「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 81 82 83 84 85 86 87 88 89 .... 366 367 次へ＞- To provide a contact structure in which contact defect is reduced more easily than conventionally.
従来よりも簡易に接触不良を低減するコンタクト構造を提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for inspecting a mounting substrate which can accurately identify a defect cause.
不良原因を正確に特定できる実装基板の検査装置を提供する。 - 特許庁 - The defect candidate detection part 20 images the optically transparent film A which is an inspection object, and detects a defect candidate of the optically transparent film A from the acquired image.
欠陥候補検出部２０は、検査対象である光透過性フィルムＡを撮像し、得られた画像から光透過性フィルムＡの欠陥候補を検出する。 - 特許庁 - An output signal generated by the detection thereof is stored as an image signal, the stored image is compared in a calculation part 29 and a defect determination part 30, and a defect is determined.
検出されたその出力信号は画像信号として記憶され、記憶された画像は演算部２９及び欠陥判定部３０で比較され、欠陥が判定される。 - 特許庁 - To provide a defect detection method for matrix structure and defect detection device of matrix structure which make it possible to easily detect point-like defects in matrix structure.
マトリクス構造における点状の欠陥を容易に検出可能にするマトリクス構造の欠陥検出方法およびマトリクス構造の欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a disk reading device in which size of data required for defect decision processing (processing which decides existence of defect for each cluster) can be made small as much as possible.
ディフェクト判定処理（各クラスタについて、ディフェクトの有無を判定する処理）に必要なデータの大きさを極力小さくし得る、ディスク読取装置を提供する。 - 特許庁 - By this, the structural defect and the variation in the defect to the charge capture center is suppressed minimum and an X-ray detector with little sensitivity degradation can be obtained.
これにより、構造欠陥と欠陥の電荷捕獲中心への変化が最低限に抑えられ、感度劣化の殆どないＸ線検出器を得ることができる。 - 特許庁 - Moreover, the defect area is so small that there is little effect on the battery capacity.
さらに、欠陥の面積は小さいので、電池容量にはほとんど影響が無い。 - 特許庁 - To specify the cause of a defect and to grasp the generating conditions of defect readily and surely by quickening analysis of composition at a defective part based on an X-ray spectrum.
Ｘ線スペクトルに基づいて欠陥部の組成分析の迅速化を図り、欠陥の発生原因の特定や欠陥の発生状況の把握を容易に的確に行う。 - 特許庁 - To provide a method and device for evaluating size and depth of a defect wherein the size and depth of the internal defect of a structure are measured and evaluated quantitatively and accurately.
構造体の内部欠陥の大きさと深さを定量的かつ高精度に測定・評価できる欠陥の大きさと深さ評価方法および装置を提供することにある。 - 特許庁 - To precisely extract a defect in an inspection image without recognizing erroneously as the defect deformation of the inspection image caused by fluctuation of an imaging environment.
撮像環境の変動による検査画像の変形を欠陥と誤認することなく検査画像における欠陥を精度よく抽出可能とした画像処理方法を提供する。 - 特許庁 - Consequently, no crystal defect due to oxide of Al can be found.
このことにより、Alの酸化物による結晶欠陥を発生させることがなくなる。 - 特許庁 - To enable reproducing appropriately information recorded in a recording medium based on a defect list even when defect is caused after information is recorded in the recording medium.
記録媒体に情報を記録した後にディフェクトが形成された場合でも、その記録媒体に記録された情報をディフェクトリストに基づいて適正に再生できるようにする。 - 特許庁 - To provide a device for inspecting a defect of a steel strip for accurately and stably inspecting the defect of the steel strip in the whole width direction even in a bad environment.
悪環境下においても、鋼帯の欠陥を全幅方向に精度よくしかも安定に検査することができる鋼帯の欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - When a line defect 7 is found by lighting inspection, the drive IC chip 4, connected to a signal line at the part of line defect 7, is replaced with a new one.
点灯検査によって線欠陥７が発見された場合には、線欠陥７の箇所の信号線に接続する駆動ＩＣチップ４を、新しいものと交換する。 - 特許庁 - To provide a phase defect correction method of reflection type mask which allows for accurate phase defect correction of a reflection type mask without causing any damage thereon.
反射型マスクがダメージを受けることなく、精度よく、位相欠陥が修正されることを可能とする、反射型マスクの位相欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - To develop a glass composition by which a glass main body has high detergency in order to improve a defect of the glass having a conventional general composition and a defect of a film forming method.
従来の一般的な組成のガラスの欠点と、皮膜形成法の欠点とを改善する目的で、ガラス本体が高洗浄性を有するガラス組成物を開発する。 - 特許庁 - To provide a system and a method for pattern defect inspection which can speed up detailed analysis of detected pattern defect in semiconductor circuit pattern formation process, by skipping visual reinspection through a review device.
半導体回路パターン形成工程において、レビュー装置による目視再検査を省略して、検出したパターン欠陥の詳細な解析を迅速化する。 - 特許庁 - To provide a device and method for defect inspection, capable of inspecting a defect generated on the surface of a workpiece at high speed with high accuracy.
被検査物の表面上に発生する欠陥を、高速に、かつ、高精度に検査することのできる欠陥検査装置及び欠陥検査方法の提供を目的とする。 - 特許庁 - IMAGE PICKUP UNIT AND DEVICE AND METHOD FOR DETECTING PIXEL DEFECT IN SOLID-STATE IMAGE PICKUP ELEMENT
撮像装置並びに固体撮像素子の画素欠陥検出装置及び方法 - 特許庁 - While removing the surface defect layer of the anode 16 the inorganic compound can maintain a state in which the surface defect is removed.
スパッタ処理により、陽極１６の表面不良層を除去しつつ、無機化合物によって、表面不良層が除去された状態を保持させることが可能である。 - 特許庁 - To the casting defect 3, specified at this position, the rotated bar-like tool 9 is pushed to this position at this time, to plastically fluid this defect while semi-melting with the friction heat.
位置が特定された鋳物欠陥３に対しその都度回転している棒状ツール９を押し付けて、摩擦熱にて半溶融させながら塑性流動させる。 - 特許庁 - To prevent the occurrence of defect caused by a minute foreign matter intruding inside a camera module.
カメラモジュール内部に侵入した微細な異物による不良の発生を防止する。 - 特許庁 - To provide a method and a device for surely detecting a very small defect generated in the end face of the stacked belt ring and simultaneously automatically detecting the size of the defect as well.
積層ベルトリングの端面に生じた微小な傷も確実に検出することができ、また、同時に傷の大きさも自動的に検出できる方法と装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of an electron beam welding and equipment therefor by which a welding defect is suppressed.
溶接欠陥を抑制できる電子ビーム溶接方法とその装置の提供。 - 特許庁 - To provide a method and a system for suppressing defect formation in liquid immersion lithography.
液浸リソグラフィにおける欠陥形成を抑制する方法とシステムを提供する。 - 特許庁 - To provide an automatic detection device for an initial print defect on a metalized strip.
金属化ストリップ上の初期印刷欠陥の自動検出装置を提供する。 - 特許庁 - This effect for the unlit defect can be obtained regardless of the number thereof, and therefore, a high yield can be expected, and there is no need for inspection/repair of the unlit defect, and a manufacturing cost can be reduced.
滅点数の多少に関わらずその効果が得られるので高歩留まりが期待でき、滅点の検査・リペアが不要であり、製造コストを低減できる。 - 特許庁 - To reduce a decrease in surface property and a defect in picture quality with simple constitution.
簡素な構成で、表面性を低下や画質欠陥の発生を低減すること。 - 特許庁 - To provide an information recording medium with high reliability having a fixed defect management method wherein defect management information areas opposed to each other regardless of the recording density.
記録密度に関わらず、欠陥管理情報領域が互いに対向し、かつ、欠陥管理方法が固定である信頼性の高い情報記録媒体を提供すること。 - 特許庁 - To obtain a memory device with redundant memory cell defect relieving function which can realize accurately defect relieving for a redundant memory cell with appropriate and simple constitution.
適切かつ簡潔な構成により冗長メモリセルについての欠陥救済を的確に実現できる冗長メモリセル欠陥救済機能付きメモリ装置を得る。 - 特許庁 - IMAGE CORRECTION DEVICE, PATTERN INSPECTION DEVICE, IMAGE CORRECTION METHOD, AND PATTERN DEFECT INSPECTION METHOD
画像補正装置、パターン検査装置、画像補正方法、及び、パターン欠陥検査方法 - 特許庁 - The mask manufacturing load index is expressed with a defect guarantee load index and a lithography load index.
マスク製造負荷指数は、欠陥保証負荷指数と描画負荷指数とで示す。 - 特許庁 - To provide a substrate for forming a soli-state image sensor capable of providing an excellent characteristic solid-state image sensor without causing any defect such as a white flaw defect.
白傷欠陥のなどの欠陥を生じることなく、特性のすぐれた固体撮像素子を提供することのできる固体撮像素子形成用基板を提供する。 - 特許庁 - To improve a defect of a conventional centrifuge rotor.
本願発明の課題は、従来の遠心分離機ロータの欠点を改善することである。 - 特許庁 - Next, an inspection is carried out for a streak image defect near the correspondence position (S26).
そして、その対応位置付近について、筋状の画像欠陥を検査する（Ｓ２６）。 - 特許庁 - METHOD FOR ELIMINATING DEFECT OF PERIPHERAL PART OF SLIDER OCCURRING IN CONVENTIONAL MACHINING PROCESSES
従来の機械加工工程によるスライダ周縁部の欠陥を排除する方法 - 特許庁 - A data processing part 10 performs a defect analytical processing operation based on the two data.
データ処理部１０はこれら２つのデータに基づく不良解析処理を行う。 - 特許庁 - To provide an optical device defect inspection method and an optical device defect inspecting apparatus which is not affected by the difference in the curvature or the position of optical device, and which is high-speed and low cost.
曲率の違いや光学デバイスの位置に影響されない高速かつ安価な光学デバイス欠陥検査方法及び光学デバイス欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁 - LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND METHOD AND DEVICE FOR REPAIRING BRIGHT SPOT DEFECT
液晶表示装置、及び輝点欠陥修復方法、輝点欠陥修復装置 - 特許庁 - To provide an optical disk apparatus in which a whole defect including small defect such as fingerprint, dirt, and scratch is detected, and data failure of a block unit can be estimated accurately.
指紋、汚れ、傷などの小さなディフェクトを含むディフェクト全般を検出して、ブロック単位のデータ破綻を精度良く推定できる光ディスク装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus that prevents an image defect such as image flow.
像流れなどの画像欠陥が生じることのない画像形成装置の提供。 - 特許庁 - METHOD FOR ACQUIRING HIGH-RESOLUTION IMAGE OF DEFECT ON UPPER SURFACE OF WAFER EDGE
ウエハ縁端部の上部表面の欠陥の高分解能画像を取得する方法 - 特許庁 - To discriminate existence of a defect causing a pixel defect such as a bright point, a bright line or the like, relative to a driving substrate such as a TFT board or the like before integration into a liquid crystal panel.
液晶パネルに組み立てる前の、ＴＦＴ基板等の駆動基板に対して、輝点、輝線等の画素欠陥の原因となる不良の有無を判別できるようにする。 - 特許庁 - To provide a defect relieving device and method for a memory device in which a defect can be relieved without reducing efficiency by utilizing effectively device resources.
装置資源の有効利用を図った上で、効率を低下させることなく不良救済を行うことができるメモリデバイスの不良救済装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - SURFACE INSPECTION APPARATUS, DEFECT DETECTING METHOD USING THE SAME, PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM
表面検査装置、それを用いた欠陥検出方法、プログラム及び記録媒体 - 特許庁 - To provide an apparatus for detecting defect in which the image processing load for identifying a defect can be lessened without complicating the arrangement of the apparatus.
装置の構成が複雑化することなく、しかも欠陥を識別するための画像処理上の負荷を軽減することのできる欠陥検査装置を提供すること。 - 特許庁 - The defect removing device 1 controls a Z-direction positioning mechanism 17 to bring the nozzle 9 into contact with or close to coloring agents 27 in the defect regions 33.
欠陥除去装置１は、Ｚ方向位置決め機構１７を制御し、ノズル９を欠陥領域３３にある着色剤２７に接触あるいは接近させる。 - 特許庁 - To provide an inspection method of a reflection type mask capable of inspecting more correctly and simply the existence of a defect including the phase defect of the reflection type mask.
反射型マスクの位相欠陥を含めた欠陥の有無を、より正確かつ簡易に検査することを可能とする反射型マスクの検査方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a deterioration diagnostic method of a lined piping capable of accurately detecting the defect of a lining layer and also capable of easily detecting the location of the defect.
ライニング層の欠陥を精度良く検出することができると共に、欠陥の位置を容易に検出することができるライニング処理配管の劣化診断方法を提供する。 - 特許庁
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