「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 次へ＞- To provide a vehicle lamp in which heat radiation of a semiconductor light-emitting element is improved and each light distribution pattern can be made highly precise by preventing mutual interference of a plurality of light distribution patterns installed in a reflector.
半導体発光素子の放熱性を向上させ、更に、リフレクタに装備した複数の配光パターン相互の干渉を防止して、各配光パターンを高精度化することができる車両用灯具を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for forming colored layer, which is excellent in adhesion to a substrate, and cleaning property with an organic solvent, and from which pixels having a high-definition excellent pattern profile can be formed.
基板との密着性に優れ、かつ有機溶剤による洗浄性にも優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素形成できる着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a printed board wiring processing system by which radiation noise occurrence from a wiring pattern on a printed board is prevented and the design quality is guaranteed by detecting an EMC design condition at the time of processing the wiring.
配線処理時にＥＭＣ設計条件を検出することでプリント基板上の配線パターンからの放射ノイズ発生を防止して設計品質を保証するプリント基板配線処理方式を提供する。 - 特許庁 - A main substrate 3 is sandwiched and inserted into internal sides of both ends of the extended laterally put U-shape in the radiation member 2, and is electrically connected and fixed by a grounding pattern formed on both surfaces of the main substrate 3, soldering, or the like.
放熱部材２は、延出したコの字状の両端部内側に主基板３が挟み込まれ、主基板３の両面に形成されたグランドパターンとハンダ付け等により電気的に接続されて固定される。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition which satisfies few development defects as well as high sensitivity, high resolution and a good pattern shape when an active ray or radiation, particularly an electron beam or X-ray is used.
活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線の使用に対して、高感度、高解像性、良好なパターン形状に加えて、現像欠陥の特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition of which cross-section plane is of inverse tapered shape, and which significantly excels in heat resistance, and is capable of forming a resist pattern that does not cause shape anomaly such as a protrusion on a side wall.
断面が逆テーパー状で、耐熱性が顕著に優れ、かつ側壁に突起などの形状異常の発生がないレジストパターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - The detecting unit determines the detected values representative of the characteristics of the pattern from the sensed radiation, compares the detected values with a reference value representing a desired standard for the characteristics, and outputs a signal according to the result of the comparison.
検出ユニットは、検知した放射からのパターンの特徴を表す検出値を確定し、検出値を特徴についての所望の標準を表す基準値と比較し、比較結果に従って信号を出力する。 - 特許庁 - Then, an electrical connection across the FPC copper foil wiring pattern and the input terminals of the liquid crystal display device, and heat radiation path securing of the electrostatic protection circuit are performed with a single thermo- compression bonding process via ACF.
そして、ＡＣＦを介した１回の熱圧着工程により、ＦＰＣの銅箔配線パターンと液晶表示装置の入力端子との電気的接続、及び静電保護回路の放熱経路確保を行う。 - 特許庁 - To obtain a radiation-sensitive resin composition capable of faithfully reproducing a design size of a mask pattern even by proximity exposure and forming a spacer for a display panel excellent in strength, heat resistance, etc., required for the spacer.
プロキシミティー露光によってもマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつスペーサーとして必要な強度、耐熱性等に優れた表示パネル用スペーサーを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The diffractive optical element is configured to diffract light emitted from a light source (46;72, 74, 76), so that the radiation pattern of the light emitted from the diffractive optical element may be rectangular to produce the rectangular flash of light.
該回折光学要素は、該回折光学要素から発せられる光の放射パターンが矩形となって矩形のフラッシュ光が生成されるように、光源(46;72,74,76)から発せられた光を回折させるよう構成される。 - 特許庁 - Provided are an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a repeating unit of a structure represented by the following general formula (EI), a resist film using the composition, and a pattern forming method.
下記一般式（ＥＩ）で表される構造の繰り返し単位を有する樹脂（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 - 特許庁 - This resist film 11 is selectively irradiated with extreme-ultraviolet radiation 12 having a wavelength of 1 to 30 nm band to carry out patternwise exposure and the patternwise exposed resist film 11 is developed to form the objective resist pattern 14.
レジスト膜１１に対して、１ｎｍ帯〜３０ｎｍ帯の波長を持つ極紫外線１２を選択的に照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像してレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution for far UV rays as typified by an ArF excimer laser, excellent in the pattern profile or the like, and suitable as a chemically amplifying resist.
特にＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線に対する感度、解像度が優れ、パターン形状等にも優れる新規な化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - In such a manner, light emitting radiation over a plurality of wavelength ranges or sub ranges is effectively scattered to remove (or intentionally form) spatially inhomogeneous color pattern in output beam.
このようにして、複数の波長範囲または副範囲に渡って発光する輻射は効率よく散乱されて、出力ビームにおける空間的に不均一な色パターンを除去する（または意図的に作る)ことが出来る。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition for a color filter forming a pattern free of chipping and peeling and capable of preventing the occurrence of residue and surface stains on a substrate in unexposed regions and on a light shielding layer.
パターンに欠けおよび剥がれを生じることがなく、未露光部の基板上および遮光層上に残渣および地汚れが発生するのを防止しうるカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which can form high-quality pixels free of unevenness due to water (spotted color unevenness occurring on a pixel pattern after development and cleaning) even with a small amount of light exposure.
低露光量であっても水ムラ（現像・水洗後に画素パターン上に発生するシミ状の色ムラ）のない高品質な画素を形成することができる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To obtain a radiation sensitive resin composition effectively sensitive to various radiations, having high sensitivity, also having satisfactory resolution and focus latitude in various patterns including dense lines, isolated lines and contact holes, particularly in a line pattern and capable of forming a minute pattern with low surface roughness.
各種の放射線に有効に感応し、高感度であり、かつ密集ライン、孤立ライン、コンタクトホール等を含む種々のパターンで、とりわけライン系パターンにおいて、十分な解像度とフォーカス余裕度を有し、さらに膜面荒れの小さい微細パターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-curable resin composition which enables obtaining a high-definition pattern excellent in the shape in preparing an optical waveguide by the pattern-forming method using a fine lithography technique and has excellent storage stability, an optical waveguide using the resin composition, and a method for manufacturing an optical waveguide.
微細なリソグラフィ技術を用いたパタン形成方法によって光導波路を作製するに際し、高精細で形状の優れたパタンを得ることを可能とするとともに保存安定性に優れた放射線硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた光導波路及び光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative radiation-sensitive composition which is suitable for exposure to far-UV rays including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light and which can form a pattern with high resolution while avoiding the causes for deterioration in the resolution such as swelling due to permeation of a developer or remaining of a resist film between the lines of the pattern.
ＡｒＦエキシマレ−ザの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線での露光に適していて，現像液の浸透による膨潤や，パタンの線間にレジスト膜が残るといった解像度劣化の原因を取り除いた高解像度のパタン形成が可能なネガ型の感放射線組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a pattern form, line edge roughness, resist temporal stability, and dry etching resistance, especially in lithography using electron beam, X-ray, or EUV light as a source of exposure light; and also to provide a pattern forming method using the same.
特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネズ、レジスト経時安定性、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has high sensitivity, high dissolving contrast, sufficient pattern profile, and sufficient line edge roughness performance, reduces a standing wave, and does not generate a development defect, and also to provide a film formed using the composition and a pattern forming method using the film.
高感度、高溶解コントラストであり、良好なパターンプロファイル、良好なラインエッジラフネス性能を有し、定在波の低減が可能であり、且つ現像欠陥を発生しない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いて形成した膜及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for exposure by x-ray, electron beam or EUV light that is excellent in pattern collapse margin and bridge margin with no residue of a resist composition on a substrate and excellent in resistance to scattered (flare) light, and a resist film and a pattern forming method using the composition.
パターン倒れマージンやブリッジマージンに優れ、かつ基板上にレジスト組成物の残渣が残らず、更には散乱（フレア）光に対する耐性に優れた、Ｘ線、電子線又はＥＵＶ光露光用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness characteristics and stability with time, and can form a pattern in a favorable shape, and suppresses PEB (post exposure bake) temperature dependence, and to provide a resist film formed by using the composition and a pattern forming method using the composition.
感度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成することができ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition for forming a pattern having excellent roughness characteristics and dry etching resistance when an ArF excimer laser, an electron beam, an X-ray, an EUV and the like are used as an exposure light source, and also to provide a pattern forming method using the composition.
特にＡｒＦエキシマレーザー、電子線、Ｘ線、ＥＵＶ等を露光光源とする場合に、ラフネス特性及びドライエッチング耐性に優れたパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The pixel value of an evaluation region is subjected to shading correction using the pixel value of the uniform exposure region present in the periphery of an evaluation region where at least one pattern in the image quality evaluating pattern in the radiation image is photographed and the image quality is evaluated and operated using the pixel value of the evaluation region subjected to the shading correction.
放射線画像中の画質評価用パターンのうち少なくとも１つが撮影された評価領域の周辺にある一様露光領域の画素値を用いて評価領域の画素値をシェーディング補正し、シェーディング補正した評価領域の画素値を用いて画質評価演算を行う。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition for ion implantation forming a resist film which is excellent in ion blocking property and in the breaking resistance of the resist even in the case of a thin film, has good sensitivity and resolution even when an antireflection film is not formed on a substrate, and ensures a good pattern profile and a small pattern variation range.
薄膜であってもイオン遮断性及びレジストの耐破壊性に優れ、基板上に反射防止膜が形成されていない場合にも、良好な感度及び解像度を有し、良好なパターンの形状、及びパターン変動幅の小さいレジスト膜を形成可能なイオンインプランテーション用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which is adaptable to the formation of a fine resist pattern using a light source of a short wavelength up to 90 nm, excels in resolution, ensures small LWR and good PEB temperature dependency, excels in pattern collapse resistance and hardness to cause defect, and is suitably used even in an immersion exposure step.
９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。 - 特許庁 - The apparatus comprises a beam generating system constituted so that it can project a pattern forming beam to a target portion of a substrate by providing a projection beam of radiation and by forming the pattern in the beam, and a supporting table for supporting the item so that the flat surface of the item may be placed the predetermined surface crossing a beam propagation direction.
装置は、放射線の投影ビームを提供し、ビームにパターンを形成して、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影するように構成されたビーム生成システム、および品目の平面が投影ビームの伝搬方向を横切る所定の面にあるように、品目を支持する支持テーブルを含む。 - 特許庁 - Lithographic equipment is provided with an illumination system for supplying a radiation beam, a pattern applying device integrated with the array of respectively controllable elements for applying a pattern to a beam cross-section, a substrate table for supporting a substrate and a projection system integrated with a micro-lens array for projecting a beam to the target of the substrate.
リソグラフィ機器は、放射ビームを供給する照明系と、ビーム断面にパターンを付与する個々に制御可能な素子の配列の組み込まれたパターン付与装置と、基板を支持する基板テーブルと、基板の目標部分にビームを投影する微小レンズ配列の組み込まれた投影系とを備える。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition for a color filter, which has excellent development property without occurring defect or stripping off of pixel pattern in developing stage and excellent mechanical strength after film-forming, and also gives a good pattern shape and further does not generate defective display such as image seizing in using for a display panel.
現像時の画素パターンに欠落や剥がれを生じることがなく、現像性に優れ、かつ成膜後の機械的強度が優れ、またパターン形状も良好であり、しかも表示パネルにしたとき焼き付き等の表示不良を生じることがないカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - A recess 117 is formed on a bottom surface 112 at the side of a second side 114 in the substrate 110, and air having low permittivity is interposed between the first radiation conductor 123 and the third edge line 220c of the ground pattern, thus further suppressing deterioration in antenna characteristics caused by the influence of the grand pattern.
また、基体１１０の第２の側面１１４側の底面１１２には凹部１１７が形成されており、第１の放射導体１２３とグランドパターンの第３のエッジライン２２０ｃとの間に低誘電率の空気が介在することから、グランドパターンの影響によるアンテナ特性の劣化はさらに抑制される。 - 特許庁 - The method comprises: establishing a power spectral density (PSD) indicative of the spatial frequency of the stray radiation produced by the projection system; and determining, from the PSD, a modulation transfer function (MTF) relating the PSD to the pattern applied by the patterning device in such a way that the effect of flare on the pattern image is taken into account.
投影システムが生成する迷光放射線の空間周波数を示す電力スペクトル密度（ＰＳＤ）を確立し、フレアがパターン像に及ぼす効果を考慮に入れる方法で、パターニングデバイスが適用するパターンにＰＳＤを関連づける変調伝達関数（ＭＴＦ）を、ＰＳＤから決定する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and development defect performance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray as an exposure light source, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.
特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、現像欠陥性能を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation and superior developability, excellent in adhesiveness to a substrate as well as in basic solid state properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, causing no development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.
放射線に対する透明性が高く、現像性に優れ、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、基板に対する接着性にも優れ、かつ微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a lactone copolymer resin which is highly transparent to radiation, can solve the problem on how to take a trade-off between resolution and exposure latitude and is suitable as a resin component in a chemical amplification resist to provide the resist with excellent dry etching resistance and pattern figure; and a radiation-sensitive resin composition containing the lactone copolymer resin.
放射線に対する透明性が高く、特に解像度と露光余裕とのトレードオフの問題を解決でき、しかもドライエッチング耐性、パターン形状等にも優れた化学増幅型レジストの樹脂成分として好適なラクトン系共重合樹脂、および当該ラクトン系共重合樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition (with sufficient radiation sensitivity and developability) which can easily form a microscopic and sophisticated pattern, and satisfies both storage stability and short-time low-temperature firing, and to provide a cured film excellent in required characteristics such as heat resistance and compression characteristics as well as to provide a method of forming the cured film.
本発明の目的は、容易に微細かつ精巧なパターンを形成でき、保存安定性と短時間での低温焼成とを両立し、かつ十分な放射線感度及び現像性を有する感放射線性樹脂組成物、並びに耐熱性、圧縮特性等の要求特性に優れる硬化膜及び硬化膜の形成方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a positive radiation sensitive resin composition which excels in application property and radiation sensitivity, provides good pattern form and can form an interlayer insulating film having excellent heat resistance, solvent resistance, light transmittance, dry-etching resistance, and the interlayer insulating film obtained from the composition and a method for forming the film.
塗布性に優れ、放射線感度、及び良好なパターン形状が得られると共に、耐熱性、耐溶剤性、光線透過率、耐ドライエッチング性に優れた層間絶縁膜を形成することが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物、その組成物から得られた層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することである。 - 特許庁 - A lithographic apparatus is provided which has an array of individually controllable elements to modulate a cross-section of a radiation beam, a substrate table to support a substrate, a projection system to project the modulated radiation beam onto a target portion of the substrate to apply a pattern, and a position encoder having a position sensor and a scale to determine a position of the substrate table.
放射線ビームの断面を変調する個別制御可能な要素のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、変調された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影してパターンを適用する投影システムと、基板テーブルの位置を決定する位置センサおよびスケールを備えた位置エンコーダとを有するリソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁 - This wireless communication device is equipped with: a circuit board including an antenna element; an estimating means for estimating a current distribution in at least a partial area on the circuit board, which is induced by power feeding to the antenna element; and a specifying means for specifying a radiation pattern associated with the current distribution estimated by the estimating means as a radiation directivity of the circuit board.
無線通信装置が、アンテナ素子を含む回路基板と、このアンテナ素子への給電により誘起される回路基板上少なくとも一部領域の電流分布を推定する推定手段と、この推定手段により推定された電流分布に応じた放射パターンを前記回路基板の放射指向性として特定する特定手段と、を備える。 - 特許庁 - Of signals S_0 input to the array antenna 20, radio waves S_1 of a use frequency is transmitted through a dielectric plate material 12 for radiation, and unwanted frequencies of the radio waves of frequencies and the are reflected or absorbed by a plurality of metal pieces 11 for attenuation, to form a significantly reduced radial pattern S_3 as compared to a conventional radiation S_2.
アレイアンテナ２０へ入力される信号Ｓ_0 のうち利用周波数の電波Ｓ_1は誘電体板材１２を透過して放射し、放射パターンＳ_1 として放射し、不要な高周波等の周波数の電波は多数の金属片１１で反射又は吸収して減衰させ、従来の放射Ｓ_2 よりも大幅に低減した放射パターンＳ_3 となる。 - 特許庁 - A lithographic projection apparatus is provided with a radiation system for supplying a radiation projection beam, a support structure for supporting a patterning means that submits the projection beam to patterning according to a designed pattern, a substrate table for retaining a substrate and a projection system for projecting the beam that has been submitted to patterning to a target part of the substrate.
放射の投影ビームを供給するための放射システムと、設計されたパターンに従って、投影ビームをパターニングする働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、上記基板の目標部分にパターニングされたビームを投影するための投影システムとを備えるリソグラフィ投影装置。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and a development margin that achieves formation of a preferable pattern feature even a developing time exceeds the optimum developing time in a developing process, and capable of forming a patterned thin film with excellent adhesiveness, and to provide an interlayer insulating film and a microlens formed from the composition.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物およびそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供することにある。 - 特許庁 - The method further includes a step of making a desired phase change for the part of the radiation beam when applying the pattern feature to the substrate and illuminating the phase modulation element using the part of the radiation beam when the phase modulation element is configured into a desired configuration by making the desired phase change.
この方法には、さらに、基板にパターンフィーチャを加える際に放射ビームの上記部分に対して所望の位相変化を実施する工程であって、所望の位相変化の実施が、位相変調エレメントが所望の構成で構成されると、放射ビームの上記部分を使用して位相変調エレメントを照明する工程を含む工程が含まれている。 - 特許庁 - There is provided with positive radiation-sensitive composition contains (a) a compound, having a carboxyl group protected with an acid releasing group and (b) an acid generating agent, which generates an acid when irradiated with radiation, and the acid releasable group has ≥3 aromatic rings, and a method for producing a resist pattern using the composition.
ａ）カルボキシル基を酸脱離基で保護した化合物およびｂ）放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物であって、ａ）の酸脱離基が芳香環を３つ以上有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and such a development margin as to form a good pattern shape even by development for over an optimum developing time in a developing step, the composition easily forming a patterned thin film excellent in adhesion and being suitable for forming an interlayer dielectric or microlenses.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適な感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition which, as a chemically amplified resist, is high in transparency to radiation and superior in resolution and is not only superior in dry-etching resistance, sensitivity, and pattern shape or the like, but also remarkably improves the yield of semiconductor elements by suppressing the occurrence of development defects during microfabrication.
化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、かつ解像度が優れるとともに、ドライエッチング耐性、感度、パターン形状等にも優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥発生を抑制し、半導体素子の歩留りを著しく向上させることができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - When detecting errors consecutively from all the terminals for a prescribed period, each wireless base station apparatus carries out the control of omnibus transmission, wherein a transmission beam of a call channel of each terminal is switched alternately, and no directivity is provided in the particular direction of the radiation pattern.
全ての端末についてエラーを一定期間連続して検出した場合、各端末の通話チャネルの送信ビームを交互に、且つ放射パターンを特定の方向に指向性を持たせないオムニ送信をするように制御する。 - 特許庁 - After patterns 2 are applied to raw paper 1 good in water absorbability, a surface protective layer 5 comprising an ionizing radiation curable resin is provided on the patterns 2 of resin impregnated pattern paper 4 containing a resin 3 to obtain decorative paper.
吸水性の良い原紙１に絵柄模様２を施した後、更に樹脂３を含浸してなる樹脂含浸模様紙４の絵柄模様２面に、電離放射線硬化型樹脂からなる表面保護層５を設けてなる化粧紙である。 - 特許庁 - To enhance use efficiency of light source luminous flux in the case a light distribution pattern having horizontal and slant cutoff lines is formed at an upper end part, in a direct radiation lamp for a vehicle using a light-emitting element as a light source.
発光素子を光源とする直射型の車両用照明灯具において、上端部に水平および斜めカットオフラインを有する配光パターンを形成するようにした場合にも光源光束の利用効率を高める。 - 特許庁 - To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition having improved dependence on a thin-dense pattern and usable in an ultramicrolithographic process and another photofabrication process for producing VLIS and high capacity microchips.
疎密パターン依存性が改善され、超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケ−ションプロセスに使用することができる化学増幅型の感放射線性レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
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