「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 12 13 14 15 16 17 18 19 20 .... 26 27 次へ＞- The antenna system has a printed circuit board 200 on which the antenna block 100 is mounted, the printed circuit board 200 has a feed conductor 240 and a radiation conductor 250 connected through the antenna block 100, and the radiation conductor 250 includes a branch pattern 251 formed on a top surface of the printed circuit board 200 and a branch pattern 252 formed on a reverse surface.
アンテナブロック１００が搭載されたプリント基板２００を備え、プリント基板２００は、アンテナブロック１００を介して接続された給電導体２４０及び放射導体２５０を有し、放射導体２５０は、プリント基板２００の表面に形成された分岐パターン２５１と、裏面に形成された分岐パターン２５２を含んでいる。 - 特許庁 - An outside air temperature sensor and a solar radiation sensor are used to detect an outside air temperature and the quantity of solar radiation, so that a pattern corresponding to present external environment can be found and the position of dampers 112, 113 corresponding to the target blow temperature be found from the corresponding pattern for air blow from the air blow port 115 or 116 corresponding to external environment.
外気温センサ２１および日射センサ２２により外気温や日射量を検出し、現時点での外部環境がどのパターンに当てはまるかを求め、対応するパターンから目標吹出し温度に対応するダンパ１１２,１１３の位置を求め、外部環境に応じた空気吹出口１１５または１１６から送風を行うようにする。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method which is excellent in roughness performance such as line width roughness, local pattern dimension uniformity, and exposure latitude and capable of suppressing reduction in film thickness (so-called film reduction) at a pattern portion formed by development, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used in the method, and a resist film.
ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray- or radiation sensitive resin composition superior in line width roughness (LWR), depth of focus (DOP) and pattern profile, so as to more stably form a high-precision minute pattern for manufacturing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a method of forming a pattern using the same.
高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a negative radiation-sensitive resin composition superior in sensitivity and resolution, showing small optical proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern, even in the case of an isolated line pattern, capable of ensuring sufficient focus margin for an isolated line pattern, and useful as a chemically amplified resist.
感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、化学増幅型レジストとして有用なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, proper pattern profile and satisfactory line edge roughness, particularly in an electron beam, X-ray or EUV lithography in an ultrafine region, and to provide a pattern formation method that uses the composition.
超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、および良好なラインエッジラフネスを同時に満足するパターンを形成可能な感活性光線または感放射線性樹脂組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - Therefore, this manufacturing method of the microstructure 1 is an imprint method which hardens the pattern formation layer 2a by the ionization radiation R which is completely different from a thermal imprint method and an optical imprint method, and can transfer the irregular pattern of the mold 5 by curing the pattern formation layer 2a by the novel technique which has not been employed hitherto.
かくして、本発明の微細構造体１の製造方法では、熱インプリント方式や、光インプリント方式とは全く異なる電離放射線Rによりパターン形成層2aを硬化させるインプリント方式であり、従来にない新規な手法によりパターン形成層2aを硬化させ、モールド５の凹凸パターンを転写し得る。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which gives a pattern free of pattern defects such as a chip and undercut and excellent in adhesion to a substrate, and allows production of a color filter excellent in reliability in electrical characteristics, etc.
パターンに欠けやアンダーカット等のパターン不良が無く、基板との密着性に優れ、加えて電気特性等における信頼性に優れたカラーフィルタを作製することが可能な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and a pattern forming method that uses identical satisfying high sensitivity, high resolution, proper pattern shape, proper line edge roughness and dry etching resistance, at the same time.
高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネス、さらには耐ドライエッチング性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性低分子化合物含有組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has improved DOF (Depth Of Focus), storage stability, resolution and pattern features and suitable even for a liquid immersion process for a line width of not more than 45 nm, and to provide a pattern forming method using the composition.
ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that excels in the roughness characteristics, exposure latitude, depth of focus, and development defect performance and that allows to form a pattern of favorable configuration, and to provide a method of forming a pattern using the composition.
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, exposure latitude, focus depth and development defect performance and capable of forming a pattern having a satisfactory shape and to provide a pattern forming method using the same.
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in development defect performance, liquid immersion defect performance and limit resolution and enables to form a pattern having a good shape, and a pattern forming method using the same.
現像欠陥性能、液浸欠陥性能、及び限界解像力に優れ、且つ良好な形状を有したパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - This decorative material D is composed of an inner pictorial pattern layer 2, a matted recoatable ionizing radiation-curable resin layer 3A containing a filler F, a partially formed lustrous pictorial pattern layer 4A and a top coat layer 5 consisting of a curable resin, all of these layers being laminated in that order on a base 1.
化粧材Ｄは、基体１上に内部絵柄層２、フィラーＦを含有し艶消しのリコート性電離放射線硬化性樹脂層３Ａ、部分的に形成された艶有り絵柄層４Ａ、硬化性樹脂からなるトップコート層５を積層する。 - 特許庁 - The alignment mark includes a set of mutually parallel conductor tracks from which the diffracted radiation is collected, and the pattern is determined by a pattern in which the pitch between successive tracks is varied as a function of position along the surface of the product.
アライメントマークは、それから回折された放射が収集される相互に平行な導電体トラックのセットを備え、そのパターンは連続するトラックの間のピッチが、製品の表面に沿った位置の関数として変化するパターンによって決定される。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is improved in developability and enables to form a pattern having good conformability to an immersion liquid in liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the composition.
現像性が改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好なパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a functional film pattern forming method in which thermal damage to a substrate is suppressed by attaining reduction of the amount of radiation energy of an electromagnetic wave and equipment of a required light source is made small in size, and to provide a functional film pattern, and electronic equipment.
電磁波の照射エネルギー量の低減を図り、基板に与える熱のダメージを抑制することができ、必要な光源の設備の小型化を図った機能性膜パターン成膜方法、機能性膜パターン、および電子機器を提供する。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive composition having excellent sensitivity, PEB (post exposure bake) temperature dependence and roughness characteristics and allowing formation of a pattern with a favorable feature, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.
感度、ＰＥＢ温度依存性及びラフネス特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition for forming a colored layer which gives pixels and a black matrix that produce neither undissolved matter nor scum on a pattern edge in development, cause neither chipping of a pattern edge nor undercut even under low exposure energy.
現像時の未溶解物およびパターンエッジにスカムを生じることがなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがない画素およびブラックマトリックスを与える着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an active light or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having less water residue defects, bubble defects, and development residue defects and is superior in LWR, and a pattern forming method using this resin composition.
水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To effectively control the radiation or inflow into a signal wire pattern of noises such as electrostatic induction and electromagnetic induction absorbed in a ground pattern among conductor patterns formed in a print substrate and to simply strengthen a noise measure.
プリント基板に形成した導体パターンのうちのグランドパターンで吸収した静電誘導や電磁誘導等のノイズの信号線パターンへの放射又は流入を効果的に抑制できるようにすること、ノイズ対策を簡単に強化できるようにすること。 - 特許庁 - In the first case, the entire length in the lengthwise direction of the antenna 10 is adjusted, and in the latter case a prescribed value, the height of the antenna 20 from the board 5 is adjusted, thereby setting the radiation pattern of the radio wave from the antenna in the desired pattern.
前者の場合は、ポールアンテナ１０の長さ方向の全長を調整して、後者の場合は、λ／２ダイポールアンテナ２０の、回路基板５からの高さを、所定の値に設定して、アンテナからの電波の放射パターンを所望のパターンに設定する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in basic physical properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, excellent also in shelf stability as a composition and retaining satisfactory adhesiveness to a substrate.
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、組成物としての保存安定性にも優れ、また基板に対して十分な接着性を保持した感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - Next, the substrate table is positioned relative to a radiation beam on the basis of the reading of the level sensor, and the value of the level sensor is read by using the level sensor and the patterned radiation beam while a pattern is synchronously imaged on a target portion by scanning the target portion of the substrate.
さらに、基板テーブルをレベルセンサ読取値に基づいて放射ビームに対して位置決めし、基板のターゲット部分をスキャンすることによってパターンをターゲット部分に同期イメージングしている間、レベルセンサとパターン付き放射ビームを使用してレベルセンサ値を読取る。 - 特許庁 - The measurement system is provided with a target mounted to any one of the substrate support and the reference frame, a radiation source mounted to the other one and a sensor configured to detect a pattern of radiation propagating from the target, indicating the position or movement of the substrate support.
この測定システムは、基板支持体および基準フレームのうち一方に設けられたターゲットと、他方に設けられた放射源と、ターゲットから伝播した、基板支持体の位置または移動を示す放射のパターンを検出するように構成されたセンサと、を備える。 - 特許庁 - The ionizing radiation-cured resin which shows a viscosity of 30-200 cps at 25°C and a surface tension of 40 dyne/cm or less as measured based on JIS K7117, is selectively irradiated with ionizing radiation to form an irregular surface pattern.
ＪＩＳ Ｋ７１１７に基づいて測定された２５℃における粘度が３０〜２００ｃｐｓの範囲にあり、表面張力が４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である電離放射線硬化樹脂に選択的に電離放射線を照射して表面凹凸パターンを形成する。 - 特許庁 - To provide an antenna device that can be built-in in a small or thin mobile terminal and is capable of forming a radiation pattern for reducing radiation of a radiowave in a user direction when the mobile terminal is used, and to provide a mobile terminal built-in with the antenna device.
小型又は薄型の携帯端末に内蔵可能であり、携帯端末の使用時にユーザ方向への電波の放射を減少させる放射パターンを形成することが可能なアンテナ装置及びこのアンテナ装置を内蔵した携帯端末を提供する。 - 特許庁 - To provide a lithographic apparatus which applies a desired angular intensity distribution to a radiation beam by using an array of mirrors, this radiation beam overcoming or alleviating one or more shortcomings of a lithographic apparatus used for projecting a pattern onto a target part of a substrate.
所望の角度強度分布を放射ビームに与えるためにミラーのアレイが使用され、この放射ビームが続いて、基板のターゲット部分上へパターンを投影するために使用されるリソグラフィ装置の１つまたは複数の短所を克服しまたは軽減する。 - 特許庁 - A filter arrangement selectively reduces transmittance of radiation through the second region of the patterning device, and reduces intensity of one or a plurality of images of the second pattern caused by a part of radiation beam which is indirectly incident on the second region of the patterning device.
フィルタ機構は、パターニングデバイスの第２の領域を通して放射の透過率を選択的に減少させて、パターニングデバイスの第２の領域に間接的に入射する放射ビームの一部に起因する第２のパターンの１つまたは複数の像の強度を減少させる。 - 特許庁 - This method for manufacturing the antenna and antenna array having the desired beam width is applied to a polarization antenna for both single and double polarization and the radiation pattern of the radiation elements of the antenna is controlled and varied by arranging an adequately designed parasitic element nearby them.
望ましいビーム幅でアンテナとアンテナ・アレイを製造する方法が、単一と二重の両方の偏波アンテナに適用されて、アンテナの放射素子の放射パターンを、それらの近くに適切に設計したパラスティック素子を配置することにより制御し変更する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition that has high radiation sensitivity, has a developing margin which can form superior pattern shape, even if exceeding the optimum developing time in developing process.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation and useful as a chemically amplified resist excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity and resolution, and excellent also in pattern shape, uniformity in film thickness and storage stability.
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、パターン形状、膜厚均一性および保存安定性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The whole conductor pattern on the top surface 111 of the base body 110 including the first radiation conductor 121, second radiation conductor 122, and connection conductor 123 have right and left parts made symmetrical with respect to a center line passing the width-directional center of the base body 110 as a line of symmetry.
第１の放射導体１２１、第２の放射導体１２２及び接続導体１２３を含めた基体１１０の上面１１１の導体パターン全体は、基体１１０の幅方向中央を通る中心線を対称線として左右対称となっている。 - 特許庁 - To provide, generally in relation to the field of microwave antennas, and, more particularly, a number of three-dimensional designs for a radiation element of an ultra-wideband monopole antenna with a symmetrical omni-directional radiation pattern operated in the frequency range between 3.1 GHz and 10.6 GHz particularly with regard to a field of a microwave antenna generally.
一般的には、マイクロ波アンテナの分野に関し、特に、３．１ＧＨｚ〜１０．６ＧＨｚの周波数帯で動作する対称的な無指向性放射パターンを有する超広帯域モノポールアンテナの放射素子の多数の３次元設計に関する。 - 特許庁 - To provide a heat radiation structure for an electronic component that reduces a region on a printed substrate where a pattern or component can not be mounted and also enhances heat radiation effect of an electronic component by disusing conventional block-like radiation fins when the electronic component as a heating body is mounted on a printed board.
本発明は電子部品の放熱構造に係り、発熱体たる電子部品をプリント基板に実装するに当たり、従来のブロック状の放熱フィンをなくすことでプリント基板上のパターンや部品の実装不可領域を削減し、併せて電子部品の放熱効果を高めた電子部品の放熱構造を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The lithographic unit includes an illuminating system that controls a radiation beam, a patterning support that retains a patterning device for patternizing the radiation beam, a substrate support that retains a substrate, a projection system that projects the radiation beam with a pattern, an additional support, and a flexible line assembly that transmits at least any one of current, signal, and fluid.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームをパターン化するパターニングデバイスを保持するパターニングサポートと、基板を保持する基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板に投影する投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達する可撓性の線アセンブリとを含む。 - 特許庁 - The measurement phase includes conditioning a radiation beam with a first beam condition, forming the patterned radiation beam by imparting the radiation beam with the first beam condition with a first pattern in its cross-section, and projecting the patterned beam onto a sensor capable of providing a sensor output signal.
測定段階は、第１のビーム条件を含む放射ビームを調整するステップと、第１のビーム条件を含む放射ビームにその断面の第１のパターンを付与することにより、パターン形成された放射ビームを形成するステップと、センサ出力信号を供給することができるセンサ上にパターン形成されたビームを投影するステップとを含む。 - 特許庁 - The apparatus further includes a heating irradiation mechanism 7 for radiation heating of the optical imaging system during measurement operation so that the heating effect of radiation applied to the optical imaging system 1 to be measured becomes equal to the heating effect of radiation that passes through the effective pattern during the imaging operation of the optical imaging system within a tolerance that can be determined in advance.
装置は更に、測定される光学撮像システム1に加えられる放射の加熱効果が、予め決定できる許容範囲内で、光学撮像システムの撮像動作中に有効パターンを介して通過する放射の加熱効果と等しくなるように、測定動作中の光学撮像システムの放射加熱用の加熱照射機構7を含む。 - 特許庁 - A radiation pattern F is switched not by superframe (in the cycle of e.g., 1.2sec) using a control channel but in a cycle corresponding to frames (e.g., 5mS) included in a speech channel.
制御チャネルを用いたスーパーフレーム毎（例えば１．２秒周期）に放射パターンを変えるのではなく、通話チャネルに含まれるフレーム（例えば５ｍＳ）に応じた周期で放射パターンＦを切り換える。 - 特許庁 - To provide a highly practical radiation sensitive resin composition which can simply and efficiently form a finer pattern, and can be applied to a process of manufacturing a semiconductor.
より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であるとともに、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高い感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a lithography processing method for providing a desired pattern to the target section of the layer of radiation photosensitive materials by using a plurality of exposures and a device manufactured by the method.
複数の露光を使用して放射線感光材料の層の目標部分に望ましいパターンを提供するリソグラフィ処理方法およびそれにより製造したデバイスを提供する。 - 特許庁 - To simplify a calibration and shorten an imaging time in a radiographic imaging apparatus for detecting a periodic pattern image passing through a grating by a radiation image detector.
格子を通過した周期パターン像を放射線画像検出器によって検出する放射線画像撮影装置において、キャリブレーションを簡略化して撮影時間の短縮化を図る。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness and exposure latitude, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.
ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁 - The characteristic of this electrophotographic photoreceptor is to use a photosensitive layer comprising a dihydroxysilicon phthalocyanine compound having 9.3, 13.4, 20.0, 23.9 and 27.4° Bragg angles 2θ(±0.3°) in an X-ray diffraction pattern with Cu-Kα radiation on an electrocoductive support.
Ｃｕ−Ｋα線によるＸ線回折パターンにおいて、ブラッグ角２θ（±０．３°）９．３，１３．４，２０．０，２３．９，２７．４°にピークを有するジヒドロキシシリコンフタロシアニン化合物、およびそれを含有する電子写真感光体。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in stability with time, a development defect performance and a roughness characteristic, and also to provide a pattern forming method using the composition.
経時安定性、現像欠陥性能、及びラフネス特性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition excellent in etching resistivity and the stability during a post-exposure delay (PED) period, and to provide a method of forming a pattern using the same.
エッチング耐性及びＰＥＤに対する安定性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in coating defect performance, coating film thickness uniformity, and PEBS performance, and provide a pattern forming method using the composition.
塗布欠陥、塗布膜厚均一性、ＰＥＢＳ性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - A light quantity data memory 82 of an exposure pattern analyzer 80 previously stores the quantity of the light beam radiated from a light beam radiation device 20 for each exposure region of a predetermined area.
露光パターン解析装置８０の光量データメモリ８２は、予め、光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの光量を、所定の面積の露光領域毎に記憶する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition for soft X-rays having high sensitivity, high resolution, a square pattern profile, excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.
高感度、高解像性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた特性を有する軟Ｘ線用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition excellent particularly in pattern shape as a chemical amplification type resist and excellent also in balance of characteristics including dry etching resistance, sensitivity and resolution.
化学増幅型レジストとして、特にパターン形状に優れ、かつドライエッチング耐性、感度、解像度等を含めた特性バランスにも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
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