「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 次へ＞- The received signal level is improved since the maximum direction of an antenna radiation pattern is matched with the installation direction of the transmission and reception terminal of the destination by inclining the angle, specifically at 45° if the transmission and reception terminal is in the position of the diagonal line between upper and lower stages.
また、送受信端末が上下階間で対角線の位置関係にある場合、角度を傾ける、特に４５度に傾けることにより、相手先の送受信端末の設置方向に対して、アンテナの放射パターンの最大方向が合致するため、受信信号レベルが向上する。 - 特許庁 - The base-reactive, surface-modifying agent is reactive to hydroxide and increases the surface hydrophobicity of a pattern formed in a layer of the radiation-sensitive composition upon treatment with a basic developing solution during lithographic processing of a substrate.
塩基に反応性の表面を改質する薬剤は、水酸化物に対して反応性のものであると共に基体のリソグラフィーの加工をする間に塩基性の現像する溶液での処理の際に放射に敏感な組成物の層に形成されたパターンの表面の疎水性を増加させる。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition capable of improving hydrophilicity during alkali development while securing hydrophobicity in immersion exposure, suppressing a development defect of a non-exposure part, and providing a resist coating film excelling in a pattern shape after development.
液浸露光時における疎水性を確保しつつアルカリ現像時における親水性を向上させることができ、未露光部の現像欠陥を抑制し得ることに加えて、現像後のパターン形状に優れるレジスト塗膜を与えることが可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The photoresist is exposed to actinic radiation in a pattern such that when the photoresist is subsequently developed, a perimeter region of the photoresist remains over the perimeter region of the carrier and extending inward over the periphery of the thin film sufficiently to secure the thin film during conveyorized chemical processing.
フォトレジストがその後に現像されるときに、フォトレジストの辺縁領域がキャリアの上に残り、さらにコンベアを有する化学的加工の間に薄膜を固定するのに充分となるように、薄膜の辺縁上で内側方向に延びるようなパターンの化学線で、フォトレジストが露光される。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device for directly soldering a bare chip on a conductor pattern of a substrate without using heat radiation dedicated heat sink, sufficiently and surely dispersing thermal stress by resin sealing and suppressing the thermal stress for a semiconductor chip.
放熱専用のヒートシンクを用いることなく直接基板の導体パターン上にベアチップを半田付けするとともに樹脂封止により充分確実に熱応力を発散して半導体チップに対する熱的ストレスが作用することを抑制した半導体装置を提供する。 - 特許庁 - The film for forming a resist pattern by ionizing radiation lithography has at least one upper layer on a resist layer formed on a substrate and a composition in the upper layer contains an amphiphilic polymer selected from polyvinyl alcohol, polyvinylamine, polyallylsulfonic acid, cellulose, etc.
電離放射線リソグラフィーよるレジストパターンの形成用膜において、基板上に形成したレジスト層上に少なくとも一層の上層を有し、上層中の組成物にはポリビニルアルコール、ポリビニルアミン、ポリアリルスルホン酸、セルロースなどから選ばれた両親媒性ポリマーを含有するレジストパターン形成用膜。 - 特許庁 - The lithographic device comprises: a substrate table which is so constituted as to hold a first type of first substrate, wherein the first substrate has a polishing surface; and a projection system which is so constituted as to project a radiation beam, provided with a pattern, to a target part of the substrate.
本発明のリソグラフィ装置は、第１のタイプの第１の基板を保持するように構成された基板テーブルであって、第１の基板が研磨面を有する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影系とを含む。 - 特許庁 - To provide an antenna-measuring device capable of omitting operation processing at near-field to far-field conversion, and accurately measuring the state where an antenna to be measured is fixed, when measuring at a close distance, a radiation pattern in the distance from the antenna to be measured.
本発明は、近傍界・遠方界変換についての演算処理を省略することができるとともに、被測定アンテナの遠方での放射パターンを近傍距離にて測定する際に、被測定アンテナを固定した状態で精度よく測定することができるアンテナ測定装置を提供する。 - 特許庁 - The negative electrode active material contains Si and O wherein the atomic ratio x of O to Si is expressed as 0<x<2, and wherein B<3° (2θ) where B represents the half width of the diffraction peak of the (220) plane of Si in the X-ray diffraction pattern measured using CuKα radiation.
ＳｉとＯとを含み、Ｓｉに対するＯの原子比ｘが０＜ｘ＜２で表され、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンにおいて、Ｓｉ（２２０）面回折ピークの半値幅をＢとするとき、Ｂ＜３°（２θ）である負極活物質を用いることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive refractive index variable composition which can easily vary the refractive index of a material to produce sufficiently large difference in the varied refractive indices and which can give a stable refractive index pattern or an optical material without depending on the conditions for use afterwards.
材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性屈折率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁 - A pattern having a water-repellent/oil-repellent portion is formed using a radiation-sensitive resin composition, and a high refractive index resin solution using a solvent having a low wetting property to the water-repellent/oil-repellent portion is applied thereon to form two areas different from each other in refractive index.
撥水・撥油性部位を持つパターンを感放射線性樹脂組成物を用いて形成し、その上に、撥水・撥油性部位に対し濡れ性が小さい溶剤を用いた高屈折率の樹脂溶液を塗布することにより、屈折率の異なる二つの領域を形成する方法。 - 特許庁 - To provide a stable chemically amplifying photoresist composition which does not change its alkali solubility before irradiation with radiation, to provide a photoresist laminate produced by laminating the above photoresist composition on a supporting body, to provide a method for manufacturing a photoresist pattern by the above body, and to provide a method for manufacturing a connecting terminal.
放射線照射前にアルカリ溶解性が変化することのない安定な化学増幅型ホトレジスト組成物、該ホトレジスト組成物を支持体に積層させたホトレジスト層積層体、及びこれを用いたホトレジストパターンの製造方法、及び接続端子の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - As for particularly a dihydrochloride hydrate of the compound, a pharmaceutical comprising the crystal exhibiting main peaks at spacings of 17, 7.1, 4.9, 4.3, 3.9 and 3.5 Å in a powder X-ray diffraction pattern obtained by exposure to Kα radiation of copper as the active ingredient is preferable.
特に、該化合物の二塩酸塩水和物では、銅のＫα線の照射で得られる粉末Ｘ線回折図において、面間隔が１７、７．１、４．９、４．３、３．９、および、３．５オングストロームに主要なピークを示す結晶を有効成分として含有する医薬が好ましい。 - 特許庁 - To provide a method and a device for relaxing the difference in heating occurring between an illumination part and a nonillumination part, accordingly, a stress difference, when forming the image of the pattern of a mask on a resist layer by electrons, ions or radiation such as an X ray or an ultraviolet ray, using a lithography projector.
リソグラフィ投影装置で、マスクのパターンを電子、イオン、Ｘ線または紫外線のような放射線によってレジスト層上に結像する際、照射部と非照射部の間に生ずる加熱差、従って応力差を緩和するための方法および装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a negative type radiation sensitive resin composition excellent in suitability to coating particularly on a substrate of a larger diameter by a spin coating method, capable of stably performing microfabrication, excellent in shelf stability and suitable for use as a chemical amplification type resist forming a resist film which gives a good pattern shape.
特に大口径化された基板へのスピンコート法による塗布性に優れ、微細加工を安定的に行うことができ、保存安定性に優れ、良好なパターン形状を与えるレジスト被膜を形成する化学増幅型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an RFID tag in which the novel RFID tag can be easily manufactured which has an excellent radiation pattern and can be installed on either a conductive body or a nonconductive body with a simple structure without shortening a communication distance.
良好な放射パターンを有し、簡易な構造で通信距離を短縮することなく導電性物体や非導電性物体に関わらずに設置可能である新規なＲＦＩＤタグを容易に製造し得るＲＦＩＤタグの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The charged beam plotting device for forming a pattern on a sample by forming charged beams radiated from a charged beam radiation source on a plurality of aperture parts comprises a first aperture, a second aperture and a deflector for irradiating an optional position of the second aperture with charged beams passed through the first aperture.
荷電ビーム放射源から放射された荷電ビームを複数のアパーチャの開口部で成形して試料上にパターンを形成するものであって、第１アパーチャと、第２アパーチャと、第１アパーチャを通過した荷電ビームを第２アパーチャの任意の位置に照射するための偏向器を有する。 - 特許庁 - The low-k dielectric film can be then processed to form a metal interconnect structure therein and subsequently exposed to a second ultraviolet radiation pattern effective to remove the porogen material from the low-k dielectrics film and form a porous low-k dielectric film.
低ｋの誘電体フィルムは、それから、そこで金属の相互接続構造を形成するために処理され、連続して、低ｋの誘電体フィルムから、ポロゲン材料を除去するのに有効な第二の紫外線照射パターンへ露光され、多孔性の低ｋの誘電体フィルムを形成する。 - 特許庁 - Lithography equipment has an illumination system for supplying beam of radiation, an array of individually controllable elements that function to give a pattern to a sectional face of the beam, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target part of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射線のビームを供給する照明系と、ビームの断面にパターンを与える働きをする個々に制御可能な要素の配列と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板の目標部分に投影する投影系とを有する。 - 特許庁 - To provide a technique enhancing the abrasion resistance of a polyolefin decorative sheet keeping a base material sheet overlaid with a pictorial pattern layer, a transparent adhesive layer, a transparent resinous layer, and a transparent surface protective layer formed by an ionizing radiation curable resin or a two component curable resin.
基材シート上に、絵柄模様層、透明性接着剤層、透明性樹脂層及び電離放射線硬化型樹脂又は２液硬化型ウレタン系樹脂から形成される透明性表面保護層を有するポリオレフィン系化粧シートの耐擦傷性を高める技術を提供する。 - 特許庁 - In the radiation structure of an electric circuit board 1, a switching element 13 and a coil 16 as electronic components generating heat are electrically connected to each other through an electric circuit pattern 31, and a metallic plate-like frame 2 as a member that radiates heat is mounted to a core 30 with the coil 16 wound therearound.
発熱する電子部品としてのスイッチング素子１３とコイル１６とを電気回路パターン３１で電気的に接続し、コイル１６が巻かれたコア３０に、放熱する部材としての金属製の板状のフレーム２を取り付けた電気回路基板１の放熱構造とする。 - 特許庁 - The decorative sheet S comprising a polyolefinic resin and having an embossed pattern 4 formed by emboss processing is constituted by laminating an upper layer 2 comprising an olefinic thermoplastic elastomer and a surface protective layer 3 comprising cured matter of an ionizing radiation curable resin on a lower layer 1 comprising a crystalline polyolefinic resin.
ポリオレフィン系樹脂からなりエンボス加工による凹凸模様４を有する化粧シートＳを、結晶性ポリオレフィン系樹脂の下層１上に、オレフィン系熱可塑性エラストマーの上層２、及び、電離放射線硬化性樹脂の硬化物の表面保護層３が積層された構成とする。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition prevented from occurrence of change of the line width of a resist pattern by PED and that of T forms and that of stationary waves even on a substrate high in reflectance and high in resolution and useful as a chemically sensitizable resist.
ＰＥＤによりレジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、反射率の高い基板上でも定在波を発生することがなく、解像性能に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - A base station 1 radio-connected with a mobile station 3 through the incoming and outgoing lines is housed in a master station and the amplitude and the phase of the transmission signal or the reception signal of each of plural antenna elements are varied to generate a synthesized radiation pattern directivity with respect to a specific azimuth.
移動局３と上り及び下り回線で無線接続される基地局１が上位局に収容され、複数のアンテナエレメントのそれぞれの送信信号又は受信信号の振幅及び位相を変化させて特定方位に対する合成放射パターン（指向性）を生成する。 - 特許庁 - To provide a conductive laminate film which causes little interference pattern, shows excellence in transparency, contrast, visibility and durability, and gives excellent adhesion between a base material and a radiation curable resin, even when the base material is a norbornene-based resin, and to provide a touch panel.
本発明は、干渉縞の発生が少なく、透明性、コントラスト、視認性、及び、耐久性に優れ、ノルボルネン系樹脂からなる基材を用いても、該基材と放射線硬化性樹脂からなる層との間で優れた密着性を得ることのできる導電性積層フィルム、及びタッチパネルを提供する。 - 特許庁 - The increase in the parts count can previously be avoided, and the maximum gain angle of the directional pattern can freely be controlled without enlargement of the device itself by arbitrarily controlling the tilt angle θ in the device different from a conventional device where the radiation element 2 is held by an antenna seating and a bracket.
放射素子２をアンテナ台座やブラケットで保持する従来のものとは異なって、部品点数の増大を未然に回避できると共に、傾斜角度θを任意に制御することにより、装置自体が大型化することなく、指向性パターンの最大利得角度を自在に制御できる。 - 特許庁 - The optical module is provided with a main housing 110 capable of fixing an optical fiber 121, and a light emitting component 130 and a light receiving component 140 attached in the main housing 110, and a rugged pattern 111 for raising heat radiation is formed at least on a part of the surface of the main housing 110.
光ファイバー１２１を固定可能なメインハウジング１１０と、メインハウジング１１０に取り付けられた発光部品１３０及び受光部品１４０とを備え、メインハウジング１１０の少なくとも一部の表面には、放熱性を高めるための凹凸パターン１１１が形成されている。 - 特許庁 - To provide a chemically amplifying positive or negative radiation sensitive composition capable of stably forming a fine pattern excellent in machining performance in a small space, critical dimension uniformity, maintainability and stability as a resist, having small density dependence in high accuracy.
レジストとして、狭スペースの加工性能、多様なパターンデザインにおけるＣＤ均一性および保存安定性に優れ、粗密依存性が小さく、微細パターンを高精度で安定に形成することができる化学増幅型ポジ型またはネガ型の感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition capable of allowing formation of a photoresist film that has a little amount of an eluted substance in a liquid for immersion exposure, with which the film is brought into contact during immersion exposure, that shows a large receding contact angle with the liquid for immersion exposure, and gives a fine resist pattern with high accuracy.
液浸露光時に接触する液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、液浸露光用液体との後退接触角が大きい、微細なレジストパターンを高精度に形成することが可能なフォトレジスト膜を形成し得る感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition for a chemically amplifying resist having excellent sensitivity even at a low PEB (post exposure baking) temperature, highly balanced lithographic performances such as LWR (line width roughness) and DOF (depth of focus), and sufficient etching durability, and to provide a pattern forming method, a polymer and a compound of the composition.
ＰＥＢ温度が低温であっても、感度等に優れ、ＬＷＲ、ＤＯＦ等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。 - 特許庁 - The decorative sheet S comprising a polyolefinic resin and having an embossed pattern 4 formed by emoss processing is constituted by laminating an upper layer 2 comprising a crystalline polyolefinic resin and a surface protective layer 3 comprising cured matter of an ionizing radiation curable resin on a lower layer 1 comprising an olefinic thermoplastic elastomer.
ポリオレフィン系樹脂からなりエンボス加工による凹凸模様４を有する化粧シートＳを、オレフィン系熱可塑性エラストマーの下層１上に、結晶性ポリオレフィン系樹脂の上層２、及び、電離放射線硬化性樹脂の硬化物の表面保護層３が積層された構成とする。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern of a good shape by having an excellent resolution, sensitivity and LER, and an excellent scum suppressing property by containing a specific guanidine compound while suppressing a PEB temperature dependence, and provide a resist film formed using the composition and a pattern forming method using the composition.
特定のグアニジン化合物を含有することにより、スカム低減性に優れ、解像性が優れることにより良好な形状のパターンを形成することができ、感度、ＬＥＲにも優れ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - This imprinting method has a transfer process to press the roughened section of a mold structure against the resist layer to transfer the asperity pattern to the resist layer, and a surface modifying process to modify the surface by radiating either an ionizing radiation ray or a far-ultraviolet ray to the resist layer after forming the above asperity pattern to increase the carbon-carbon bonding density at least on the outermost surface of the resist layer.
モールド構造体の凹凸部をレジスト層に押し付けて該レジスト層に凹凸パターンを転写する転写工程と、前記凹凸パターン形成後のレジスト層に電離性放射線及び遠紫外光のいずれかを照射して、該レジスト層の少なくとも最表面部分の炭素−炭素結合密度を増加させて表面改質する表面改質工程とを含むインプリント方法である。 - 特許庁 - The lithography apparatus is provided with an array of individually controllable elements configured to modulate sub-beams of radiation and a data path that includes at least one data manipulation device arranged to at least partly convert data defining a requested pattern to a control signal suitable for controlling the array of individually controllable elements to form substantially the requested pattern on the substrate.
放射線のサブビームを変調するように構成された個々に制御可能な素子のアレイを備えたリソグラフィ装置において、個々に制御可能な素子のアレイを制御するのに適した信号を制御して基板上に要求されたパターンを実質的に形成するために要求されたパターンを定めるデータを少なくとも部分的に変換するようにアレンジされた少なくとも１つのデータ操作デバイスを備えたデータ経路も含む。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition which exhibits excellent uniformity in film thickness and has high radiation sensitivity even if a slit coating method is adopted as a coating method, and has such a development margin that a favorable pattern shape can be formed even if an optimal developing time has elapsed passed in a developing step, and an interlayer insulating film having various excellent performance such as high heat and solvent resistance, high transmittance and a low dielectric constant.
塗布方法としてスリット塗布法を採用した場合であっても、優れた膜厚均一性を示し、且つ高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成しうる現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率等の諸性能に優れる層間絶縁膜を提供すること。 - 特許庁 - A laser lithographic device 13, which irradiates a laser beam emitted from a laser light source 1, to draw a prescribed pattern is provided with a separating optical mechanism 2 for separating the laser beam, emitted from the laser light source, into a plurality separated beams and radiation position adjustment mechanisms 8 which are provided for the separated beams respectively and irradiate the separated beams, while changing their irradiation directions to draw the prescribed pattern.
レーザー光源１から発したレーザービームを照射して所定のパターンを描写するレーザー光による描写装置１３において、前記レーザー光源１から発したレーザービームを分離させて複数の分離ビームとする分散光学機構２と、前記各分離ビームごとに設けられ、各分離ビームの照射方向を変えて照射することにより前記所定のパターンを描写する照射位置調整機構８とを備えている。 - 特許庁 - To provide an electronic control device attaining universality without using a specific jumper conductor, and permitting to increase the current-carrying capacity of a printed wiring board, and the heat radiation performance and the current allowable value of a large-current-flowing printed board pattern part by using an inexpensive jumper lead wire.
特殊なジャンパ導体を用いることなく、汎用があり、かつ安価なジャンパーリード線を用いることで、プリント配線基板の通電容量を増大させるとともに、大電流が流れるプリント基板パターン部の放熱性能の拡大及び電流許容値を向上させることができる電子制御装置を提供する。 - 特許庁 - The semiconductor package is formed without mechanical work such as bending, and the lead terminal 16 is exposed above the resin-sealing body 22 for solder-joint to the wiring pattern of a mounting substrate, while a tip end part 28 of the die pad lead 22 is made to exposed for heat radiation.
半導体パッケージは、従来の方法では必要であった曲げ加工等の機械加工を必要とすることなく形成でき、実装基板の配線パターンとの半田接合のためにリード端子１６を、及び、放熱のためにダイパッドリード２２の先端部２８を、それぞれ、樹脂封止体２２から露出させている。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition used for forming an interlayer insulation film or the like of a semiconductor element and for forming a thick film pattern with irradiation of radiation or the like, has photosensitiveness, and enables a development without using a crosslinking agent, and to provide the semiconductor element using the photosensive composition.
例えば半導体素子の層間絶縁膜等を形成するのに用いられ、感光性を有し、架橋剤を用いることなく現象が可能であり、かつ放射線等の照射により厚みのある膜パターンを形成することが可能な感光性組成物及び該感光性組成物を用いてなる半導体素子を提供する。 - 特許庁 - On the integrated circuit mounted substrate 1 where the integrated circuit 4 is mounted and wires 8 and 9 electrically connected to the integrated circuit 4 are formed, a heat radiation pattern 14 for radiating heat generated by the integrated circuit 4 is arranged where the wires 8 and 9 are not formed.
集積回路４が搭載されるとともに集積回路４に電気的に接続される配線８，９が形成された集積回路搭載基板１において、前記基板３における前記配線８，９の非形成領域に、前記集積回路４の発する熱を放熱するための放熱パターン１４を配設する。 - 特許庁 - The lithograph projector comprises a mechanism for supplying a projection radiation beam, a structure supporting a member for patterning the projection beam according to a desired pattern, and a mechanism for projecting a patterned beam to a target part of a substrate.
投影放射線ビームを供給するための放射線機構；前記投影ビームを希望のパターンに従いパターン化する働きをするパターン化部材を支持するための支持構造体；基体を支持するための基体テーブル；及び基体の目標部分にパターン化されたビームを投影するための投影機構；を具えたリトグラフ投影装置。 - 特許庁 - A photosensitive composition containing a compound for generating an acid by irradiation with a beam of active light or a radiation, a specific basic compound having a polar group, a specific basic compound having no polar groups, and a specific surfactant, and a pattern forming method using the same are provided.
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、極性基を有する特定の塩基性化合物、極性基を有さない特定の塩基性化合物、及び、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - The positive photosensitive composition for the method for forming a thermal flow pattern contains (a) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation and (b) resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which decomposes by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developer.
（ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity while maintaining storage stability in a level suitable for practical use, and in particular, to provide a positive resist composition for electron beams, X-rays or EUV light, and a resist film formed of the composition and a pattern forming method using the composition.
保存安定性について実用レベルを損なうことなく、優れた感度を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、特には電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いてなるレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an active light sensitive or radiation sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the resin composition improved in line edge roughness, BLOB defects and generation of scum, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure.
ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and a good margin for light exposure in microfabrication particularly when KrF excimer laser, X-radiation, an electron beam or an ion beam is used.
半導体素子の微細加工における性能向上技術における課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好な露光量マージンの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative radiation-sensitive resin composition which can suppress indentation of a resist pattern and resist cracking by plating stress at a plating step and accurately form thick platings, even when descumming (O_2 plasma ashing) treatment is performed as pretreatment for plating, and which is excellent in resolution and adhesion.
メッキ前処理としてデスカム（Ｏ_2プラズマアッシング）処理を行っても、メッキ工程時のメッキ応力によるレジストパターンへの押し込みやレジストのクラックを抑制することができ、厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができるとともに、解像度および密着性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition undergoing a change in refractive index, which can realize a change in the refractive index of a material by a simple method, giving a sufficiently great difference in refractive index due to the change, and can give a refractive index pattern and an optical material that are stable independent of the service conditions thereafter.
材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、屈折率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition simultaneously satisfying sensibility, high resolution, a pattern profile, line edge roughness and dry etching resistance, particularly in lithography using an electron beam, an X-ray or EUV light as an exposure light source, as well as a resist film and a patterning method using the composition.
特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Besides, an under-communication table containing an azimuth for each adjacent radio station under radio communication with the other radio station is generated and on the basis of this table, a radio signal is transmitted by using an exclusive radiation pattern for turning a null point to the azimuth of the adjacent radio station under radio communication with the other radio station.
また、他の無線局と無線通信中である各隣接無線局毎の方位角を含む通信中テーブルを生成し、これに基づいて他の無線局と無線通信中である隣接無線局の方位角に対してヌル点を向ける排他的放射パターンを用いて無線信号を送信する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
