「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 次へ＞- To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, LWR and DOF, and having favorable sensitivity and PED stability; and to provide a resist film using the composition, and a pattern forming method.
ブリッジ前寸法等の解像力、ＬＷＲ及びＤＯＦに優れると共に、感度及びＰＥＤ安定性も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide an external mount microchip dual band antenna which can not only embody a satisfactory radiation pattern by obtaining a reflection loss and a standing wave radio suitable to communication equipment in a dual band but also is installed in various radio communication equipment in a miniaturized state by minimizing the size of an antenna.
デュアルバンドで通信機器に適合な反射損失及び定在波比を得て良好な輻射パターンが具現し得るばかりでなくアンテナのサイズを極小化して各種無線通信装備に小型で設置し得る外装形マイクロチップデュアルバンドアンテナを提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition achieving formation of a negative resist film that effectively responds to (extreme) far UV light of a KrF excimer laser, ArF excimer laser or the like, has excellent nano-edge roughness, sensitivity and resolution, and enables a fine pattern with high accuracy stably to be formed.
ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等の（極）遠紫外線等に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能なネガ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁 - An antenna (100) is connected to the analog front-end circuitry of a wireless communication device used for transmitting and/or receiving microwave signals and meets the FCC (Federal Communication Commission) requirements in terms of antenna gain, radiation pattern, polarization, frequency bandwidth, group delay, and size.
アンテナ（１００）は、マイクロ波信号の送信及び／又は受信を行う無線通信装置のアナログフロントエンド回路に接続され、アンテナ利得、放射パターン、偏波、周波数帯域幅、群遅延、サイズに関してＦＣＣ（連邦通信委員会:Federaｌ Communication Commission）条件を満たす。 - 特許庁 - A series inductance component is added locally, by partially forming a meander type pattern 4 in a maximum resonance current area Z of the higher mode (secondary mode) of a feeding radiation electrode 3, and consequently the electrical length per unit length is made longer than any other area.
給電放射電極３における高次モード（２次モード）の最大共振電流領域Ｚにミアンダ状のパターン４を部分的に形成して局所的に直列インダクタンス成分を付加し、これにより、単位長さ当たりの電気長を他の領域よりも長くする。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resist composition capable of forming a resist pattern high in resolution and good in sectional forms and high in transmittance of F2 laser beams and suitable for a lithographic process of forming ultra-fine resist patterns having ≤0.15 μm by using F2 laser beams.
高解像性で断面形状の良好なレジストパターンが形成可能であり、またＦ_2レーザーに対する透過性が高く、Ｆ_2レーザーを用いる０．１５μｍ以下の超微細レジストパターン形成のリソグラフィープロセスに有効な感放射線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a wireless communication unit which has an antenna portion that can obtain a stable radiation pattern regardless of whether a good high-frequency ground is obtained for a power supply section of a wireless unit and can make the outer appearance of an apparatus on which the antenna portion is mounted as small as possible.
無線ユニットの給電部の高周波アースの良否に拘わらず安定した放射パターンを得ることが可能なアンテナ部分を有し、且つアンテナ部分が搭載された機器の外形をできるだけ小さくすることが可能な無線通信ユニットを提供する。 - 特許庁 - To solve the problems of a performance-improving the technique for microfabrication of a semiconductor element or the like that uses ultraviolet radiation, excimer laser light, an electron beam or the like, and to provide a positive photosensitive composition, having high sensitivity and high resolution and satisfying a good pattern profile.
紫外線、エキシマレーザー光、電子線等を使用する半導体素子等の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度かつ高解像性、良好なパターン形状を満足するポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition which is excellent in storage stability, has high sensitivity, forms a pattern excellent in adhesion to a substrate and in chemical resistance, and suitable for forming a spacer or a protective film not inducing image persistence when used for a liquid crystal display element.
保存安定性に優れ、高感度であり、形成されるパターンの基板密着性および耐薬品性に優れ、液晶表示素子に使用したときに「焼き付き」を起こさないスペーサーまたは保護膜を形成するための感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.
良好なパターン形状を得ることが可能で、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a new radiation-sensitive composition for colored layer formation having high sensitivity, excellent in pattern profile and film retention even in low exposure energy, and providing pixels and a black matrix excellent in solvent resistance to various solvents and in adhesion to a substrate.
高感度で、低露光量でもパターン形状および残膜率が優れ、かつ各種溶剤に対する耐溶剤性、基板との密着性等にも優れた画素およびブラックマトリックスを与える新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - During such a process that a solder resist 4a is applied and tentatively hardened onto an insulated substrate 2 on which a conductor pattern 3 is formed and the solder resist 4a is exposed to ultraviolet radiation through an exposure mask film 5, ultraviolet light is selectively diffused to form a solder resist 4.
導体パターン３が形成された絶縁基板２上にソルダレジスト４ａを塗布、仮硬化し、露光用マスクフィルム５を介しソルダレジスト４ａを紫外線で露光する工程において、紫外光を選択的に拡散させてソルダレジスト４を形成する。 - 特許庁 - The light diffusing body is characterized in that, in a foamed sheet, pattern print is formed on at least either side of the foamed sheet provided with a light diffusing part involving bubbles foamed by the application of radiation energy and/or heat energy, by ink.
放射線エネルギーおよび／又は熱エネルギーの付与により発泡した気泡が内在する光拡散部を備える発泡シートにおいて、該発泡シートの少なくとも片面に、インキによりパターン印刷を形成していることを特徴とする光拡散体である。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition, sensitive particularly o far UV and charged particle beams, such as electron beam, having superior resolution and pattern shape and suitable particularly for use as a chemical amplification type resist which has small nano-edge roughness.
特に、遠紫外線や、電子線等の荷電粒子線に感応し、解像性能およびパターン形状が優れるとともに、特にナノエッジラフネスが小さい化学増幅型レジストとして好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - In an image forming method by reaction development which comprises exposing a photoresist layer masked with a desired pattern to ultraviolet radiation and scrubbing the layer with an alkali-containing solvent, the photoresist layer is composed of the polyester imide and a photoacid generator.
所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後この層をアルカリを含む溶剤で洗浄することから成る現像画像形成法において、該フォトレジスト層が上記ポリエステルイミドと光酸発生剤とから成る反応現像画像形成法。 - 特許庁 - To provide a positive radiation-sensitive polymer composition developable with an alkaline aqueous solution, having high sensitivity and high resolution, and capable of forming a pattern form thin film that is superior in flatness, heat resistance, solvent resistance and transparency.
アルカリ水溶液で現像でき、高感度、かつ高解像度の感放射線性重合体組成物であり、さらに平坦性、耐熱性、耐溶剤性、透明性に優れたパターン状薄膜を形成できるポジ型感放射線性重合体組成物を提供すること。 - 特許庁 - To simplify configuration and to realize a desired radiation pattern in an antenna device that branches a signal connected to an input-output terminal into a plurality of branch paths and supplies the signal to a plurality of radiating elements and to provide a designing method therefor.
入出力端子に接続された信号を複数の分岐路に分岐し複数の放射素子に供給するアンテナ装置について、その構成を単純化して所望の放射パターンを実現することができる装置およびその設計方法を提供する。 - 特許庁 - In the radiation detector using gas amplifier, a pixel has a first electrode pattern 212 formed on a first surface of an insulating member 211 and having a plurality of circular openings, and a second electrode pattern 213 formed on a second surface facing the first surface of the insulating member and having a protruding part 214 having a tip exposed to substantially the center of each opening of the first electrode pattern through the insulating member.
ガス増幅を利用する放射線検出器のピクセルは、絶縁部材２１１の第１の面上に形成されるとともに、円形状の複数の開口部を有する第１の電極パターン２１２と、前記絶縁部材の前記第１の面と相対向する第２の面上に形成されるとともに、前記絶縁部材を貫通し、前記第１の電極パターンの前記開口部の略中心部に先端が露出してなる凸状部２１４を有する第２の電極パターン２１３とを具える。 - 特許庁 - The exposure device is equipped with a lighting system for providing a projection radiation beam, a support structure which is equipped with a pattern and supports equipment functioning to impart a pattern to a section of the projection beam, a table for holding a target object, a projection system for projecting a patterned beam on the target object, and the tilt equipment for providing a tilted projection beam.
本発明は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、パターンを備えた、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能する機器を支持するための支持構造と、目標対象を保持するためのテーブルと、パターン化されたビームを目標対象に投射するための投影システムと、傾斜した投影ビームを提供するための傾斜機器とを備えた露光装置に関する。 - 特許庁 - The optical disk includes: a plurality of recording layers for recording or reproducing information; and the coma aberration correction pattern region which is formed near a surface on this side when viewed from a radiation direction of an optical beam from pickup recording or reproducing information on the recording layer and in which a periodical pattern for detecting the coma aberration amount of an optical simplex including the pickup is formed.
光ディスクは、情報を記録または再生するための複数の記録層と、該記録層に情報を記録または再生するピックアップからの光ビームの照射方向から見て手前側の表面近傍に形成されかつピックアップを含む光学系単体のコマ収差量を検出するための周期的なパターンが形成されたコマ収差補正用パターン領域と、を備える。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation, which avoids the occurrence of residues and scumming in development even in a high colorant concentration, excels in adhesion to a substrate even under low exposure energy, can form pixels and a black matrix having a high-definition excellent pattern profile, and so excels in latitude in developing time, etc., as to obtain a desirable pattern line width.
高着色剤濃度であっても現像時に残渣や地汚れを生じることなく、かつ低露光量でも基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成でき、さらに所望のパターン線幅を得ることができる現像時間等の余裕度に優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition useful as an excellent chemical amplification type resist which prevents a change of the line width of a resist pattern and the formation of T shape due to the time elapsed from exposure until heating after exposure [post-exposure delay(PED)], is not affected by a stationary wave due to reflection from a substrate and can be applied even in a very small pattern size.
露光後の加熱処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）により、レジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、且つ基板からの反射による定在波の影響も無く、超微細なパターンサイズにおいても適用可能となる優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a micro-antenna which not only operates in multiple resonance frequency bands of an AM/FM band, a terrestrial DMB band, a PCS band, and a Wibro band by a single pattern in which a radiation part is optimized to a Hilbert-type meander line, but also greatly reduces the external design and size of a radome by a pattern structure of the optimized antenna.
輻射部がヒルベルト型のメアンダーラインに最適化した単一パターンによって、ＡＭ／ＦＭ帯域、地上波ＤＭＢ帯域、ＰＣＳ帯域及びＷｉｂｒｏ帯域の多重共振周波数帯域で動作するだけでなく、最適化したアンテナのパターン構造によってレードームの外形的なデザインと大きさが大幅に減少した超小型アンテナを提供する。 - 特許庁 - A method of manufacturing this antenna is selected from a group, including tuning a central signal frequency, by installing a conductive or dielectric object at a desired tuner position in the vicinity of the antenna; tuning a radiation direction or a pattern, by installing a conductive reflector at a desired reflector position in the vicinity of the antenna; and correcting a bandwidth by selecting a conductive patch or object as a radiation/detection element.
アンテナ近傍の所望のチューナー位置に導電性または誘電性の物体を設置して中央信号周波数をチューニングすること、アンテナ近傍の所望の反射子位置に導電性の反射子を設置して放射方向またはパターンをチューニングすること、および放射／検出素子として導電性のパッチまたは物体を選択して帯域幅を修正することからなる群から選ばれるアンテナの製造方法。 - 特許庁 - In the pattern forming method, a coating film comprising a radiation-sensitive resin composition comprising an acid-dissociable group- containing polysiloxane which is made alkali-soluble when the acid-dissociable group is dissociated is formed on an underlayer film comprising a polymer having ≥80 wt.% carbon content and a weight average molecular weight (expressed in terms of polystyrene) of 500-100,000 and irradiation with radiation is carried out.
パターン形成方法は、炭素含量が８０重量％以上でポリスチレン換算重量平均分子量が５００〜１００，０００の重合体を含有する下層膜上に、その酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる酸解離性基含有ポリシロキサンを含有する感放射線性樹脂組成物からなる被膜を形成して、放射線を照射する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁 - Furthermore, it is not necessary to change the pattern form of the radiation conductor 2 and the jumper resistor 6 can be mounted or mounting position can be changed easily by manual work before mass-production or automatic mounting, similarly to the other circuit component at mass production, when controlling the resonance frequency.
また、放射導体２のパターン形状に変更を施す必要はなく、共振周波数調整時に、量産前では手作業により、また、量産時には他の回路部品と同様の自動実装により、ジャンパ抵抗６の実装や実装位置の変更が容易である。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition excellent in dry etching resistance, sensitivity, resolution, etc., as a chemical amplification type resist, capable of avoiding a change of the line width of a resist pattern due to a change of the time elapsed from exposure to post-exposure heating and having superior process stability.
化学増幅型レジストとして、ドライエッチング耐性、感度、解像度等に優れるとともに、露光から露光後の加熱処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変動を回避でき、優れたプロセス安定性を示す感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition capable of forming a chemically amplified resist film which effectively responds to electron beams or extreme ultraviolet rays and has excellent nano edge roughness, sensitivity, and resolution to stably produce a fine pattern with a high degree of accuracy, and to provide a polymer used therefor.
電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物及びそれに用いられる重合体を提供する。 - 特許庁 - An active device integrated integrally with the antenna device is inserted into a part of a signal line including a branch circuit reaching the plurality of radiating elements from one input-output terminal, and the insertion position or its effective gain is controlled/set, thereby realizing the desired radiation pattern.
一つの入出力端子から複数の放射素子にいたる分岐回路を含む信号通路の一部に、このアンテナ装置に一体的に集積化され能動素子を介挿し、その介挿位置およびまたはその実効利得を制御設定することにより所望の放射パターンを実現する。 - 特許庁 - This radiation-sensitive resin composition is used for forming a resist film for use in a resist pattern formation method including a liquid dipping exposure process using bicyclohexyl as a liquid for liquid dipping exposure, and the static contact angle of a formed resist film to the hydroxyl is 30-90°.
液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法で使用されるレジスト膜の形成に用いられ、形成されたレジスト膜の、ビシクロヘキシルに対する静的接触角が３０〜９０°である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁 - The respective Fresnel lenses 3 use a plurality of radiation directions inclined from the optical axis of the light emitting diode 1 as their optical axis directions and form a light distribution pattern F of desired illuminance on the irradiation surface, and are so arranged as to surround the light emitting diode 1 on the front side of the light emitting diode 1.
各フレネルレンズ３は、発光ダイオード１の光軸から傾いた複数の照射方向それぞれを光軸方向とし照射面へ所望の照度の配光パターンＦを形成するレンズであり、発光ダイオード１の前方側で発光ダイオード１を囲むように配置する。 - 特許庁 - Since the plurality of evaluation characteristics have sharpness and a direction of a screen angle, the number of lines of the dither is obtained by integrating an image after subjecting it to Fourier transformation of a binary pattern image, in the circumferential direction, and the direction of the screen angle of the dither by integrating it in a radiation direction.
複数の評価特性は鮮鋭性とスクリーン角の方向性であり、２値パターン画像のフーリエ変換後の画像を円周方向に積分することによりディザの持つ線数を求め、放射方向に積分することによりディザの持つスクリーン角の方向性を求める。 - 特許庁 - The positive type photosensitive composition for a thermal flow pattern forming system contains (a) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (b) a resin or a mixture which is decomposed by the action of the acid to increase it solubility in an alkali developing solution.
（ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｂ）酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂又は混合物、を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。 - 特許庁 - To provide an RFID tag manufacturing method for easily manufacturing a new RFID tag that has an excellent radiation pattern and simple structure, and can be installed on any of a conductive object and a non-conductive object without shortening a communication distance.
良好な放射パターンを有し、簡易な構造で通信距離を短縮することなく導電性物体や非導電性物体に関わらずに設置可能である新規なＲＦＩＤタグを容易に製造し得るＲＦＩＤタグの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - A formation method of pixel pattern includes steps of: (1) forming a coating film of a colored radiation-sensitive composition containing at least one type selected from the group consisting of a dye and a lake pigment, on a substrate and (2) exposing at least part of the coating film with ultraviolet LED.
（１）基板上に染料及びレーキ顔料よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する着色感放射線性組成物の塗膜を形成する工程、並びに（２）前記塗膜の少なくとも一部に紫外線ＬＥＤを用いて露光する工程を含む画素パターンの形成方法。 - 特許庁 - To provide a radiosensitive composition and a polymer for a semiconductor resist, having a high transparency for a radiation and being excellent in basic physical properties for a resist, such as sensitivity and resolution, as well as in EL, LWR and a minimum collapse size when forming a line pattern.
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際におけるＥＬ、ＬＷＲ、及び最小倒壊寸法に優れた感放射線性組成物及び半導体レジスト用重合体を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition for liquid immersion exposure superior in sensitivity and hence resolution, having a satisfactory pattern shape to be obtained, superior margin in focus depth, and a little amount of eluted substance into liquid immersion liquid that is brought into contact therewith during liquid immersion exposure.
感度が良好であることにより解像度に優れ、得られるパターン形状が良好であり、更に焦点深度余裕に優れ、かつ液浸露光時に接触した液浸露光用液体への溶出物量が少ない液浸露光用の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - A mushroom structure composed of: a plurality of conductor pieces; and a plurality of through-holes for connecting the respective conductor pieces to a ground conductor formed on the rear surface thereof, is formed on an antenna structure between the main antenna and the auxiliary antenna, so that a coupling amount from the main antenna to the auxiliary antenna is reduced and a radiation pattern of the auxiliary antenna is improved.
主アンテナと補助アンテナの間のアンテナ構体上に、複数の導体片と、それぞれの導体片と裏面の地導体を接続するスルーホールからなるマッシュルーム構造を形成することで、主アンテナから補助アンテナへの結合量を低減し、補助アンテナの放射パターンを改善する。 - 特許庁 - A decorative sheet S formed of a polyolefin resin and having a concave-convex pattern 4 formed by embossing comprises the lower layer 1 of an olefinic thermoelastomer and the upper layer 2 of a crystalline polyolefin resin and the surface protective layer 3 of a cured product of an ionizing radiation curable resin stacked on the lower layer 1.
ポリオレフィン系樹脂からなりエンボス加工による凹凸模様４を有する化粧シートＳを、オレフィン系熱可塑性エラストマーの下層１上に、結晶性ポリオレフィン系樹脂の上層２、及び、電離放射線硬化性樹脂の硬化物の表面保護層３が積層された構成とする。 - 特許庁 - To provide an excellent actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition suppressing development defect even in patterning by ordinary light exposure and immersion exposure, having a wide exposure latitude and suppressing line edge roughness, and a pattern-forming method to use the composition.
通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide such a radiation sensitive composition with a variable dielectric constant that the dielectric constant of the material can be varied by an easy method, the difference in the varied dielectric constant is sufficiently large, and a stable dielectric pattern or an optical material can be obtained without depending on the use conditions in the succeeding process.
材料の誘電率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した誘電率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な誘電率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、誘電率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁 - The substrate 4 has a circuit pattern 6a packaging circuits 7b provided on the installation surface to the dielectric 1 and has an outer radiation electrode 6b and an inner circuit grounded electrode 6a, which are connected in at least one position, provided on a surface opposite to the installation surface to the dielectric 1.
基板４は、誘電体１への設置面に、回路部品７ｂを実装する回路パターン部６ａ及び、誘電体１への設置面とは反対の面に、少なくとも一箇所で接続される外側の放射電極部６ｂと内側の回路接地電極部６ａとを備える。 - 特許庁 - The refractive index-variable composition comprising (A) a decomposable polymer, (B) a non-decomposable component containing an inorganic oxide particle and (C) a radiation-sensitive decomposing agent is irradiated with a radioactive ray and subsequently treated with (D) a stabilizer thereby to form a refractive index pattern and an optical material.
（Ａ）分解性重合体、（Ｂ）無機酸化物粒子を含有する非分解性成分および（Ｃ）感放射線分解剤を含有する屈折率変化性組成物に放射線を照射し、次いで（Ｄ）安定化剤で処理することによって、屈折率パターンや光学材料を形成する。 - 特許庁 - The printed board 1 where the surface-mounted semiconductor package 3 having a connection terminal part 3b for electric connection and a die pad part 3a for heat radiation arranged on its bottom surface is mounted is constituted by forming a bonding pattern layer 1a to which the die pad part 3a is bonded on a surface of the printed board 1.
電気的接続用の接続端子部３ｂと放熱用のダイパット部３ａとが底面に配設された表面実装型半導体パッケージ３を実装する印刷基板１を、該印刷基板１の表面に、ダイパット部３ａが接着される接着パターン層１ａを形成して構成する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive variable refractive index composition for an optical material so that the refractive index of the material can be varied by an easy method, the difference in the varied refractive indices is sufficiently large, and a stable refractive index pattern and optical material can be obtained without depending on the succeeding use conditions.
材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した屈折率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な屈折率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、屈折率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁 - In the plate making method for the photosensitive planographic printing plate, a photosensitive planographic printing plate material, having a radiation-sensitive photosensitive layer on the base is heated up to 80 to 150°C by using an electromagnetic induction heating system, during development processing, after the photosensitive planographic printing plate material has been exposed to an image pattern.
支持体上に放射線感応性の感光層を有する感光性平版印刷版材料を画像様に露光した後、現像処理する間に、電磁誘導加熱方式を用いて８０〜１５０℃に加熱することを特徴とする感光性平版印刷版の製版方法。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which maintains a sufficient transparency, solvent resistance and adhesion and is provided with a required resolving power and storage stability even when it is submitted to a high-temperature treatment after formation of a pattern of an inter-laminar insulating film or a microlens, and an interlaminar insulating film and a microlens prepared therefrom.
層間絶縁膜マイクロレンズパターンの形成後、高温処理を施しても、十分な透明性、耐溶剤性、密着性を維持し、かつ必要な解像度、保存安定性を具備した感放射線性樹脂組成物、およびそれから得られる層間絶縁膜、マイクロレンズを提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which is a material of a resist film capable of obtaining good pattern configuration, excellent in depth of focus, less liable to elute into an immersion liquid for liquid immersion lithography, such as water, having a large receding contact angle to the immersion liquid, and less liable to cause development defects.
良好なパターン形状を得ることが可能で、焦点深度に優れ、水等の液浸露光液に溶出し難く、液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The system is constructed in such a manner as to be provided with a phased array antenna 5 capable of forming a desired radiation pattern to receive the broadcasting from a satellite 4 which is located in the direction with the fewest rainfall attenuation among satellites 1, 2, 3 and 4 on different orbits and each having the same service area.
所望の放射パターンが形成可能なフェーズドアレーアンテナ５を具えて、別軌道上にあり同一サービスエリアを有する複数の衛星１，２，３，４のうち、降雨減衰が最も少なくなる方向に位置する衛星４からの電波を受信するように構成した。 - 特許庁 - In a step for forming a minute pattern 106 on a substrate 101, a photosensitive material 102 having etching resistance, ≤1/ μm absorption coefficient to radiation 104 of 200-10 nm wavelength and ≤15 MPa/μm residual stress in its film is used.
基体１０１上に微細パターン１０６を形成する工程において、エッチング耐性を有し、波長２００〜１０ｎｍの放射線１０４に対し吸収係数が１／μｍ以下であり、且つその膜中残留応力が１５ＭＰａ／μｍ以下である感光性材料１０２を用いる。 - 特許庁
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