「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 80 81 82 83 84 85 86 87 88 .... 366 367 次へ＞- A defect distribution on substrate is sorted by comparing the calculated feature amount with a set of features indicating the known defect distribution pattern (S304 to S306).
その特徴量がなす組と、既知の欠陥分布パターンを表す特徴量がなす組との比較を行って、基板上の欠陥分布を分類する（Ｓ３０４〜Ｓ３０６）。 - 特許庁 - To measure defect shapes of a lens, and to conduct itemization for defects of the lens, with simple constitution.
簡単な構成でレンズの欠陥形状測定や項目分類を行うこと。 - 特許庁 - COLOR FILTER DEFECT INSPECTION METHOD, INSPECTION APPARATUS, AND COLOR FILTER MANUFACTURING METHOD USING IT
カラーフィルタ欠陥検査方法、及び検査装置、これを用いたカラーフィルタ製造方法 - 特許庁 - To provide an optical disk recording and reproducing device capable of preventing an off-track even if a spot meanders just before a defect by realizing excellent defect processing.
ディフェクト直前にスポットが蛇行していても良好なディフェクト処理を実現してオフトラックしにくくすることができる光ディスク記録再生装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a plasma display panel of which structural defect of a terminal part of discharge electrode is prevented.
放電電極の端子部不良を防止するプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁 - The defect structure 2 is included in the R_2Fe_14B type magnetic phase.
そして、前記欠陥構造が、前記Ｒ_２Ｆｅ_１４Ｂ型磁性相に内包されている。 - 特許庁 - Next, the chain resistance R and the defect numbers z are investigated on arbitrary positions in a substrate.
基板内任意箇所についてチェーン抵抗Ｒと欠陥数ｘを調べる。 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR INSPECTING PATTERN DEFECT OF KEYBOARD OF VARIOUS ELECTRONIC DEVICES, AND COMPUTER- READABLE RECORDING MEDIUM WHERE PATTERN DEFECT INSPECTION PROGRAM IS RECORDED
各種電子機器のキ—ボ—ドのパタ—ン欠陥検査方法及びパタ—ン欠陥検査システム並びにパタ—ン欠陥検査プログラムを記録したコンピュ—タ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁 - To eliminate a defect of a conventional reciprocating pump while making the most of an advantage of the reciprocating pump.
往復ポンプの利点を活かしつつ従来の往復ポンプの欠点をなくす。 - 特許庁 - To provide a pattern defect inspecting method and device capable of accurately detecting a minute defect after specifying its location.
微細な欠陥を、その位置を特定した上で正確に検出することができるパターン欠陥検査方法およびパターン欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a defect correction method, capable of easily forming a narrow and thick correction layer in a disconnection defect part while reducing the resistance value of the correction part.
断線欠陥部に幅が狭くて厚い修正層を容易に形成することができ、修正部の抵抗値の低減化を図ることが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - To deepen a treating range while preventing unfilling defect caused by the deformation of a base stock.
素材の変形による未充填欠陥を防止しつつ、処理領域を深くする。 - 特許庁 - To provide a radiation detector 11 capable of acquiring a radiation image fitting in a specification in relation to a defect even when the defect occurs in a photoelectric conversion substrate 12.
光電変換基板12で欠陥が発生した場合でも欠陥に関して規格内に収まる放射線画像を取得できる放射線検出器11を提供する。 - 特許庁 - SOLDER DEFECT INSPECTION APPARATUS, IMAGING APPARATUS FOR INSPECTING SOLDERING, AND METHOD FOR DETERMINING QUALITY OF SOLDERING
ハンダ欠陥検査装置、ハンダ検査用撮像装置、およびハンダ良否判別方法 - 特許庁 - Since lattice strain is relaxed and defect density of the low defect contact layer 21 is reduced, operating voltage rise is suppressed immediately after current is carried and operating voltage is lowered.
格子歪みが緩和され、低欠陥コンタクト層２１の欠陥密度が低くなるため、通電直後における動作電圧の上昇が抑制され、動作電圧が低くなる。 - 特許庁 - To provide a component installing tool capable of preventing a component from being fixed by soldering while floating over a circuit board to cause a mounting defect or engagement defect.
部品が回路基板から浮いたり傾いた状態で半田付け等により固定され、実装不良や勘合不良を引き起こすのを防止する部品取付具を提供する。 - 特許庁 - The defect removing device 1 makes a vacuum generator 11 drive, to generate vacuum and sucks the coloring agents 27 in the defect regions 33 through the nozzle 9 before curing.
欠陥除去装置１は、真空発生装置１１を駆動して真空を発生させ、ノズル９から欠陥領域３３にある着色剤２７を硬化前に吸引する。 - 特許庁 - One or more closed areas wherein any defect exists on each of substrates are extracted, and a group of defects occupying the closed areas is determined as a target defect cluster (S101).
各基板上で欠陥が存在する閉領域を１個以上抽出して、その閉領域を占める欠陥の群を対象欠陥クラスタとして定める（Ｓ１０１）。 - 特許庁 - To provide a surface inspection device and a surface inspection method, capable of detecting highly precisely an appearance defect, even relative to the appearance defect having low detection precision in a circular slit.
円形スリットでは検出精度が悪い外観不良に対しても、高精度に外観不良を検出できる表面検査装置および表面検査方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a system for cleaning, inspection, and defect history management of a stud bolt hole capable of performing cleaning, visual inspection, and defect history management of the bolt hole in a lump.
ボルト穴の洗浄と目視検査と損傷履歴の管理とを一括して行うことができるスタッドボルト穴の洗浄、検査及び損傷履歴管理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for evaluating a crystal defect of a silicon single crystal with high accuracy by detecting a microscopic crystal defect in a simple method.
簡便な方法で、微小な結晶欠陥を検出して精度良くシリコン単結晶の結晶欠陥を評価することができる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - METHOD OF ELIMINATING ENGRAVING DEFECT FROM METALLIC FILM DEPOSITED ON FLEXIBLE CARRIER
フレキシブルキャリア上に堆積された金属膜から彫刻欠陥を除去する方法 - 特許庁 - This semiconductor device and treatment provides semiconductor wafers with reduced defect.
半導体装置および処理は、欠陥が低減された半導体ウェハを提供する。 - 特許庁 - To provide a light emitting display module capable of quickly notifying a user of the occurrence of a defect, for example, in the case that the defect occurs in pixels of a luminescent display panel.
例えば発光表示パネルの画素に欠陥が発生した場合に、早急にユーザに対して報知することができる自発光表示モジュールを提供すること。 - 特許庁 - To provide a defect-free hydrogen separation membrane of high hydrogen selectivity and high hydrogen permeability, a method of producing the same, and a method of separating hydrogen using the defect-free hydrogen separation membrane.
水素選択性及び水素透過性が高い無欠陥化水素分離膜及びその製造方法、この無欠陥化水素分離膜を用いた水素分離方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a top plate for a cooking device securing high design even if a glass substrate having a defect is used, and having a hiding effect capable of hiding the defect.
欠点を有するガラス基板を用いた場合であっても、高い意匠性を確保し、かつ欠点を隠蔽できる隠蔽効果を有する調理器用トッププレートを提供すること。 - 特許庁 - To provide a production method for particulate arrangement structure with little defect, a production method for optical media with little defect, and production apparatuses used for production thereof.
欠陥の少ない微粒子配列構造体の製造方法、欠陥の少ない光学媒体の製造方法、及びこれらの製造に用いる製造装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a correcting method for a photomask for correcting a white defect in a photomask, by which a deposition film can be trimmed without inducing a defect in a substrate.
フォトマスクの白欠陥を修正するフォトマスク修正方法において、基板に欠陥が入ることなくデポジション膜のトリミングが行えるフォトマスクの修正方法を提供する。 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR SUBSTRATE WITH LESS DEFECT, SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICES AND METHOD FOR FABRICATION THEREOF
低欠陥の半導体基板、半導体発光素子、およびそれらの製造方法 - 特許庁 - To provide a method for repairing any defect of an aluminum casting even when a defect is found in a final stage in which the aluminum casting is finished to final dimension.
寸法合わせが済んだ最終段階において欠陥を見出した場合であっても、アルミニウム鋳物に生じている欠陥を補修することができるようにしたい。 - 特許庁 - Thereafter, pattern data optimized for the defect inspecting machine are generated from the pattern data according to the divided region determined according to a defect inspecting machine file format.
その後、この図形データから欠陥検査機用のファイルフォーマットで決まる分割領域に合わせて、改めて、前記欠陥検査機用に最適化した図形データを生成する。 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR MEMORY AND METHOD FOR DETECTING DEFECT OF WORD LINE OF SEMICONDUCTOR MEMORY
半導体記憶装置及び半導体記憶装置のワード線欠陥検出方法 - 特許庁 - To properly detect a bottle having a defect even if the surface of the bottle is decorated.
ボトル表面に装飾があっても、欠陥を有するボトルを適切に検出する。 - 特許庁 - To provide a photomask which can suppress the transfer of a defect to a wafer even if the defect arises in a light shielding body film and a method for manufacturing a semiconductor device.
遮光体膜に欠陥が発生しても、その欠陥がウエハに転写されることを抑制できるフォトマスク及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A spot-like defect 23 having a defect level corresponding to the energy width and a form asymmetric to the direction vertical to the slab is disposed within the slab 21.
また、スラブ２１内に、前記エネルギー幅に対応する欠陥準位を有し、スラブに垂直な方向に関して非対称な形状を有する点状欠陥２３を配置する。 - 特許庁 - To provide REDOX secondary cell for detecting electrical insulation defect of tank, its operation method and method for detecting electrical insulation defect place of its tank.
充放電運転中に、タンクの絶縁不良を検出しうるレドックスフロー型２次電池、その運転方法、そのタンクの絶縁不良箇所検出方法を提供する。 - 特許庁 - The gradient of a breakdown voltage line 28 when a defect is present in the trench gate electrode is larger than that of a breakdown voltage line 27 when a defect is absent in the trench gate electrode.
トレンチゲート電極に不良がある場合の耐圧直線２８の傾きは、トレンチゲート電極に不良がない場合の耐圧直線２７の傾きよりも大きい。 - 特許庁 - Based on any one of infrared images, pattern analysis is performed by an infrared image defect part decision means 12 by using a density difference of an image to determine a defect part.
赤外画像欠陥部位特定手段１２は、当該赤外画像のいずれか１枚に基づいて、画像の濃度差によってパターン解析を行い、欠陥部位を特定する。 - 特許庁 - Upon determining whether the pattern formed on the photomask has a defect in an inspection step 6, the defect determination reference is varied according to the attribute information.
検査工程６において、フォトマスク上に形成されたパターンが欠陥を有するか否かを判定するときにはこの属性情報に応じて欠陥判定基準が変更される。 - 特許庁 - This prism defect detecting device detects the defect of the tested prism 3 by making light from a light source 1 enter the tested prism 3 and processing the light emitted from the tested prism 3.
光源１からの光を被検プリズム３に入射させ、被検プリズム３から出射された光を処理することにより、被検プリズム３の不良を検出する。 - 特許庁 - To enable defect repair of a mask with high accuracy and at a high grade by making it possible to perform processing meeting the three-dimensional shapes of defects with an ion beam defect repair system.
イオンビーム欠陥修正装置で欠陥の3次元的形状に応じた加工が行えるようにし、高精度かつ高品位なマスクの欠陥修正を可能にする。 - 特許庁 - To provide an optical disk device easily restarting control before defect can not be corrected even if hardly detectable defect exists, and to provide an optical disk playback method.
検出困難なディフェクトが存在しても、訂正不能となる前に容易に制御を再開することができる光ディスク装置および光ディスク再生方法を提供する。 - 特許庁 - The defect correction processing portion 42a set corresponding to the luminance processing portion 36 sets the correction level at a middle level and conducts a correction of a pixel defect while maintaining a resolution.
輝度処理部３６に対応して設けられた欠陥補正処理部４２ａは、補正レベルを中程度に設定され、解像度を維持しつつ画素欠陥の補正を行う。 - 特許庁 - To correct an amplitude defect in a Mo/Si multilayer film or Mo_2C/Si multilayer film in an EUVL mask.
EUVLマスクのMo/Si多層膜またはMo_2C/Si多層膜中の振幅欠陥を修正する。 - 特許庁 - The reference video signals corresponding to the areas are subtracted from the video signals and the defect image signals including only the defect information are formed.
画像信号比較回路（１３）において、ビデオ信号から当該部位に対応する基準ビデオ信号を減算して欠陥情報だけを含む欠陥画像信号を形成する。 - 特許庁 - To provide the toner capable of preventing occurrence of image defect due to offset phenomenon at the time of using a fixing process corresponding to energy economization and to provide the image forming method capable of preventing occurrence of image defect due to offset phenomenon even by using a fixing process corresponding to energy economization.
省エネに対応した定着装置に使用したときに、オフセット現象に起因する画像不良を発生させることのないトナーを提供すること。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus which prevents an image transfer defect due to an actuation defect of a high-voltage power source mounted with a self-oscillation circuit, and to provide a transfer method and a transfer program.
自励発振回路を搭載した高圧電源の起動不良による画像転写不良を防止する画像形成装置、転写方法、及び転写プログラムを提供する。 - 特許庁 - To prevent deterioration in external appearances and deterioration in weather resistance by elution of alkali caused by penetration of water due to a defect in a coating film of a coated inorganic building material, and to prevent a relatively large defect such as a hole in an organic building material.
無機塗装建材の塗膜欠陥により、水が透過し、アルカリ溶出により外観が劣化したり、耐候性が劣化したりすることの防止。 - 特許庁 - To provide a liquid applying apparatus in which quality defect and the loss of a liquid are eliminated.
品質不良がなく、液体の損失の無い液体塗布装置を提供する。 - 特許庁 - To simplify control constitution and also to prevent an image defect from occurring.
制御構成を簡単化するとともに画像不良の発生を未然に防止する。 - 特許庁
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