「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 77 78 79 80 81 82 83 84 85 .... 366 367 次へ＞- In other words, the defect data is not shown by simply being overlapped with the shape of the cast product, but the attention is payed to the relation between the defect and the machining portion to be especially considered to cause a problem if the defect exists near the machining portion.
つまり、欠陥データと鋳造品の形状とを単純に重ね合わせて表示するのではなく、欠陥が近接していると特に問題が生じるであろう部位であると考えられる加工部と欠陥との間の関係に着目している。 - 特許庁 - To provide a marking controller which marks a label with a pattern for identifying an inspecting device which has detected a defect in response to a plurality of defect detection signals in defect inspection of printed matter and attaches it onto the printed matter, or puts a mark on the printed matter.
印刷物の欠陥検査において、複数の欠陥検出信号に対し、欠陥を検出した検査装置の判別が可能なパターンを、ラベルにマーキングし印刷物に貼付、あるいは印刷物にマーキングするマーキング制御装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for avoiding defect in a control program for reducing an excess cost and delay of schedule by avoiding the defect even when the defect occurs in the control program in a non-rewritable memory and a correction of the program is required.
書換え不可能メモリ内の制御プログラム上に不具合が発生し修正が必要になった場合でも、不具合を回避することで余分なコストの発生や日程の遅れを軽減することができる不具合制御プログラム回避方法を提供する。 - 特許庁 - A template 100 set for classifying the defect distribution of a certain substrate group and data groups 101 and 102 obtained by classifying whether or not the defect distribution of the substrate group is pertinent to a defect distribution pattern described in the template 100 are prepared.
或る基板群の欠陥分布を分類するために設定されたテンプレート１００と、基板群の欠陥分布がテンプレート１００に記述された欠陥分布パターンに該当するか否かを分類して得られたデータ群１０１，１０２とを用意する。 - 特許庁 - A memory LSI is tested, the number of defect bits are counted for bit map data for each address coordinate, a histogram of the number of defect is made, and wavelet analysis making harl function a base function is performed by assuming the made histogram of the number of defect as a discrete signal.
メモリＬＳＩを試験し、ビットマップデータに対してアドレス座標毎に不良ビット数をカウントし、不良数ヒストグラムを作成し、作成した不良数ヒストグラムを離散信号とみなして、ハール関数を基底関数としたウェーブレット解析を行う。 - 特許庁 - To provide a method of detecting a defect of a concrete structure which is applied to the detection of a defect of a concrete structure which is laid underground, and is excellent in the transmission efficiency of SH wave which is transmitted and received, and can detect the defect with high precision easily.
埋設状態にあるコンクリート構造物の欠陥の検出に適用され、送受信されるＳＨ波の伝達効率に優れ、その欠陥を精度よく容易に検出できるコンクリート構造物の欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁 - To sufficiently guarantee defect detection sensitivity corresponding to minute defects occurring in an actual semiconductor process and, in particular, to use the defect detection sensitivity for production management as an indicator for judging sensitivity adjustment after a light source replacement is performed in a lighting means of a defect detecting device.
実際の半導体プロセスおいて発生する微小欠陥に対応した欠陥検出感度を十分に保証し、特に欠陥検査装置の照明手段の光源交換後の感度調整を判断する指標として製造管理に利用する。 - 特許庁 - To provide a laser defect correcting method and a laser defect correcting device capable of realizing high-quality defect correction without damaging a base plate by surely preventing particles scattered at the time of laser transpiration with simple constitution from adhering to the base plate again.
簡単な構成でレーザ蒸散時の飛散した粒子が基板に再付着することを確実に防止して、基板にダメージを与えずに高品質な欠陥修正が可能なレーザ欠陥修正方法およびレーザ欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a magnetic defect inspecting method for magnetic disk, capable of carrying out highly accurate defect inspection by correcting the positional shifting of a magnetic head recording/reproducing element for inspecting a defect so as to make a reproducing signal high in S/N.
磁気ディスクの磁気的欠陥検査用方法に関し、欠陥を検査する磁気ヘッドの記録・再生用素子位置ずれ補正を行うことによって、再生信号を高S/N化し、精度の高い欠陥検査を行うことを可能とする方法を提供する。 - 特許庁 - An opening defect 503 generated by a change of the structure of an austenite-based stainless steel 501 into a sensitive structure 502 is irradiated with a laser beam 4 by scanning, and a molten layer 505 is formed at the opening defect 503 and the defect is closed.
オーステナイト系ステンレス鋼５０１の組織が鋭敏化組織５０２に変化したことにより発生する開口欠陥５０３に対し、レーザ光４を走査しながら照射することにより、開口欠陥５０３に溶融層５０５を形成して封止する。 - 特許庁 - The continuous defect determination method for analyzing distribution morphology based on information regarding surface defects arisen on the thin steel sheet F to determine the presence of continuous defect.
薄鋼板Ｆに発生する表面欠陥に関する情報を基に分布形態を解析して連続欠陥の有無を判定する連続欠陥判定方法を提供する。 - 特許庁 - In the case of the defect part being a chip or cut, the defect part is corrected by coating or filling a barrier rib material and then a corrected portion 85 can be corrected.
なお、欠陥部が欠けまたは切断部である場合はバリアーリブ材料を塗布または充填して修復してから当該修復部分８５を修正することができる。 - 特許庁 - DEFECT DETECTION OPTICAL SYSTEM, AND EFFECT INSPECTION METHOD AND DEVICE USING IT
欠陥検出光学系、これを用いる欠陥検査方法および欠陥検査装置 - 特許庁 - To provide a pattern defect correcting method and a pattern defect correcting device capable of satisfactorily correcting pattern defects, and enhancing correction efficiency.
パターン欠陥修正を良好に行なうとともに修正効率の向上を図ることが可能なパターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a laminated ceramic electronic component which has neither a structural defect nor a cutting defect and has high reliability.
構造欠陥や切断不良がなく信頼性が高い積層セラミック電子部品を製造することができる、積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To repair/eliminate a casting defect and a defect in structure, which are likely generated inside a metal member, without deteriorating a shape and dimensional precision of a metal member.
金属部材の内部で生じている可能性がある鋳造欠陥や組織不良を金属部材の形状・寸法精度を低下させることなく補修し改善する。 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR DETECTING DEFECT OF SOLID-STATE IMAGE PICKUP ELEMENT, AND STORAGE MEDIUM STORING PROGRAM OF DEFECT DETECTING METHOD OF THE ELEMENT
固体撮像素子の欠陥検出装置及び固体撮像素子の欠陥検出方法並びに固体撮像素子の欠陥検出方法のプログラムを格納した記憶媒体 - 特許庁 - In the event of positional slippage, an area where no defect pixel data are present is estimated for the visible image from an area where detect pixel data are present, and this position is also taken as defect pixel data.
位置ずれが生じ可視画像に対して欠陥画素データが存在しない領域を、存在する領域から推測し、その位置も欠陥画素データとする。 - 特許庁 - METHOD OF INTRODUCING NANO-SCALE CRYSTAL DEFECT INTO HIGH TEMPERATURE SUPERCONDUCTING OXIDE THIN FILM
高温超電導酸化物薄膜にナノスケールの結晶欠陥を導入する方法 - 特許庁 - To provide a defect inspection apparatus capable of improving the overall throughput of production processes by facilitating the quality determination of substrates, and to provide a defect inspection method.
基板の良否判定を容易にすることによって製造工程全体のスループットを向上させることができる欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - Then, a parameter suitable for defect identification and defect classification to each of a plurality of these areas is selected from among a plurality of parameters prepared in advance.
そして、これらの複数の各領域に対する欠陥識別及び欠陥分類に適したパラメータを、予め用意しておいた複数のパラメータのなかから選択する。 - 特許庁 - To provide a pattern defect inspecting device capable of simultaneously inspecting both of a chrome pattern and a phase shift pattern without detecting pseudo defect in a photomask in which the chrome pattern and the phase shift pattern coexist.
クロムパターンと位相シフトパターンの混在フォトマスクにおいて、擬似欠陥を検出すること無く、両パターンを同時に検査できるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - In a period of the pulse, the second input signal is changed so as to make possibility that the defect detection signal shows the presence of a defect become small.
前記パルスの期間において、前記ディフェクト検出信号がディフェクトがあることを示す可能性が小さくなるように、前記第２の入力信号を変化させる。 - 特許庁 - To provide a diagnostic unit which detects any problem or defect of an air-conditioner or a refrigeration unit, determining whether the problem or defect lies in a compressor or in any other component.
空調装置或いは冷凍装置の問題点ないし欠陥を、それが圧縮機にあるか他の構成要素にあるかを特定して検出する診断装置を提供する。 - 特許庁 - To detect in a short period of time, without extending the period of holding, any defect known as a weak-SD defect in a conductive state via a resistance between the source and the drain of a TFT array.
ＴＦＴアレイのソース・ドレイン間のWeak-SD欠陥と呼ばれる抵抗を介して導通状態にある欠陥を、保持時間を長くすることなく短時間で検出する。 - 特許庁 - METHOD FOR REMOVING MASK EXCESS DEFECT BY USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE MICROPROCESSING DEVICE
原子間力顕微鏡微細加工装置を用いたマスク余剰欠陥除去方法 - 特許庁 - To quicken the defect analysis of a semiconductor memory by automatically updating a defect mode criterion when the number of defects of the FMB data of the semiconductor memory is equal to or more than a threshold value.
半導体メモリのＦＢＭデータの不良数が閾値以上の場合に、不良モード判定基準を自動更新し、半導体メモリの不良解析を早める。 - 特許庁 - IMAGE CORRECTION DEVICE, PATTERN TEST DEVICE, IMAGE CORRECTION METHOD, AND PATTERN DEFECT TEST METHOD
画像補正装置、パターン検査装置、画像補正方法、及び、パターン欠陥検査方法 - 特許庁 - The high heat-resistance of the second protective film 44b can divide the defect after a heating process.
第２の保護膜44bの高い熱耐性で加熱プロセス後の欠陥を分断できる。 - 特許庁 - To inspect a painted state of a surface by one image pickup simply and with high efficiency, in a painted surface defect inspection method and a painted surface defect inspection device.
塗装表面欠陥検査方法及び塗装表面欠陥検査装置に関し、表面塗装状態の検査を１回の画像撮像により簡便に且つ高効率に行う。 - 特許庁 - To provide an eddy current flaw detection sensor capable of detecting a defect on a deep part and on a defective shell part, and discriminating and evaluating the defect highly accurately.
深層部分及び欠陥胴体部の欠陥検出が可能で、欠陥の識別及び評価を高精度に行うことが可能な渦電流探傷センサを提供する。 - 特許庁 - To reduce the overlook of a common defect in a die comparison system and a post-process due to double counting of the defect existing in a reference image after inspection and realize an efficient inspection.
ダイ比較方式の共通欠陥の見逃し、及び参照画像に存在する欠陥のダブルカウントによる検査後処理を軽減し、効率的な検査を実現する。 - 特許庁 - STRUCTURE FOR REPAIRING LINE DEFECT OF ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY AND METHOD OF REPAIRING IT
有機電界発光表示装置の配線修理構造及びその修理方法 - 特許庁 - As a result, out of the data of the feature quantities f51-f100 of the second group, the defect data, for which the learning model A cannot specify the defect type "C1" or "C2", are defined as discard class data.
この結果、第２群の特徴量ｆ５１〜ｆ１００のデータのうち、学習モデルＡでは疵種「Ｃ１」、「Ｃ２」を特定できない疵データを棄却クラスのデータとする。 - 特許庁 - INK FOR CORRECTING DEFECT OF FINE COLORED PATTERN, ITS CORRECTION METHOD, AND COLOR FILTER
微小着色パターン欠陥修正用インキ、その修正方法、及び、カラーフィルター - 特許庁 - To provide a defect determining method of a lead-acid battery and a charging method of the lead-acid battery wherein the defect can be determined in the initial stage or in the way of charging stage.
充電の初期又は途中の段階で不良を判定することができる鉛蓄電池の不良判定方法及び鉛蓄電池の充電方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for power supply, where if defect is detected during aging, the cause of the defect can be tracked down with ease and the defective item can be reused.
エージング中などに不具合が検出されたときに不具合の原因解析が容易であり、不具合品の再生利用が可能な電源装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To draw or lithographically form an extremely fine linear pattern without any defect by using a liquid jet technology.
液体噴射技術により極めて微細な線パターンを欠陥無く描画する。 - 特許庁 - To provide a display device and a defect restoration method of display device, capable of surely restoring a defect by suppressing movement of air bubbles, when applying laser beams for defective pixel produced in a manufacturing process.
製造工程中で発生した欠陥画素について、レーザ光を照射した場合の気泡の移動を抑制し、確実に欠陥を修復することを目的とする。 - 特許庁 - To surely detect even a minute defect of a halftone type phase shift mask.
ハーフトーン型位相シフトマスクの微小な欠陥をも確実に検出できるようにする。 - 特許庁 - To prevent the generation of a defect in printing caused by the sticking of a cover body in a cartridge.
カートリッジの蓋体の固着に起因して印刷不良が発生するのを防ぐ。 - 特許庁 - To heighten accuracy and to heighten speed of defect detection based on three-dimensional measurement.
３次元計測に基づく欠陥検出の高精度化および高速化を図る。 - 特許庁 - To provide a method for handling a defect of a hard disk drive, and a recording medium and apparatus.
ハードディスクドライブの欠陥管理方法，記録媒体及び装置を提供する。 - 特許庁 - To enable high-speed flaw detection, and to improve detection ability of a fine defect.
高速探傷を可能とし、あわせて、微小欠陥の検出力を向上する。 - 特許庁 - To execute defect relief of a memory loaded on a memory module on a computer system.
メモリモジュールに搭載されたメモリの不良救済をコンピュータシステム上で実行する。 - 特許庁 - To enable a highly accurate and high quality defect correction of an isolated fine pattern and an OPC pattern which is hardly observed by an ion beam defect correcting device because of charge-up.
チャージアップのためにイオンビーム欠陥修正装置で観察しにくい微細化な孤立したパターンやOPCパターンの高精度かつ高品位な欠陥修正を可能にする。 - 特許庁 - To detect a defect inside a substrate, regardless of the depth from the substrate surface.
基板の内部の欠陥を、基板の表面からの深さに関わらず検出する。 - 特許庁 - RADIATION SHIELD WITH LITTLE SHIELDING DEFECT AND RADIOACTIVE MATERIAL CONTAINMENT VESSEL
遮蔽欠損の少ない放射線遮蔽体および放射性物質収納容器 - 特許庁 - Each defect imaging part 3 is able to image a height component (thickness-directional component of the film 1) of the defect, because arranged to be inclined with respect to a film face by a prescribed angle θ.
欠陥撮像部３は、フィルム面に対して所定角度θ傾けて配置されているため、欠陥の高さ成分（フィルム１の厚み方向の成分）を撮像可能である。 - 特許庁 - To provide a tool defect inspection method and a tool defect inspection device for viewing the whole blade surface with fixed brightness, and inspecting efficiently and accurately.
一定の明るさで刃面全体を見ることができ、効率良く正確に検査することができる工具欠陥検査方法と工具欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
