspection object domain by the area reducing function to a whole defect inspectable domain is determined, and in step S6, the number of chips having an estimated defect is estimated and converted, based on the area ratio.
その後、ステップＳ５において、面積縮小機能による欠陥検査対象領域の全欠陥検査可能領域に対する面積比を求め、ステップＳ６において、上記面積比に基づき、推定欠陥有りチップ数を推定換算する。 - 特許庁 - To provide a TEG structure optimal for evaluating the defect level in the important components of an interconnection process, i.e., interconnect resistance, open circuit and short circuit defect, and through hole process, at a low cost and enhancing the location efficiency of a detected defect.
配線工程で重要な要素である、配線抵抗、断線及びショート欠陥、およびスルーホールのプロセスを低コストで、欠陥レベルを評価し、検出した欠陥箇所の探索効率を向上するための最適なＴＥＧ構造を提供する。 - 特許庁 - A rib-chip defect 102 of a rib 101 on the surface of a work is recognized and a peripheral part including the defect part recognized is buried with a paste for molding 21 and hardened, and then, the paste for molding 21 at the part corresponding to the defect part is removed.
ワーク表面上のリブ１０１のリブ欠け欠陥１０２を認識し、認識された欠損部分を含むその周辺部を型用ペースト２１で埋めて硬化した後、欠損部分に対応する部分の型用ペースト２１を除去する。 - 特許庁 - When a fracture surface of the composite ceramic body 1 subjected to a four-point bending test according to JIS R 1601 is observed and the square root of the projected area of an internal defect acting as the starting point of breakdown is regarded as a defect size, the defect size is ≤55 μm.
ＪＩＳ Ｒ １６０１に基づく４点曲げ試験を行った複合セラミック体１の破面を観察し、破壊の起点となった内部欠陥の投影面積の平方根を欠陥サイズとした場合に、その欠陥サイズが５５μｍ以下である。 - 特許庁 - In the review SEM (defect observation apparatus), the importance degree of images or the like is judged from information such as the classified result of a picked-up defect image, a defect feature amount calculated from the image and the imaging state of the image, and is added to each image as incidental information.
レビューＳＥＭにおいて、撮像した欠陥画像の分類結果、画像から算出された欠陥特徴量、画像の撮像状態などの情報から画像の重要度等を判定し、各画像に付帯情報として付加する。 - 特許庁 - To provide a device and a method for detecting a hole defect detecting accurately existence of a hole defect and the position if a hole defect exists, by preventing surely excessive detection of hole defects of an inspection object by a light receiving part.
受光部による被検査物の穴欠陥の過剰検出を確実に防止して、穴欠陥の有無、及び穴欠陥があった場合のその位置の検出を精度良く行うことができる穴欠陥検出装置及び穴欠陥検出方法を得る。 - 特許庁 - To detect discriminatingly an internal defect and a surface defect of an inspecting object, and accurately detect the defect even when a light diffracting layer such as an integrated lens exists on the inside.
検査対象物の内部欠陥と表面欠陥とを区別して検出することができ、また内部に集積レンズのような光を回折させるような層が存在していても正確に欠陥を検出することができる検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an appearance inspecting device of chaind and an appearance inspecting method using it, while extracting external defect and surface defect correctly, and detecting faulty defect with a high degree of accuracy and attempting to miniaturize well the dimensions against a test object.
外形不良及び表面不良を正確に抽出し、欠陥不良を高精度に検出するとともに、被検査物の大きさに対して十分に小型化を図ったチェーンの外観検査装置及びそれを用いた外観検査方法を提供する。 - 特許庁 - The information recording medium 100 is provided with a data area 102 for recording user data, and at least one defect management area 104 (105, 108, 109) for recording a defect list 112 for managing N defect areas (integer of N≥0).
情報記録媒体１００は、ユーザデータを記録するデータ領域１０２と、Ｎ個の欠陥領域（Ｎ≧０を満たす整数）を管理する欠陥リスト１１２を記録する少なくとも１つの欠陥管理領域１０４（１０５、１０８、１０９）とを備える。 - 特許庁 - To provide a semiconductor integrated circuit capable of relieving a defect to enable the entire circuit to normally operate even if the defect occurs in one part of the circuit, and reducing a change in signal delay due to the relief of the defect.
回路の一部分に欠陥が生じていてもそれを救済して回路全体を正常に動作させることが可能であるとともに、欠陥の救済に伴う信号遅延の変化を小さくすることができる半導体集積回路を提供する。 - 特許庁
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