METHOD, DEVICE AND PROGRAM FOR PREDICTING MANUFACTURING DEFECT PART OF SEMICONDUCTOR DEVICE 半導体装置の製造不良箇所の予測方法、予測装置及び予測プログラム - 特許庁
A pixel defect correction unit 17 corrects image signals at the calculated correction position. 画素欠陥補正部17は、算出された補正位置の画像信号を補正する。 - 特許庁
To solve a defect which occurs when a rise in temperature cannot be curbed. 温度上昇を抑えることが不可能な場合に生じる不具合を解決する。 - 特許庁
To reduce the time and cost loss required for defect extraction by quickly specifying commodities using defective components in the case of the occurrence of a defect in a manufacturing process. 生産工程で不良が発生した場合に、迅速に不良部品を使用した商品を特定し、不良を抽出する時間及び費用ロスの削減を図る。 - 特許庁
A depth of the internal defect is estimated, by applying a relationship between the defect depth and the period of the reference waveform to a previously recorded pattern table based on the obtained period. 取得した周期に基づいて、欠陥深さと参照波形の周期との関係を予め記録したパターンテーブルに当てはめることにより内部欠陥の深さを推定する。 - 特許庁
To improve element body (body casing) strength in a surface-mounted piezoelectric vibration device using a brazing filler metal and to prevent a leakage defect (airtightness defect). 本発明は、金属ろう材を用いた表面実装型圧電振動デバイスにおける素体(本体筐体)強度を向上させ、リーク不良(気密不良)を防止することができる。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus capable of detecting a white-dot defect and a black-dot defect of pixels of an image sensor without any error while individual nonvolatile memories are not provided. 個別の不揮発性メモリをもたないが、イメージセンサにおける画素の白点不良及び黒点不良を誤りなく検出することができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁
Further, the photonic crystal defect device contains a turnout, a coupler and a directional coupler which have the photonic crystal defect waveguide on one part of the structure. さらに、フォトニック結晶欠陥導波路を構造の一部に有する電磁波伝送における分岐器、結合器および方向性結合器等のフォトニック結晶欠陥デバイス。 - 特許庁
To provide a method of a laser beam welding and a laser beam welding equipment by which a weld defect is decided in a short time and the weld defect is decreased. 溶接不良の判別を短時間で行えるとともに、溶接不良を減少させることのできるレーザ溶接方法及びレーザ溶接装置を提供すること。 - 特許庁
This defect detection device is constituted by using the dark field illumination device. また、このような暗視野照明装置を用いて、欠陥検出装置を構成する。 - 特許庁
After the other process is completed, defects of the wafer W are observed so as to identify the defects again by the defect observation apparatus 3 based on the initial defect identification data. そして、別のプロセスが終了した後、欠陥観察装置3により初期欠陥識別データを基にしてウェハWの欠陥を観察し、再び欠陥の識別を行う。 - 特許庁
To provide a semiconductor memory device which can efficiently detect a defect due to shortage of an accumulated charge amount of a memory cell, and to provide its defect detection method. メモリセルの蓄積電荷量の不足による不良を効率よく検出することができる半導体記憶装置及びその不良検出方法を提供する。 - 特許庁
To measure with higher accuracy iron concentration in a silicon wafer without influence of a defect resulting from oxygen even in the case of the silicon wafer where the defect resulting from oxygen is generated in higher density. 酸素起因欠陥が高密度に発生したシリコンウェーハであっても、酸素起因欠陥に影響されずに、シリコンウェーハ中の鉄濃度を高精度に測定する。 - 特許庁
SYSTEM FOR INSPECTING/CORRECTING ELECTRODE LAYER PATTERN DEFECT OF CAPACITANCE TYPE TRANSMISSIVE TOUCH PANEL 静電容量式透過型タッチパネルの電極層パターン欠陥検査修正システム - 特許庁
To provide a repair method for a stencil type reticle capable of correcting a white defect part or black defect part generated in a transfer pattern formed by an electron beam scattering body. 電子線散乱体によって形成された転写パターンに生じた白欠陥部又は黒欠陥部を修正できるステンシル型レチクルのリペア方法を提供する。 - 特許庁
The method can also include a step to make the material stationing machine automatically arranging sufficient material to repair the defect in the place of defect. この方法は、材料配置機械が欠陥の場所における欠陥を修復するのに十分な材料を自動的に配置するようにさせるステップもまた含み得る。 - 特許庁
To provide an electron microscope capable of automatically detecting a defect and observing high resolution without requiring to specify a defect position by using an inspection device in advance. 予め検査装置を用いて欠陥位置を特定する必要なく、欠陥の検出及び高分解能観察を自動的に行うことのできる電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for detecting membrane defect, and a filtering device, capable of accurately and efficiently detecting a defect caused in a separation membrane. 分離膜に生じた欠陥を迅速、かつ、高精度で効率よく検出できる膜欠陥検出方法および膜欠陥検出装置並びに、濾過装置を提供する。 - 特許庁
To provide a reticle defect inspection device and a reticle defect inspection method, which suppresses damages on a reticle by irradiation with inspection light when a reticle is inspected in a still state. レチクルを静止させた状態での検査の際の、検査光照射によるレチクルの損傷を抑制するレチクル欠陥検査装置およびレチクル検査方法を提供する。 - 特許庁
METHOD AND SYSTEM FOR COMPENSATING DEFECT IN PLURAL LIGHT VALVE DISPLAY SYSTEMS 複数光弁ディスプレイ・システムにおける欠陥を補償するための方法及びシステム - 特許庁
LOW TEMPERATURE ANNEAL TO REDUCE DEFECT IN HYDROGEN-IMPLANTED, RELAXED SiXGe1-X LAYER 水素注入緩和SiXGe1−X層の欠陥を低減する低温アニール - 特許庁
To provide a defect inspection device and method to quickly and accurately perform a defect inspection even when inspecting inspection faces of both upper and lower sides of an inspection object. 検査対象物の上下両側の検査面を検査する場合でも、欠陥検査を迅速に且つ精度良く行うことができる欠陥検査装置及び方法を提供する。 - 特許庁
METHOD AND PROGRAM ENABLING AUTOMATIC REPAIR OF DEFECT BY MATERIAL STATIONING MACHINE 材料配置機械による欠陥の自動修復を可能にする方法およびプログラム - 特許庁
To provide a novel surface defect inspection device and surface defect inspection method for accurately and almost simultaneously detecting small rugged defects and pattern-like defects. 小さな凹凸欠陥や模様状欠陥を精度良くかつほぼ同時に検出することができる新規な表面欠陥検査装置および表面欠陥検査方法の提供。 - 特許庁
The photonic crystal structure has a line defect portion 10 where no hole 9 is present, interposed by the plurality of holes 9, and the line defect portion 10 serves as an optical waveguide. このフォトニック結晶構造は、複数の空孔9に挟まれて空孔9が存在しない線欠陥部10を有し、線欠陥部10が光導波路として機能する。 - 特許庁
The IC chip reading section 14 has a function that detects defect information about defects of the IC chip 4, and the defect information is transmitted to a control section 30. ICチップ読出部14は、ICチップ4の欠陥に関する欠陥情報を検出する機能を有しており、当該欠陥情報は、制御部30に送信される。 - 特許庁
Thereby, because a bright spot is formed at the defect part when the light beam propagates inside of the substrate to encounter the internal defects, the image sensor module can detect the defect part. これにより、光線が基板内を伝わり内部欠陥に遭遇した場合、欠陥部分に明点が形成され、イメージセンサモジュールがこの欠陥の位置を検出する。 - 特許庁
The waveguide region of the photonic crystal has a first basic structure and a first defect part, the mode transformation region of the photonic crystal has second and third basic structures and a second defect part. フォトニック結晶の導波路領域は第1の基本構造と第1の欠陥部を、モード変換領域は第2、第3の基本構造と第2の欠陥部を有する。 - 特許庁
To provide a pattern inspection apparatus and method for enhancing contrast to a fine defect and enhancing contrast regardless of the type, material, or shape of a defect. 微細な欠陥に対するコントラストを高くしたり、欠陥の種類、材料、形状によらずコントラストを高くするパターン検査装置およびパターン検査方法を提供する。 - 特許庁
To timely detect a winding defect of a wire wound around an inner tube. 内管の周囲に巻き付けられたワイヤの巻き付け不良をタイムリーに検出する。 - 特許庁
To reliably amend any defect in a laser beam machining method and a laser beam machining apparatus. レーザ加工方法及びレーザ加工装置において、欠陥を確実に修正する。 - 特許庁
A region including the defect location coordinates on the second coordinate system of the element formation surface is imaged by the defect imaging device (S8, S9). 前記欠陥撮影装置により前記素子形成面の前記第2の座標系上における前記欠陥位置座標を含む領域の撮影を行う(S8、S9)。 - 特許庁
A defect detection means 84 compares the theoretical edge shape with the observed edge shape, and from a difference found by the comparison, detects a defect of the article to be inspected. 欠損検出手段84は、理論エッジ形状と実測エッジ形状とを比較することにより、その差分から円盤状の被検査物品の欠損を検出する。 - 特許庁
A defect detection processing part 110 detects the defect of the working surface by signals outputted from the sensor 80 after positioning is performed by the controller 100. 欠陥検出処理部110が、制御装置100により位置決めした後にセンサ80から出力される信号により加工表面の欠陥を検出する。 - 特許庁
To provide a test method of semiconductor device which reflects possibility of having potential defect in test result of a bit line pair which can be a defect, and the semiconductor device. 不良となり得るビット線対のテスト結果に、潜在的な不良を有する可能性を反映する半導体装置のテスト方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR DETECTING WELD DEFECTS OF CAPACITOR DISCHARGE TYPE STUD WELDING MACHINE AND DEFECT DETECTION DEVICE コンデンサ放電型スタッド溶接機の溶接良否判定方法及び判定装置 - 特許庁
To provide an edge defect detection method for automatically detecting edge defects appropriately. エッジ欠陥を適切に自動検出できるエッジ欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁
To provide a defect inspection method of an image sensor in which defect inspection of the image sensor can be carried out with high precision, even when high sensitivity of the image sensor is advanced. 撮像素子の高感度化が進んだ場合でも、撮像素子の欠陥検査を高精度で行うことが可能な撮像素子の欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁
The defect identification tool predicts locations at which defects in the microdevice are likely to occur. 欠陥同定ツールは、微小デバイス内の欠陥が生じ易い位置を予測する。 - 特許庁
To provide a test structure of a semiconductor element for detecting a defect size. 欠陥サイズを検出することができる半導体素子のテスト構造を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor memory in which short circuit defect can be detected in a short time. 短絡不良を短時間で検出できる半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁
With a defect located in front of the flowing direction of a ribbon-like glass sheet, as a starting object, successively, cutter lines in a longitudinal direction and a transverse direction are set so as to evade each defect. リボン状ガラス板の流れ方向の前方に位置する欠点から順次対象として、各欠点を避けるように縦方向および横方向のカッター線を設定する。 - 特許庁
Moreover, inspection data by a plurality of inspection devices about one defect are allowed to be registered, and classification information of a defect which is an object for analysis is allowed to be arbitrarily selected. また、ひとつの欠陥について複数の検査装置による検査データを登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。 - 特許庁
To detect a defect by discriminating efficiently whether a defect exists on a plate-like body or not, in a manufacture line or the like of the plate-like body having transparency such as a glass plate. ガラス板等の透明性を有する板状体の製造ライン等において、板状体に存在する欠陥か、否かを効率よく判別して検出する。 - 特許庁
To reduce occurrence probability of a defect by an element separation part for separating elements. 素子を分離するための素子分離部による不具合の発生確率を低減する。 - 特許庁
To provide a defect inspecting method for a photomask with an additional figure which has good inspection efficiency. 検査効率の良い付加図形付きフォトマスクの欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁
The analyzed data S13 is inputted to an automatic defect classifying part 14, and defects existing on a surface to be inspected of each chip are classified at the automatic defect classifying part 14. 解析データS13 は欠陥種自動分類部14に入力され、該欠陥種自動分類部14で各チップの被検査面上に存在する欠陥の種類が分類される。 - 特許庁
To provide a solid-state electrolytic capacitor having a structure to which a defect hardly occurs. 不良が生じにくい構造を備えた固体電解コンデンサを提供すること。 - 特許庁
The silicon carbide agglomerates having 4-6 inch diameter and ≤103/cm2 plane defect density can also be provided. 口径4〜6インチ、面欠陥密度10^3/cm^2以下の炭化珪素塊。 - 特許庁