「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 次へ＞- Locating the second and third antenna elements 12, 13 of a short length at positions in linear symmetry in a way of holding the first antenna element 11 of a relatively long length precludes the possibility of the first antenna element giving adverse effect on the high band radiation pattern.
短寸な第２および第３のアンテナ素子１２，１３を、相対的に長い第１のアンテナ素子１１を挟む線対称な位置に配設することにより、第１のアンテナ素子がハイバンドの放射パターンに悪影響を及ぼす恐れがなくなる。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which suppresses the changes in sensitivity with time during storage and which can form a resist pattern having a favorable cross-sectional profile and excellent adhesion property to a substrate and being easily dissolved and stripped with a stripping liquid.
保存中の経時による感度変化が抑制され、断面形状が良好である上、基板との密着性に優れ、かつ剥離液で容易に溶解除去し得るレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a shared array antenna for two frequency bands, with which a grating lobe does not occur in both frequency bands, mutual coupling between element antennas or influence cased by blocking upon a radiation pattern is settled within an allowable range and the element antennas are not physically interfered.
両周波数帯域においてグレーティングローブが発生せず、また、素子アンテナ間の相互結合やブロッキングによる放射パターンへの影響が許容範囲内となり、また、素子アンテナが物理的に干渉しない２周波数帯共用アレーアンテナを得る。 - 特許庁 - The pattern forming method includes a second resin film forming step of forming a second resin film as the acid transfer resin film on a first resin film containing a resin having an acid dissociable group and not containing a radiation-sensitive acid generator.
酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 - 特許庁 - Since the resonant signal consists of a single resonant mode with an axially symmetric radiation pattern, output characteristics of the emitted resonant signal can be used, for example, parallel, dispersive, or with the direction changed by using the phase shift.
共振信号が、軸対称の放射パターンを有する単一共振モードから成るので、位相シフトを用いることにより、放射される共振信号の出力特性を、例えば平行にし、分散し、方向を変更し、形づくることができる。 - 特許庁 - This micro-opto-electromechanical apparatus comprises: a silicon wafer comprising a plurality of layers; the reflector formed in one of the plurality of layers; and a pattern on the reflector to focus or collimate an incident beam of radiation into a reflected beam.
本出願は、複数の層を備えるシリコン・ウェハと、複数の層の１つの中に形成される反射器と、放射線の入射ビームを反射ビームに合焦またはコリメートするための反射器上のパターンとを備えるマイクロオプトエレクトロメカニカル装置を開示する。 - 特許庁 - The QC phantom is provided for performing the inspection of a radiation image reader, and at least the surface of a metal member constituting a pattern for image quality evaluation used in the QC phantom is interrupted from air.
放射線画像読取装置の検査を行うためのＱＣファントムであって、少なくとも、前記ＱＣファントム中に用いられている画質評価用パターンを構成する金属部材表面が空気から遮断されていることを特徴とするＱＣファントム。 - 特許庁 - PROCESSED PIGMENT, PIGMENT DISPERSION COMPOSITION USING THE SAME, COLORED ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER FOR SOLID STATE IMAGING ELEMENT, COLOR FILTER FOR SOLID STATE IMAGING ELEMENT AND SOLID STATE IMAGING ELEMENT
加工顔料、並びに、これを用いた顔料分散組成物、着色感活性光線性又は感放射線性組成物、カラーフィルタ、パターン形成方法、固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子用カラーフィルタ、固体撮像素子 - 特許庁 - To provide a pattern forming method excellent in resolution such as a minimum dimension that does not allow a bridge defect to generate, roughness performance such as line edge roughness and dependence on developing time, to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition used for the method, and to provide a resist film.
ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁 - The pattern forming method includes a second resin film forming step of forming the second resin film as the acid transfer film on a first resin film which contains a resin including acid dissociation groups but does not contain a radiation-sensitive acid generator.
酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、前記酸転写用膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a lithographic device comprising an illumination system that supplies radiation beams, an array of individually controllable elements that pattern the beams and a projection system that guides the patterned beams to a substrate supported on a substrate table from underneath, and a manufacturing method therefor.
放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁 - There is provided the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition wherein transmittance for light of wavelength 193 nm for film thickness of 100 nm is 55-80%, and the pattern forming method using the composition.
膜厚１００ｎｍにおける波長１９３ｎｍの光に対する透過率が５５％以上８０％以下であることを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、該組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - A conductor pattern 3 in an insulated substrate 10 joined with a semiconductor chip 4 and a heat radiation plate 8 are joined by a solder alloy 9 containing, by weight, 3 to 5% antimony (Sb) and ≤0.2% germanium (Ge), and the balance tin (Sn).
半導体チップ４が接合された絶縁基板１０の導体パターン３と放熱板８を、３〜５重量％のアンチモン（Ｓｂ）と０．２重量％以下のゲルマニウム（Ｇｅ）を含有し、残りがスズ（Ｓｎ）であるはんだ合金９により接合する。 - 特許庁 - The top layer 11 of the wet offset printing form may contain absorption centers for irradiation, especially for laser radiation in the NIR range, with which heating of the top layer in the pattern of an image is attained.
湿式オフセット・プリンティング・フォームの頂上層１１に、照射のための吸収中心、特にＮＩＲ範囲のレーザ放射エネルギに関する吸収中心を含ませてもよく、それによってイメージのパターンに従った頂上層の加熱が達成される。 - 特許庁 - To provide a technique for feeding back damage distribution computation owing to ion radiation in a real pattern and process such as 100 nm scale to the process development of a device within realistic computation time such as several hours or several days.
本発明は、１００ｎｍスケールという実パターンおよび実プロセスにおけるイオン照射によるダメージ分布計算を数時間、数日間といった現実的な計算時間内でデバイスのプロセス開発にフィードバックする手法を提供することを可能にする。 - 特許庁 - To provide a multi-band antenna which has a plurality of antennas and is capable of obtaining a desired radiation pattern, even when the resonance frequency fl of the antenna for low frequency and the resonance frequency fh of the antenna for high frequency satisfy the relation fh=3fl.
複数のアンテナを備え、低周波用アンテナの共振周波数ｆｌと、高周波用アンテナの共振周波数ｆｈとが、ｆｈ＝３ｆｌの関係を満たす場合であっても、所望の放射パターンを得ることが可能なマルチバンドアンテナを提供する。 - 特許庁 - To provide a shared array antenna for two frequency bands, with which a grating lobe does not occur in both the frequency bands, mutual coupling between element antennas or influence caused by blocking upon a radiation pattern is settled within an allowable range and the element antennas are not physically interfered.
両周波数帯域においてグレーティングローブが発生せず、また、素子アンテナ間の相互結合やブロッキングによる放射パターンへの影響が許容範囲内となり、また、素子アンテナが物理的に干渉しない２周波数帯共用アレーアンテナを得る。 - 特許庁 - To provide a measuring apparatus for optical, for example interferometric, measurement of an optical imaging system, for imaging an effective pattern in an imaging operation, including a device for producing radiation information, for example interference information, which indicates heating-dependent imaging errors.
撮像動作において有効パターンを撮像する光学撮像システムの、光学、例えば、干渉計測定用の測定装置であって、例えば、加熱依存性撮像エラーを示す干渉情報である、放射情報を製造する装置の実現。 - 特許庁 - This process release material is characterized so that the material is equipped with the release layer having the embossed pattern and comprising a cured film of the acrylic ionizing radiation-curing resin on a base material and a metal or metal oxide film is formed on the release layer.
工程離型材は、基材上にエンボスパターンを有するアクリル系電離放射線硬化性樹脂の硬化膜からなる離型層を備え、該離型層上に金属又は金属酸化物の薄膜を設けたことを特徴とするものである。 - 特許庁 - The requested dose pattern is built up over time from an array of localized exposures in which at least neighboring localized exposures are imaged at substantially different times, and in which each localized exposure is produced by one of the sub-beams of radiation.
要求ドーズ・パターンは、少なくとも隣接する局所露光部が実質的に異なる時間で結像され、また各局所露光部が放射線のサブビームの１つによって生成される一連の局所露光部から時間の経過につれて構築される。 - 特許庁 - This antenna is so constituted that it has the first BHA and the second BHA which has a reverse winding direction to the first BHA, and that the linearly polarized wave antenna is formed by making the first BHA and the second BHA cross orthogonal on the same axis and overlapped, thus attaining a radiation pattern with large front-to-back ratio and high gain.
第１のBHAと、第１のBHAとは巻き方向が逆の第２のBHAとを有し、前記第１のBHAと前記第２のBHAとを同軸上に直交して重ね直線偏波アンテナを形成し、前後比が大きく、高利得な放射パターンを可能とする。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method excellent in resolution power such as a minimum dimension free from a bridge defect, roughness performance such as line edge roughness, and dependency on developing time, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film to be used for the method.
ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁 - The GPS antenna system is provided with N sets of antenna elements and a control means that controls a received signal from each antenna element to allow a desired wave to be directed to a maximum value of a radiation pattern and to allow a non-desired wave to be directed to a null (zero) point as its active control.
Ｎ個のアンテナ素子と、各アンテナ素子からの受信信号を制御して希望波に対しては放射パターンの最大値を向ける一方、非希望波に対してはヌル（零）点を向ける能動的制御を行う制御手段と、を有する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition having a chemical structure transparent to ArF excimer laser beams having a wavelength of 193 nm and high in resistance to dry etching, and a method for forming a negative pattern free from swelling and high in resolution and superior in developability by using an aqueous developing solution of widely used tetramethylammonium hydroxide.
ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmに透明かつドライエッチング耐性が高い化学構造を持ち、汎用のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液による現像で膨潤のない、解像性に優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The conductive pattern 210a has an electronic component mounting land which the electronic component 300 is soldered to and a first conducting wire mounting land which lead wires 400d and 400e, conducting the heat generated by the electronic component 300 for radiation, are soldered to.
導体パターン２１０ａは、電子部品３００が半田付けされる電子部品実装ランドと、電子部品３００で発生した熱を伝導して放熱するリード線４００ｄ，４００ｅが半田付けされる第一の導線実装ランドとを有する。 - 特許庁 - To provide a resist pattern formation method, restraining the occurrence of a droplet blot originating from a liquid for liquid dipping in liquid dipping exposure using a liquid for liquid dipping having a high refractive index, and a radiation-sensitive resin composition used in the formation method.
高屈折率の液浸用液体を用いた液浸露光において、液浸用液体由来の液滴痕の発生を抑制できるレジストパターン形成方法、及びその形成方法に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a lithography device including an illumination system for supplying radiation beams, the array of elements to be individually controlled to pattern the beams, and a projection system for guiding the patterned beams to a substrate supported on a substrate table; and to provide a method therefor.
放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition with excellent storage stability, with which a microlens can be formed which is excellent in film thickness, resolution, pattern configuration, thermostability, transparency, heat discoloration resistance, resistance to solvents or the like, even when lower temperature firing is adopted.
低温焼成を採用した場合でも、膜厚、解像度、パターン形状、耐熱性、透明性、耐熱変色性、耐溶剤性等に優れたマイクロレンズを形成でき、また保存安定性も良好な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition from which a small amount of substance elutes into a liquid for immersion exposure kept in contact with the composition in immersion exposure, and which excels in sensitivity and resolution and can form a resist film giving a good pattern profile.
液浸露光時に、接触した液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、感度及び解像度に優れ、得られるパターン形状が良好なレジスト膜を形成することが可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The control part compares the subtraction result with the inter-pattern interval TP, thereby to define the larger value as the interval to be required in exhausting and the radiation of the electromagnetic valves 32e, 32f with the contraction operations of air bags between the operation patterns A, B.
制御部は、その減算結果とパターン間インターバルＴＰとを比較してその値の大きい方を、動作パターンＡ，Ｂ間におけるエアバッグの収縮動作に伴う排気と電磁弁３２ｅ，３２ｆの放熱とで要するインターバルと決定する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition capable of forming a chemically amplified resist film which effectively responds to electron beams or extreme ultraviolet rays and has excellent nano edge roughness, sensitivity, and resolution to stably produce a fine pattern with a high degree of accuracy.
電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition for a color filter which causes neither chipping nor peeling on a pattern even when the discharge pressure of a developing solution is increased and can prevent the occurrence of residue and surface stain on a substrate in an unexposed area and on a light shielding layer.
現像液の吐出圧を上げても、パターンに欠けおよび剥がれを生じることがなく、未露光部の基板上および遮光層上に残渣および地汚れが発生するのを防止しうるカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - The multi-resonant broadband antenna is configured in which a specific fractal antenna pattern is arranged, thereby making maximal an antenna area per unit area, improving antenna radiation efficiency and embodying an antenna small-sided in comparison with a frequency length.
特定のフラクタルアンテナ形態を配列することによって、単位面積当たりアンテナ面積を極大化し、これによりアンテナ輻射効率を向上させ、周波数波長に比べて小型化されたアンテナを具現できる多重共振広帯域アンテナである。 - 特許庁 - The respective transmission antennas 104 of the plurality of millimeter wave band transmitters 35a, 35b, 35c are disposed so that at least one of an azimuth and an angle of elevation of the transmission antennal 104 differs, and a radiation pattern of a radio signal wave 111 by the respective transmission antennas 104 is widened.
上記複数のミリ波帯送信機３５a,３５b,３５cの各送信アンテナ１０４の方位角または仰角の少なくとも一方が異なるように配置して、各送信アンテナ１０４による無線信号波１１１の放射パターンを広げる。 - 特許庁 - When a detection area 35 can be set to the question signal relatively accurately and the responders 16A, 16B use an LF band for easily receiving the question signal, the radiation pattern symmetrical to the radiation surface is forcedly formed from the LF antenna 34.
前記質問信号に、検知エリア３５を比較的正確に設定でき、また応答器１６Ａ，１６Ｂが該質問信号を受信し易いＬＦ帯を使用した場合、前記のようにＬＦアンテナ３４から放射面に対して対称な放射パターンが形成されてしまうので、質問器３１にもう１つのＬＦアンテナ４１を設け、前記質問信号に対する微弱妨害波を発生させる。 - 特許庁 - To provide a positive radiation-sensitive composition that has good radiation sensitivity, and from which high light transmittance, voltage retention, and good developability and pattern forming property capable of reacting on changes in cured film formation condition are provided to an interlayer dielectric film obtained, the interlayer dielectric film formed from the composition and a method for forming the interlayer dielectric film.
優れた放射線感度を有し、得られる層間絶縁膜が高い光線透過率及び電圧保持率を備えつつ、硬化膜形成条件の変化にも対応できる優れた現像性及びパターン形成性を備えるポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成された層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The resist pattern forming method includes: at least a resist film forming step of forming a resist film by applying and heating the resist composition on a surface to be processed; an irradiation step of selectively irradiating the resist film with ionizing radiation; a heating step of hating the resist film irradiated with the ionizing radiation; and a development step of developing the resist film.
本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工面上に、本発明の前記レジスト組成物を塗布し加熱してレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、該レジスト膜に対して、電離放射線を選択的に照射する電離放射線照射工程と、電離放射線が照射された該レジスト膜を加熱する加熱工程と、現像する現像工程とを少なくとも含む。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition excellent in electrical properties and transparency, capable of efficiently forming a pattern of smooth shape, and excellent in heat-resistant shape retentivity, heat-resistant transparency and solvent resistance of a formed resin film, and to provide a laminate obtained by forming a resin film using the radiation sensitive composition on a substrate and a method for manufacturing the laminate.
電気特性や透明性に優れ、且つ効率よくなだらかな形状のパターン形成が可能で、しかも形成される樹脂膜の耐熱形状保持性、耐熱透明性及び耐溶剤性に優れた感放射線組成物、この感放射線組成物を用いてなる樹脂膜を基板上に形成した積層体、及びこの積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A pattern forming method comprises the steps of: (a) forming a film from an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a compound(A) that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and is decomposed by an action of an acid to reduce solubility in an organic solvent; (b) exposing the film; and (c) developing using a developer containing an organic solvent.
（ア）活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する化合物（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程 を含む、パターン形成方法。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition capable of stably forming a resist micropattern high in precision especially, without causing film surface roughness and sensitive to many kinds of radiations and superior in sensitivity, resolution, PED stability, and pattern forms by incorporating a specified copolymer and a radiation sensitive acid generator.
紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、Ｘ線の如き各種の放射線に有効に感応し、感度、解像度、ＰＥＤ安定性、パターン形状に優れるとともに、特に「ナノエッジラフネス」あるいは「膜面荒れ」を生じることがなく、高精度の微細なレジストパターンを安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition that is excellent in fundamental properties of a resist, such as sensitivity and resolution, even if a thin film, is excellent in exposure latitude when a line pattern is formed, and can form a resist film for reducing residues after development.
薄膜であっても、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際における露光余裕度が優れ、また、現像後の残渣を低減させるレジスト膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - This module board 100 with an antenna is provided with a board body 110, a loop-like radiation conductor 112 provided on one main surface 111 of the board body 110, and a ground pattern 122 provided on the other main surface 121 of the board body 110.
本発明によるアンテナ付きモジュール基板１００は、基板本体１１０と、基板本体１１０の一方の主面１１１に設けられたループ状の放射導体１１２と、基板本体１１０の他方の主面１２１に設けられたグランドパターン１２２とを備える。 - 特許庁 - To provide a method for eliminating the need for measuring the electric field distribution of the total steric surface surrounding a measured antenna and directly, conveniently and accurately calculating the far-field radiation pattern, from a measured result in a short-distance Fresnel region of one required plane.
被測定アンテナを取り囲む全立体面の電界分布の測定を必要とせず、また、必要な１つの平面内の近距離フレネル領域での測定結果から直接、遠方界放射パターンを簡便に精度よく計算できる方法を提供する。 - 特許庁 - To form a landscape light distribution pattern having a large horizontal diffusion angle by light radiation from a lamp tool unit after enhancing a luminous flux utilization ratio for light from a light emitting element, in a vehicular lamp tool unit using the light emitting element as a light source.
発光素子を光源とする車両用灯具ユニットにおいて、発光素子からの光に対する光束利用率を高めた上で、該灯具ユニットからの光照射によって水平方向の拡散角が大きい横長配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - Under an operation pattern where temperature of working fluid rises, the minimum tilting angle of hydraulic pumps 11 and 12 is increased to increase average flow of hydraulic oil passing an oil cooler 40 so as to increase average heat radiation quantity, and lower the equilibrium temperature of working fluid.
これにより作動油流体の温度が上昇する運転パターン時は、油圧ポンプ１１，１２の最小傾転角を増大させてオイルクーラ４０を通過する圧油の平均流量を増加させ、平均放熱量を増加させ、作動油流体の平衡温度を下げる。 - 特許庁 - A photopolymerizable colored composition layer formed of the pigment-dispersed radiation-sensitive resin composition into which the hydrophobic resin has been incorporated in a predetermined amount is selectively irradiated with light having a predetermined wavelength and is developed, whereby a colored pattern excellent in durability is formed.
この疎水性樹脂を所定量含有させた顔料分散型感放射線樹脂組成物からなる光重合性着色組成物層に所定波長の光を選択的に照射し、現像することにより、耐久性に優れた着色パターンを作成する。 - 特許庁 - The mask force device is releasably connected to the mask in order to provide an accelerating force to the mask so that a projection optical system in a lithographic apparatus may accurately project a pattern imparted by the patterning device onto a target portion of a substrate by using a radiation beam.
マスク力デバイスは、リソグラフィ装置内の投影光学系が放射ビームを用いて基板のターゲット部分上にパターニングデバイスによって付与されるパターンを正確に投影できるように、加速力をマスクに提供するためにマスクに取外し可能に連結されている。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition adaptable to a normal dry process as well as an immersion process, having excellent sensitivity, and reducing LWR (line width roughness) and blob defects, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.
通常のドライプロセスに加え、液浸プロセスにも適合した、感度に優れ、ＬＷＲ及びブロッブ欠陥が低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.
良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which leaves no undissolved matter in development, has no scumming, chipping and undercut of a pattern edge, and excels also in solvent re-solubility of a dry film and electrical properties of the film typified by voltage retention.
現像時に未溶解物が残存せず、パターンエッジのスカム、欠けおよびアンダーカットがなく、また乾燥塗膜の溶剤再溶解性および電圧保持率に代表される電気特性にも優れた着色層形成用感放射線性組成物等を提供する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
