「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27- The antenna assembly comprises a controller for controlling the excitation distribution of each sub-array composed of phased array antennas, and a controller for controlling the excitation distribution of each element antenna constituting the phased array antenna, so that a null point of the radiation pattern of the sub-array composed of phased array antennas is aligned with the length of a grating lobe to thereby reduce the grating lobe of all the array antennas.
フェーズドアレーアンテナからなるサブアレー毎の励振分布を制御する装置に加え、上記フェーズドアレーアンテナを構成する素子アンテナ毎の励振分布を制御する装置を備えることで、フェーズドアレーアンテナからなるサブアレーの放射パターンの零点方向を、グレーティングローブの方向に一致させ、全アレーアンテナのグレーティングローブを低減する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.
安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに該組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of suppressing occurrence of standing waves, having high sensitivity, having a large depth of focus (DOF) and having excellent in-plane uniformity (CDU) of a linewidth when a highly reflective substrate is directly used without using an antireflection film, and a resist film using the composition, and a pattern formation method.
反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition etc. for a color filter, with which no undissolved matter (residue) of the composition remains on an unexposed region, and no scum is produced on a pixel, even when a fine pixel array is to be formed, and with which a pixel array with excellent pattern shape and with excellent adhesion strength to a substrate is formed with a high yield.
微細な画素アレイを形成する場合であっても、未露光部に組成物の未溶解物（残渣）が残存したり、画素上にスカムが発生することがなく、しかもパターン形状、基板との密着強度等にも優れた画素アレイを高い歩留りで形成することができるカラーフィルタ用感放射線性組成物等を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition for forming a pattern with high sensitivity and wide exposure latitude in an ultrafine region, while suppressing changes in the resist performance due to an acid generated during resist storage, with respect to an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, particularly, a resist composition for electron beam, X-ray or EUV lithography.
感活性光線または感放射線性樹脂組成物、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィー用のレジスト組成物において、レジスト保存中に発生する酸によるレジスト性能の変化を抑制しつつ、超微細領域で高感度かつ露光ラチチュードの広いパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide a method for forming an interlayer insulation film and microlenses from the composition.
安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物から層間絶縁膜およびマイクロレンズを形成する方法を提供すること。 - 特許庁 - In the decorative material for the floor material constituted by laminating a synthetic resin sheet provided with a pattern to the woody substrate having a surface, to which at least groove processing is applied, along the surface shape thereof, an ionizing radiation curable resin is applied to the surface of the synthetic resin sheet to provide a surface protective layer.
少なくとも溝加工を施した表面を有する木質系基材の表面形状に沿って、絵柄模様を設けた合成樹脂製シートを貼合した床材用化粧材の前記合成樹脂製シートの表面に電離放射線硬化型樹脂を塗布することにより表面保護層を設けたことを特徴とする床材用化粧材。 - 特許庁 - To solve the problem of a performance enhancing technique in the microfabrication of a semiconductor device using active light or radiation, particularly electron beams or X-rays and to provide a resist composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a rectangular pattern shape and good edge roughness when electron beams or X-rays are used.
活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はＸ線の使用に対して感度と、解像性、矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性とを同時に満足するレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - With this configuration, the harmonic noise of a digital signal radiated from the wiring pattern of the flexible printed circuit board 13 that easily functions as a radiation antenna is absorbed by the magnetic sheet for attenuation, thus reducing the input of the harmonic noise of the digital signal to an antenna 9 and an RF circuit, and hence appropriately maintaining the characteristics of reception sensitivity.
この構成によれば、放射用アンテナとして機能し易いフレキシブルプリント基板１３の配線パターンから放射されるディジタル信号の高調波ノイズを磁性シートで吸収して減衰させることができるため、アンテナ９やＲＦ回路へのディジタル信号の高調波ノイズの入力を低減できる結果、受信感度の特性を良好に維持することができる。 - 特許庁 - The resist material containing the nitrogen-containing organic compound provides high resolution and satisfactory mask coverage dependency, is useful in microfabrication using an electron beam or far-ultraviolet radiation, and is suitable for use as a fine pattern forming material for VLSI production.
（Ｒ^1は両端で結合する窒素原子と共に含窒素へテロ脂肪族環又は含窒素ヘテロ芳香族環を形成する炭素数２〜２０の２価の置換基を表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はハロゲン原子を含んでもよい。Ｒ^2は炭素数２〜１０のカルボニル基を含んでもよいアルキレン基。Ｒ^3は炭素数２２〜５０の水酸基、カルボニル基、エステル基、エーテル基又はシアノ基を含んでもよいアルキル基又はアシル基。） - 特許庁 - The dual-band chip antenna module mounted on a mainboard of a terminal for operating in different frequency bands comprises: first and second chip antenna modules which are connected with each other in series; a feed line for electrically connecting an RF connector and the first chip antenna module; and a radiation pattern formed extended from the second chip antenna module.
端末機のメインボードに実装される互いに異なる周波数帯域を有するデュアルバンドのアンテナモジュールに関し、互いに直列に連結される第１チップアンテナモジュールおよび第２チップアンテナモジュールと、前記メインボードに形成され、ＲＦコネクタと前記第１チップアンテナモジュールとを電気的に連結する給電線と、前記第２チップアンテナモジュールから延長して形成される放射パターンとで構成される。 - 特許庁 - The method includes steps of forming an in-situ mask for the photosensitive element; exposing the element to actinic radiation through the in-situ mask in an environment having an inert gas and a concentration of oxygen between 190,000 and 100 ppm; and treating the exposed element to form the relief printing form having a pattern of printing areas.
この方法は、感光性要素用のその場マスクを形成するステップと、この要素をその場マスクを介して不活性ガスと１９０，０００ｐｐｍと１００ｐｐｍとの間の酸素濃度を有する環境内で化学放射線に露出させるステップと、印刷領域のパターンを有する凸版印刷組版を形成するように、露出された要素を処理するステップとを含む。 - 特許庁 - In a projector 10, a light source 30 generating a projection light for projecting a striped pattern to the object is provided and a light beam deflection part 4, splitting the light from the light source 30 into a plurality of slit-shape light beams L1 to L4 by deflecting the light direction from the light source 30 corresponding to the radiation angle from the light source 30, is provided.
投影装置１０には、対象物に縞状パターンを投影するための投影光を発生させる光源３０が設けられるとともに、その光源３０からの放射角度に対応して光源３０からの光の進行方向を偏向することにより、光源３０からの光を複数のスリット状の光束Ｌ１〜Ｌ４に分割する光線偏向部４が設けられる。 - 特許庁 - The positive type resist composition contains (A) resin containing a specified cyclic structure in the principal chain, having ≤5% content of a monomer corresponding to repeating structural units constituting the resin based on the total pattern area by GPC and having velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.
（Ａ）特定の環構造を主鎖に有し、樹脂を構成する繰り返し構造単位に対応する単量体の含有量がＧＰＣの全パターン面積の５％以下である酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型レジスト組成物が提供される。 - 特許庁 - A frame cover body which is a hollow body with no bottom having the slanting opening 12 and having the hologram reflection surface formed on the circumferential wall inner surface facing the opening 12 is mounted on a pedestal 16 with legs 16f holding the illuminating lamp 20 or 22 through an inner hole, and the hologram pattern light reflected by the radiation of the illuminating lamp is viewed from the opening 12.
又は内孔を介して照明灯２０又は２２が保持される脚１６ｆ付きの台座１６に、斜めの開口部１２を有する底無しの中空体で少なくもその開口部１２と対向した周壁内面にホログラム反射面が構成されたフレームカバー本体が装着され、照明灯の照射により反射したホログラム模様光が開口部１２より観賞されるようにする。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which causes neither reduction of film retention nor chipping or undercut of a pattern even under low exposure energy, yields pixels and a black matrix excellent in solvent resistance and adhesion to a substrate, and has excellent storage stability as a liquid composition even if a pigment is contained in high concentration.
低露光量でも、残膜率が低下したり、パターンの欠けやアンダーカットを生じることがなく、しかも耐溶剤性、基板との密着性等にも優れた画素およびブラックマトリックスを与え、また顔料を高濃度に含有する条件下でも、液状組成物としての保存安定性に優れる新規な着色層形成用感放射線性組成物等を提供すること。 - 特許庁 - This positive type photosensitive composition containing a polymer compound having a structure expressed by a specific general formula at its terminal, a photoacid-forming agent for forming an acid by the irradiation of an active beam of light or a radiation, the polymer compound used for the positive type photosensitive composition, the method for producing the polymer composition and the method for forming the pattern by using the positive type photosensitive composition are provided.
末端に特定の一般式で表される構造を有する高分子化合物及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a process by which thick platings such as bumps and wirings are produced with high precision while a resist shows high swelling resistance to a plating solution and the plating solution is prevented from leaking in between the pattern and substrate, a radiation-sensitive negative resin composition which shows sensitivity suitable for the production process and possesses excellent resolution and heat resistance, and a transfer film including the composition.
レジストのメッキ液に対する膨潤が少なく、パターンと基板との界面へのメッキ液のしみ出しが抑制され、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度を示し、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition capable of faithfully reproducing the design size of a mask pattern with high sensitivity, excellent in adhesion to a substrate, capable of obtaining a satisfactory spacer shape and film thickness under an exposure energy of ≤1,500 J/m^2, excellent also in strength and heat resistance, and excellent in controllability of spacer shape and film thickness in a low exposure energy region.
高感度でマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつ基板との密着性に優れ、１，５００Ｊ/ｍ^2以下の露光量で十分なスペーサー形状および膜厚を得ることを可能とし、また強度、耐熱性等にも優れ、低露光量領域におけるスペーサーの形状、膜厚の制御性に優れている感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - To provide an electron device package that covers an electron device with a heat radiation layer in which a cavity is formed before pattern buildup, prevents the gap between adhesives from being generated by injecting the adhesive via one side of the cavity while providing negative pressure via the other side of the cavity, and can stabilize handling and can be miniaturized, and to provide a method of manufacturing the electron device package.
パターンビルドアップの前に、キャビティが形成された放熱層で電子素子をカバーし、キャビティの一側を介して陰圧を提供しながら、キャビティの他側を介して接着剤を注入することにより、接着剤間の空隙の発生を防止し、ハンドリングの安定化及び小型化を具現することができる、電子素子パッケージ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an output device using a digital amplifier in which connection system can be switched to SEPP connection or BTL connection, and to provide a common mode choke coil in which the number of components, the mounting area, the manufacturing man-hour and the production management man-hour can be reduced and unwanted radiation due to a nonuse open pattern can be prevented.
デジタルアンプを使用した出力装置において、接続方式をＳＥＰＰ接続またはＢＴＬ接続に切り替え可能で、部品点数の削減、実装面積の削減、製造工数の削減及び生産管理工数の削減が可能で、かつ不使用オープンパターンによる不要輻射を防止することができるコモンモードチョークコイル及び出力装置を提供すること。 - 特許庁 - The positive resist composition contains (A); a resin that increases its solubility in an alkaline developer by the action of an acid having a repeating unit including a specific norbornane lactone structure and a repeating unit including a specific alicyclic hydrocarbon structure; and (B) a compound that generates an acid by irradiation with an actinic ray or radiation, and a pattern forming method using it is provided.
特定構造のノルボルナンラクトン構造をもつ繰り返し単位と特定の脂環炭化水素構造をもつ繰り返し単位とを有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - A radiation 2 not passing through an object 3 is detected via a moving grid 4 by changing emitting times in a plurality of ways, a mask image signal denoting a pattern of uneven density by the grid 4 for each emission time is obtained, and this mask image signal is stored in a storage means in cross-reference with the emission time, when the mask image signal is obtained.
被写体３を透過させない放射線２を、照射時間を複数通りに変えてムービンググリッド４を介して検出し、この検出した放射線量に基づいて、照射時間の各々毎のグリッド４による濃度ムラのパターンを示すマスク画像信号を得、このマスク画像信号を、それを得た際の前記照射時間と対応を取って記憶手段に記憶する。 - 特許庁 - At least a part of the implementation process comprises a step of determining a configuration of a plurality of individually controllable elements that would be necessary to create in a radiation beam a pattern which is sufficient to implement the desired shape or size of the constituent part of the device when creating the constituent part of the device.
望ましい形状又はサイズは、デバイスの構成部分が作成される材料の層の測定された特性に関連し、実施工程の少なくとも一部は、デバイスの構成部分を作成する時にデバイスの構成部分の望ましい形状又はサイズを実施するのに十分なものであるパターンを放射ビーム内に形成するのに必要な複数の個別に制御可能な素子の構成を決定するステップを含む。 - 特許庁 - A lithography device comprising a substrate table that holds a substrate, a projection system so configured as to project a radiation beam whose pattern is formed on the substrate, a liquid feed system so configured as to feed liquid into a space among the projection system, the substrate and the substrate table, and a ring so disposed as to cover a gap between the substrate and the substrate table and to come into contact with the substrate and the substrate table.
基板を保持する基板テーブルと、基板上にパターン形成された放射ビームを投影するように構成された投影システムと、投影システムと基板と基板テーブルとの間の空間に液体を提供するように構成された液体供給システムと、基板と基板テーブルとの間のギャップを覆うように設けられ、基板および基板テーブルと接触するリングとを含むリソグラフィ装置。 - 特許庁 - The positive type resist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing an alkali-soluble group protected with at least one specified alicyclic hydrocarbon-containing partial structure, having ≤5% monomer content based on the entire pattern area by gel permeation chromatography(GPC) and having the rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.
特定の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも１つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、且つモノマー成分の含有量がゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）の全パターン面積の５％以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - The method comprises operations of estimating the deviation in the pointing of a radiation pattern of the antenna to obtain a phase shift matrix, calculating the inverse discrete Fourier transform of signal samples fed by the radiating elements, multiplying the phase shift matrix by the inverse Fourier transform of the sampled signals, and computing the discrete direct Fourier transform of the product of the phase shift matrix and the inverse Fourier transform of the sampled signals.
本方法は、以下の動作を含む：アンテナの放射パターンの指向ずれを推定して位相シフト行列を得る動作、放射要素によって供給される信号サンプルの離散逆フーリエ変換を計算する動作、位相シフト行列にサンプリングした信号の前記逆フーリエ変換を乗算する動作、および位相シフト行列とサンプリングした信号の逆フーリエ変換の積の離散直接フーリエ変換を計算する動作。 - 特許庁 - The substrate for light source mounting an element for light source comprises a base substrate having high thermal conductivity, an insulation layer having high thermal conductivity formed on the side of the base substrate for mounting the element for light source, a wiring pattern formed on the mounting surface side through the insulation layer, and a heat dissipation layer having high heat radiation properties formed on the side opposite to the mounting surface side.
光源用素子が実装される光源用基板であって、高い熱伝導性を有するベース基板と、ベース基板の光源用素子が実装される実装面側に形成された高い熱伝導性を有する絶縁層と、絶縁層を介して実装面側に形成された配線パターンと、実装面側と反対側の面に形成された高い熱放射性を有する放熱層とを有する構成とする。 - 特許庁 - To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.
遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The UWB antenna includes a substrate; a power feeding part, provided on an upper surface of the substrate, for receiving a power supply of an external electromagnetic energy; a dipole radiator excited by the electromagnetic energy fed through the power feeding part and radiating electromagnetic waves; and a loop radiator respectively enhancing and canceling the electromagnetic waves radiated by the dipole radiator so as to have a unidirectional radiation pattern.
超広帯域アンテナは、基板と、基板の上部表面上に製造され、外部電磁気エネルギーの供給を受ける給電部と、給電部を介して給電された電磁気エネルギーにより励起され、電磁気波を放射するダイポール放射体（ｄｉｐｏｌｅ ｒａｄｉａｔｏｒ）と、ダイポール放射体により放射される電磁気波を干渉し、一方向の放射パターンを有するようにするループ放射体（ｌｏｏｐ ｒａｄｉａｔｏｒ）とを含む。 - 特許庁 - The laminated structure antenna is constituted of a planar antenna including a plurality of antenna parts integrally formed on the same substrate, a coupling layer and an MMIC layer, each antenna part has dielectric coated with a conductor and a pattern uncoated by the conductor in a part of a conductor-coated surface of the dielectric, the patterns of the plurality of antenna parts have radiation polarization surfaces in mutually different directions.
同一基板上に一体に形成された複数のアンテナ部を含む平面アンテナを中心に構成するものであって、各アンテナ部は、誘電体を導体で被覆し、前記誘電体の導体被覆面の一部に前記導体で覆われないパターンを有し、前記複数のアンテナ部の前記パターンは、それぞれ異なる方向の輻射偏波面を有することを特徴とする平面アンテナと結合層とＭＭＩＣ層から構成する積層構造アンテナを提供する。 - 特許庁
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