「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 8 9 10 11 12 13 14 15 16 .... 26 27 次へ＞- To provide a radiation-sensitive resin composition which enables formation of a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, line width roughness (LWR) and etch resistance, and a method of forming resist patterns using the radiation-sensitive resin composition.
感度、解像性、ＬＷＲ及び耐エッチング性に優れるレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, satisfying basic properties required by a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and ensuring good adhesiveness to a substrate and few development defects.
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストに要求される基本性能を満たすとともに、基板に対する接着性が良好で現像欠陥が少ない。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which provides a pattern showing good exposure latitude (EL) and pattern profile in a pattern forming process with excimer laser light not only by normal exposure (dry exposure) but by immersion exposure, and to provide a method for forming a pattern using the composition.
エキシマレーザー光によるパターン形成において、通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光ラティチュード（EL：Exposure Latitude）、パターンプロファイルが良好なパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition enabling a pattern to be formed, the pattern having improved line width roughness, remedied development defects and pattern collapse and exhibiting good conformability to an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.
ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The process further includes: applying a second layer 114 in contact with the alkaline surface of the first resist pattern to expose the second layer to the active radiation (Fig. 1D), developing it (Fig. 1F), and removing a region of the second layer near to the first resist pattern to define an opening 118 between the first resist pattern and the second resist pattern.
第２の層１１４を第１のレジストパターンのアルカリ性表面と接触するように適用し第２の層を活性化放射線に露光（図１Ｄ）、現像（図１Ｆ）して、第１のレジストパターンの近傍の第２の層の領域が除去されて、前記第１のレジストパターンと第２のレジストパターンとの間に開口１１８を画定する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern simultaneously satisfying high sensitivity, high resolution and good dry etching resistance even in the formation of an isolated pattern, to provide a resist film using the composition, and to provide a pattern forming method.
孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - This process includes: exposing a first layer 106 to an active radiation through a patterned photomask to develop it and forming a first resist pattern 106' (Fig. 1B), heat-treating the formed resist pattern (Fig. 1C), and treating the surface of the first resist pattern with a substance effective for alkalization (Fig. 1D).
第１の層１０６を、パターン化されたフォトマスクを通した活性化放射線に露光・現像して第１のレジストパターン１０６’を形成した（図１Ｂ）後、熱処理し（図１Ｃ）、第１のレジストパターンの表面をアルカリ性にするのに有効な物質で処理する（図１Ｄ）。 - 特許庁 - In a substrate comprising a shield plate and a shield plate fitting pattern, the fitting pattern is given a slit to shield unwanted heat conductivity and the substrate is connected to a adjacent shield plate fitting pattern in order to control unwanted radiation.
シールド板とそのシールド板を取り付けるように構成されたパターンを持つ基板において、取り付けパターンにスリットを入れたことで不要な熱伝導性を遮断し、又、近接するシールド板取り付けパターンを接続したことにより不要輻射を抑えるようにする。 - 特許庁 - The exposure phase includes fast switching for the conditioning of the radiation beam to a second beam condition, with the second beam condition which is different from the first beam condition, forming the patterned radiation beam by imparting the radiation beam with the second beam condition with a second pattern in its cross-section, with the second pattern being provided by a patterning device, and projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.
露光段階は、放射ビームを、第１のビーム条件とは異なる第２のビーム条件に調整する高速切替えステップと、第２のビーム条件を含む放射ビームに、その断面のパターニングデバイスが提供した第２のパターンを付与することによりパターン形成された放射ビームを形成するステップと、基板のターゲット部分上にパターン形成されたビームを投影するステップとを含む。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition good at lithography performances such as MEEF performance and LWR performance and good at resistance to pattern falling.
ＭＥＥＦ性能及びＬＷＲ性能等のリソグラフィー性能に優れ、かつパターン倒れ耐性にも優れる感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a negative radiation-sensitive resin composition which can form a rectangular pattern with high resolution and has superior sensitivity, developing property, size faithfulness, etc.
高解像度で矩形のパターンを形成でき、しかも感度、現像性、寸法忠実度等に優れたネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - An electronic flash, an imaging device and a method for producing flashes of light use a diffractive optical element (50) to produce a flash of light having a rectangular radiation pattern.
回折光学要素(50)を使用して矩形の放射パターンを有する光を生成する、電子フラッシュ、イメージング装置、及びフラッシュ光の生成方法。 - 特許庁 - The pattern with a uniform line width can be exposed by correcting an electronic radiation dosage of the basis of the measured result of the line width of the mark 6.
マーク６の線幅の測定結果に基づいて、電子線量を補正することにより均一な線幅のパターンを露光することが可能となる。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition which has excellent resolution performance, a low LWR (Line Width Roughness), excellent pattern collapse resistance and excellent defectiveness.
解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れる感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - The circuit pattern 5 is placed at a thin part of the substrate 2 by the recessed part 7 and the radiation electrode 3 is placed at a thick part of the substrate 2 respectively.
回路パターン５は基体２の凹部７による肉薄部分に、また、放射電極３は基体２の肉厚部分にそれぞれ配置された形態となっている。 - 特許庁 - To find a system responsive to radiation to rapidly cure with high sensitivity and to find a method for forming a pattern utilizing the same.
放射線に感応して高感度で迅速に硬化する系を見出すこと、およびこれを利用したパターン形成方法を見出すことを課題とする。 - 特許庁 - Consequently, the heat generated from a heat radiating LSI chip 3 is transmitted to the rear surface land pattern 6 via a heat radiation through-hole 7 of the first substrate 1.
これにより発熱するＬＳＩチップ３から発生した熱は第１の基板１の放熱用スルーホール７を介して裏面ランドパターン６に伝達される。 - 特許庁 - In the XRD pattern from the composite material using CuKα-radiation, a peak height ratio of the strongest TiB_2 peak and the strongest cBN peak becomes smaller than 0.02.
本発明により、CuKα-輻射を用いた複合材料からのXRDパターンにおいて、最も強いTiB_2ピークと最も強いcBNピークとのピーク高さ比が、0.02より小さくなる。 - 特許庁 - A fine error which can not be adjusted only by the trimming of the radiation element 3 can be eliminated by trimming the ground pattern and variations in the characteristics can be suppressed.
放射素子３のトリミングのみでは調整しきれない微小誤差をグラウンドパターンをトリミングすることによって解消でき、特性のバラツキを抑制できる。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition as a material for a resist film with which a resist pattern having a small LWR (line width roughness) and a wide DOF (depth of focus) can be formed.
ＬＷＲが小さく、かつ、ＤＯＦの広いレジストパターンを形成可能なレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To realize an x-ray generation system that produces a converging or diverging radiation pattern particularly suited for substantially cylindrical or spherical treatment devices.
実質的に円柱形または球形処理装置に特に適している収束または発散放射パターンを生成するＸ線照射装置の実現。 - 特許庁 - The radiation conductor 13 is a belt-like conductive pattern with a folding structure, and a whole length thereof is practically the same as λ/4 (λ is a wavelength of a fundamental wave).
放射導体１３は折り返し構造の帯状導体パターンであり、その全長はλ／４（λは基本波の波長）と実質的に等しい。 - 特許庁 - To improve utilization efficiency of light source luminous flux of a direct radiation type lamp for a vehicle provided with a light distribution pattern having cutoff lines on an upper end part.
上端部にカットオフラインを有する配光パターンを形成する直射型の車両用照明灯具において、光源光束の利用効率を高める。 - 特許庁 - In other embodiments, the low-k dielectric film is exposed to a first ultraviolet radiation pattern effective to increase a crosslinking density of the film matrix.
他の実施形態では、低ｋの誘電体フィルムが、フィルムのマトリックスの架橋結合密度を高めるのに効果的な第一の照射パターンへ露光される。 - 特許庁 - To provide a base station antenna device capable of achieving a wide half width of not less than 100° in a horizontal plane by improving F/B ratio of radiation pattern characteristics.
放射パターン特性のＦ／Ｂ比を改善し、水平面内で１００°以上の広域な半値幅を実現可能な基地局アンテナ装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive type radiation sensitive composition, by which the high resolution and a pattern with the satisfied dimensional accuracy are obtained, and a manufacturing method of a stamper using the same.
高解像度、かつ、寸法精度のよいパタンが得られるポジ型感放射線組成物及びそれを用いたスタンパの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition capable of attaining a good pattern shape in lithography process for a high reflective substrate or a stepped substrate.
高反射基板や段差基板に対するリソグラフィ工程において、良好なパターン形状を得ることができる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a display device for preventing noise radiation where disturbance noise comes into a connected flexible board from mounting components and a wiring pattern.
接続されたフレキシブル基板に、実装部品や配線パターンから外乱ノイズが飛び込んだりするノイズ放射を防止する表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrosurgical device including a directinal radiation pattern which is usable in an application of surface ablation for directing energy to a target volume of tissue.
指向性放射パターンを備えた組織の標的体積にエネルギーを向ける表面焼灼のアプリケーションでの使用に適した電気外科手術装置を得ること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition suitable for a liquid immersion exposure process in a resist pattern formation and for image development using an organic solvent.
レジストパターン形成における液浸露光プロセスに好適で、かつ有機溶剤による現像にも適している感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To correct tuning, a radiation direction or a pattern and a bandwidth of a millimeter-wave antenna, attached to a signal pad on an integrated circuit mounted on a board.
基板に実装された集積回路上の信号パッドに取り付けられたミリ波アンテナのチューニング、放射方向またはパターン、および帯域幅を修正する。 - 特許庁 - To provide a positive radiation sensitive resin composition which is superior in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution and can stably form a high precision fine pattern.
ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The control unit determines the distribution of brightness for distances [(b)] for a plurality of radiation directions from around the center of the acquired pattern image [(a) (d)].
制御部では、取得したパターンの画像［（ａ）（ｄ）］の中心付近から複数の放射方向について、距離に対する輝度の分布を求める［（ｂ）］。 - 特許庁 - The first projected pattern P comprises a bright part P1 formed by the radiation of laser beam thereon and a dark part P2 not radiated by the laser beam thereon.
第１の投影パタ−ンＰは、レ−ザ光が照射されることによって形成される明部Ｐ１と、レ−ザ光が照射されない暗部Ｐ２とから成る。 - 特許庁 - The radiation-sensitive resin composition is used for forming a photoresist film in a method of forming a resist pattern including a predetermined immersion exposure process.
所定の液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法において、フォトレジスト膜を形成するために用いられる感放射線性樹脂組成物である。 - 特許庁 - A side face 13 of the light-guide axis member 10 includes a first radiation part 16 equipped with a first rough-surface processing part having first unevennesses of an irregular pattern.
導光軸部材１０の側面１３は、不規則パターンの第１凹凸を有する第１粗面加工部が設けられた第１放射部１６を含む。 - 特許庁 - Moreover, the frame 124 grips the resonator 116 at an are with a low current density thereby preventing further disturbance from being caused to a radiation pattern.
さらに、フレーム１２４は、低電流密度のエリアにおいて共振器１１６を把持し、それによって放射パターンにさらなる妨害が生じないようにする。 - 特許庁 - To provide a projection lens for imaging a pattern arranged in an object plane onto an image plane by employing electromagnetic radiation from an extreme-ultraviolet (EUV) region.
極遠紫外線（ＥＵＶ）領域の電磁放射を用いて物体平面上に配置されたパターンを像平面上に結像する投影レンズを提供する。 - 特許庁 - A layer (1) comprising the radiation sensitive resin composition is formed on a substrate (2), exposed and developed to form a pattern and a transparent film (5) is obtained.
この感放射線性樹脂組成物からなる層（１）を基板（２）の上に形成し、該層（１）を露光したのち現像してパターンを形成して、透明膜（５）を得る。 - 特許庁 - A number of ribs 1b for reinforcing mechanical strength of a casing 1 and providing a radiation effect by ventilation are formed in a grid pattern.
筐体１の機械的な強度を補強すると共に、通気による放熱効果を持たせるための多数のリブ１ｂが格子状に形成されている。 - 特許庁 - To provide a pigment-dispersed radiation-sensitive resin composition which exhibits high durability, particularly high moisture resistance after photocuring, and a colored pattern forming method.
光硬化後の耐久性、特に耐湿性が高い顔料分散型感放射線樹脂組成物および着色パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - The metal screws 8, the grounding pattern 15 and the metal spacer form a short circuit section for short-circuiting the end of each of the radiation elements to the grounding conductor 2.
複数の金属ネジ８、接地パターン１５および金属スペーサは各放射素子の端部を接地導体２に短絡するための短絡部を構成する。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for forming a pattern which use a plastic mold and a visible radiation curable resin composition.
本発明の目的は、プラスチックモールドおよび可視光硬化性樹脂組成物を用いる、パターン形成方法およびパターン形成装置を提供することにある。 - 特許庁 - The polishing surface supports a second type of second substrate, and the projection system is so constituted as to project the radiation beam, provided with the pattern, to the second substrate.
研磨面は第２のタイプの第２の基板を支持し、投影系は、パターン付与された放射ビームを第２の基板に投影するように構成される。 - 特許庁 - To restrain thermal deformation impact on the reflecting surface of a reflector assembly contained in a pattern providing means, which is caused by absorbed incidence radiation.
パターン付与手段に含まれる反射器組立体が入射放射線を吸収して生じる熱による反射面への熱変形影響を抑制する。 - 特許庁 - To provide a radiation-curable composition which gives cured articles having excellent pattern accuracy, even when exposure is relatively a little.
露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、及び該組成物を硬化させてなる硬化膜を提供する。 - 特許庁 - In addition, no laser radiation is performed prior to dicing to the scribe line of a predetermined or less width on which a metal-containing accessory pattern is provided.
また、金属を含むアクセサリパターンを配置したスクライブラインであって、所定の幅以下のスクライブラインには、ダイシングに先立つレーザ照射を行わないようにした。 - 特許庁 - To provide an antenna system from which a radiation pattern of a vertically polarized wave with non-directionality on a horizontal plane can be obtained without the need for arranging its antenna elements in the middle of an earthing board.
アンテナを地板中央に配置することなく垂直偏波の水平面無指向性の放射パターンが得られるアンテナ装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for soft X-rays forming a square pattern profile with high sensitivity and high resolution and having excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.
高感度、高解性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた軟Ｘ線用感放射線性組成物の提供。 - 特許庁 - Therefore, a patterned radiation beam is irradiated, thereby a patterned film 17 is established on the surface of a substrate W according to the pattern.
したがってパターン化された放射ビームを照射することにより、そのパターンに従ってパターン化された膜１７が基板Ｗの表面に構築される。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
