「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 14 15 16 17 18 19 20 21 22 .... 26 27 次へ＞- By adopting the reflector 7 and using the lens 5 whose half value angle in the vertical direction is larger than that in the horizontal direction of a radiation pattern (light distribution pattern), the desirable communication angle is provided in terms of practical use and the communication distance is made longer.
反射板７の採用と、放射パターン（配光パターン）の水平方向の半値角よりも垂直方向の半値角が広い投光レンズ５を用いることで、実用上、好ましい通信角を備えるとともに通信距離も長いものを得たものである。 - 特許庁 - To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated space pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition for an ArF excimer laser which excels in basic physical properties as a resist, such as transparency, sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern profile, in particular, excels in solubility in a resist solvent, and reduces the roughness on a pattern side wall after development.
透明性、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減するＡｒＦエキシマレーザー用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having no coloring but high transmittance for visible light and easily forming a transparent hardened resin pattern of the objective feature, and to provide a transparent hardening resin pattern with high controlling property of the profile formed by using the above composition.
着色がなく可視光に対する高い透過率を有し、目的とする形状の透明硬化樹脂パターンを容易に形成できる感放射線性樹脂組成物と、それを用いて形成された、プロファイル制御性のよい透明硬化樹脂パターンを提供する。 - 特許庁 - Forming pattern conductor sections acting like a reception antenna on a printed circuit board and placing an inductor, a radio wave diode and a light emitting diode between the pattern conductor sections can realize the radio wave radiation display device with a low profile as a whole.
プリント基板上に受信アンテナとなるべき複数のパターン導体部を形成すると共に、当該複数のパターン導体部間にインダクタ、電波ダイオード及び発光ダイオードを配設し、これにより全体として薄型形状の電波発射表示装置を実現できる。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition for forming a colored layer free of remaining of undissolved matter and generation of scum on a pattern edge in developing, causing neither chip nor undercut of a pattern edge even under small exposure energy, and giving pixels and a black matrix.
現像時に未溶解物が残存したり、パターンエッジにスカムを生じたりすることがなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがない画素およびブラックマトリックスを与える着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - The recording region has a data region pattern 58 and a plurality of servo region patterns 60 which are formed in an almost circular arc radiation type extended respectively from the center hole side of the substrate to the outer peripheral edge part and which divide the data region pattern into a plurality of regions in the peripheral direction.
記録領域は、データ領域パターン５８と、それぞれ基板の中央孔側から外周縁部まで延びたほぼ円弧放射状に形成され、データ領域パターンを基板の周方向に複数に分断した複数のサーボ領域パターン６０と、を有している。 - 特許庁 - To provide a titanium black dispersion composition for forming a light-shielding film, which has high dispersibility of titanium black and high storage stability; and a radiation-sensitive composition having good flatness due to reduced residue in pattern formation leading to no generation of roughness on the top face of the pattern.
チタンブラックの分散性が高く、保存安定性の高い遮光膜形成用のチタンブラック分散組成物、および、パターン形成したときに、残渣が抑制され、パターン上面の荒れが発生せず平坦性の良好な感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a heat conduction plate high in radiation and conduction and high in earth connection reliability by electrically connecting an earth pattern and a radiation plate at the arbitrary position of the insulation layer inside of the heat conduction board, its manufacturing method and a power module enabling miniaturization and high density.
熱伝導基板の絶縁層内部の任意の位置で接地パターンと放熱板を電気的に接続することにより、放熱性や導電性が高く、アース接続信頼性が高い熱伝導基板とその製造方法及び小型高密度化が可能なパワーモジュールを提供する。 - 特許庁 - To efficiently perform shading correction with respect to a target region when image quality is evaluated and operated using a radiation image acquired by photographing a phantom, which has an image quality evaluating pattern, by a radiation image sensor to enhance the evaluation precision of image quality.
画質評価用パターンが形成されたファントムを放射線画像検出器により撮影して得られた放射線画像を用いて画質評価演算を行うとき、画質評価演算を行う対象領域に対してシェーディング補正を効率的に行うとともに、画質評価の精度を向上させる。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having such a development margin as to form a good pattern profile even in a developing time exceeding the optimum developing time in a developing step, and capable of easily forming a patterned thin film excellent in adhesion.
高い放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent basic properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having such a development margin that even if developing time exceeds the optimum time in a development step, a good pattern profile can be formed, and capable of easily forming a patterned thin film excellent in adhesion.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition for a color liquid crystal display capable of keeping effective intensity of radiation on a sufficient level in the whole region of a coating film from the top to the bottom and capable of forming a pattern having high hardness in the whole region and an excellent shape.
塗膜の上部から底部までの全領域において放射線の有効強度を十分なレベルに保つことができて、形成されたパターンが該全領域において高い硬度を有し、優れた形状のパターンを形成しうるカラー液晶表示装置用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition that has high radiation-sensitivity, has a developing margin capable of forming a superior pattern shape, even if exceeding the optimum developing time in a developing process and that can easily form a patterned thin film that is superior in adhesiveness.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide reliable and excellent equipment and method for radiation imaging by correcting fixed pattern noise components occurring in a device when fluoroscopic photographing is performed and suppressing the increase of random noise occurring from a radiation detection means or a reading means with the correction.
透視撮影を行うに際して、当該装置内で発生する固定パターンノイズ成分を補正し、且つその補正に伴い、放射線検出手段や読み出し手段から発生するランダムノイズの増加を抑制して、信頼性の高い優れた放射線撮像装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a chemically amplified negative resist film, which composition is effectively sensitive to EB (electron beam) or EUV (extreme ultraviolet radiation) and excellent in roughness, etching resistance, and sensitivity and which composition stably forms a highly precise fine pattern.
ＥＢ（電子線）又はＥＵＶ（極紫外線）に有効に感応し、ラフネス、エッチング耐性、及び感度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成することのできる化学増幅型のネガ型レジスト膜を成膜可能な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To obtain positive type and negative type radiation sensitive resin compositions each sensitive to not only short-wavelength radiation such as far UV but also ordinary UV, having high sensitivity and high resolution, capable of forming a rectangular resist pattern and excellent in shelf stability even in the presence of a basic compound.
遠紫外線の如き短波長放射線のみならず、通常の紫外線にも感応し、高感度、高解像度で、矩形のレジストパターンを形成することができ、かつ塩基性化合物の存在下でも保存安定性に優れたポジ型およびネガ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition which can suppress contamination of a baking furnace, a photomask, and the like, due to sublimation of a radiation-sensitive polymerization initiator component, will not generates foreign substances in a developer, also excels in developability and pattern profile, and is used for forming a colored layer of a color filter.
感放射線性重合開始剤成分の昇華による焼成炉やフォトマスク等の汚染を抑制でき、かつ液中異物を生じることがなく、しかも現像性、パターン形状等にも優れた、カラーフィルタの着色層の形成に用いられる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist satisfying excellent resolution, small LWR (Line Width Roughness), excellent pattern collapse resistance and excellent in non-defectiveness, and to provide a polymer usable as a resin component in the radiation-sensitive resin composition.
解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物およびこの感放射線性樹脂組成物に樹脂成分として使用できる重合体を提供する。 - 特許庁 - To provide a non-directional broadcast antenna unit which reduces variations among frequencies of a non-directional radiation pattern by arranging a plurality of multiple combined antennas in which different radio frequencies are allocated to a cylindrical surface of the same center and combining radiation patterns from respective multiple combined antennas.
同一中心の円筒面上に異なる電波周波数が割り当てられた複数の多面合成アンテナを配列し、各多面合成アンテナからの放射パターンを合成して無指向放射パターンの周波数間の偏差を小さくする、無指向性の放送アンテナ装置を提供することにある。 - 特許庁 - Accordingly, the switching element 6 to be operated by hard switching control and the pattern connected to the substrate are suppressed from the emission of radiation noise by the shield effects due to the heat sink 18, enabling prevention of noise imparted to the control circuit part of the substrate and of increase in the emitted radiation noise.
これによって、特に、ハードスイッチング制御で動作するスイッチング素子６とその基板に接続されるパターンはヒートシンク１８によるシールド効果によってノイズの放射が抑制され、同基板の制御回路部に与えるノイズや、放射される輻射ノイズの増大を防止できる。 - 特許庁 - The radiation sensitive resin composition can form a resist film to be used in a resist pattern forming method including a liquid immersion exposure step using bicyclohexyl as the liquid immersion exposure liquid, wherein the refractive index of the resist film to radiation having a wavelength of 193 nm is 1.64 to 1.75.
液浸露光用液体としてビシクロヘキシルを用いた液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト膜を形成することができ、レジスト膜の、波長１９３ｎｍの放射線に対する屈折率が１．６４〜１．７５である感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified positive radiation-sensitive resin composition that is superior in roughness, etching resistance, sensitivity and resolution, capable of stably forming a fine pattern with high accuracy, and suitable for use as a resin composition for EB or EUV, effectively sensitive to an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.
ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、電子線または極紫外線に有効に感応するＥＢ、ＥＵＶ用として好適な化学増幅型ポジ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - A one side radiation antenna has such a structure where a conductor surface for interruption is an electrically insulated conductor surface, a dielectric layer is arranged thereon, an antenna pattern is arranged on the conductor surface for radiation, and a conductor of half wavelength is provided in front of the antenna pattern, and further has a dielectric layer and an electrically grounded conductor surface below the conductor surface for interruption.
遮断用導体面を電気的に絶縁された導体面とし、その上部に、誘電体層と、放射用導体面に、アンテナパターンを配し、その前方に半波長の導体を設けた構造を特徴とし、さらに遮断用導体面の下部に誘電体層及び電気的に接地された導体面を有していることを特徴とする片面放射アンテナである。 - 特許庁 - In a decorative material 1 wherein a color layer 3 and a pattern layer 4 are provided on a base material 2 and a surface protective layer 7 is formed from an ionizing radiation curable resin composition, a uniform coating film layer 5 wherein a curable resin is crosslinked and cured and a pattern 6 high in the permeability of the ionizing radiation curable resin composition are interposed under the surface protective layer 7.
基材２上に着色層３、模様層４を有し、表面保護層７が電離放射線硬化性樹脂組成物で形成してある化粧材１に、表面保護層７の下に、硬化性樹脂が架橋硬化した一様均一な塗膜層５と、電離放射線硬化性樹脂組成物の浸透性がより高い模様６とを介在させることにより、課題を解決することができた。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which reduces generation of development defects and scum and can form a pattern excellent in followability to immersion liquid during liquid immersion exposure, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film formed from the composition, and a pattern formation method using the composition.
現像欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、および該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of pattern formation that is improved in the pattern collapse, line edge roughness and scum occurrence, being free from any profile deterioration, and that exhibits appropriate following properties for the liquid for liquid immersion at the stage of liquid immersion exposure, while improving performance of reducing bubble defects, and to provide a method of forming a pattern with the use of the composition.
現像欠陥、ラインウィズスラフネス、スカムの発生が抑制され、パターン形状に優れたパターンを形成することが可能で、更に液浸露光時の液浸液に対する追随性が良好であり、バブル欠陥抑制の諸性能も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for forming a color layer, which forms a fine pattern without causing chipping in a pattern edge or undercut even when the luminous energy of exposure is low, without generating an undissolved substance remaining during development or scum on a pattern edge, and forms a color filter with high color purity and a black matrix having high light-shielding property.
低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、且つ現像時に未溶解物が残存したりパターンエッジにスカムを生じたりすることなく微細パターンの形成が可能であり、色純度の高いカラーフィルタおよび遮光性の高いブラックマトリックスを形成しうる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity and resolution, having a small light proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern even in an isolated line pattern, capable of ensuring a sufficient focus margin for the isolated line pattern and useful as a positive type or negative type chemical amplification type resist.
感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、ポジ型あるいはネガ型の化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - A lighting system that forms radiation beams, a pattern generator that performs patterning of the beams, a projection system that performs patterning of the flexible substrate by projecting the pattern beams to a target part of the flexible substrate, and a motion system that controls the motion of the flexible substrate are provided, and the target part of the flexible substrate remains still almost without extending even during the period of exposure by the pattern beams.
放射ビームを形成する照明系と、ビームをパターニングするパターンジェネレータと、フレキシブル基板の目標部分にパターンビームを投影してフレキシブル基板をパターニングする投影系と、フレキシブル基板の運動を制御する運動系とが設けられており、フレキシブル基板の目標部分はパターンビームによる露光中にもほとんど延伸せずにとどまる。 - 特許庁 - To provide a negative type radiation sensitive resin composition for a chemical amplification type negative type resist applicable to an alkali developing solution of ordinary concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern with respect to an ordinary line-and-space pattern, free of resist pattern defects (bridging and chipping) after development and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.
通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、現像後にレジストパターン欠陥(橋架け(ブリッジング)、欠け）がなく、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れる化学増幅型ネガ型レジストのためのネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - The invention relates to: a photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; and a pattern forming method using a photosensitive composition containing a compound capable of generating a specific sulfonic acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.
活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物、活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物及び活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - An information reproducing device having a light radiation means for reproduction, a light radiation means for label display and a window for label display and reproducing a data region formed by changing atomic arrangement of a recording layer and/or rugged surface by light irradiation, has a function to associate a light radiation pattern on the label region of an information recording medium with data output of the information recording medium.
再生用光照射手段とラベル表示用光照射手段、ラベル表示用窓を有する、光照射により記録層の原子配列が変化及び／又は凹凸によりして形成されたデータ領域の再生を行う情報再生装置であって、情報記録媒体のラベル領域への光照射パターンを情報記録媒体のデータ出力に連動させる機能を有する。 - 特許庁 - A refractive index pattern is formed by irradiating the composition with radiation through a pattern mask and subjecting the composition to heat treatment to polymerize the polymerizable compound (A) and to confine the fugitive compound (D) with crosslinking in the exposed area and to decompose the fugitive compound (D) in the unexposed area.
この組成物にパターンマスクを介して放射線を照射した後、加熱処理して露光部の重合性化合物（Ｂ）を重合せしめ逃散性化合物（Ｄ）を架橋により閉じ込め且つ未露光部の逃散性化合物（Ｄ）を分解させることにより屈折率パターンを形成することができる。 - 特許庁 - To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude.
通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To solve a problem of not obtaining a diversity effect since the radiation pattern of a chip antenna becomes the same pattern as that of the other antenna, in the case of making the chip antenna positioned at the terminal part of a mounting substrate along with the miniaturization of radio equipment to mount the antenna device of a diversity system.
ダイバーシチ方式のアンテナ装置において、これを実装する無線装置の小型化に伴いチップアンテナが検討されているが、その放射パターンが取り付け基板の端部に配置した場合、他方のアンテナの放射パターンと同バターンとなりダイバーシチ効果を得ることが出来ない。 - 特許庁 - The lithographic apparatus comprises an array of individually controllable elements that modulate a beam of radiation, a compressed-pattern memory that stores a compressed representation of a requested dose pattern to be formed on a substrate by the modulated beam, and a dictionary decompressor that at least partially decompresses the compressed representation.
リソグラフィ装置は、放射ビーム変調用の個々に制御可能な素子アレイと、変調されたビームにより基板上に形成される要求照射パターンの圧縮表現を蓄積する圧縮パターン・メモリと、圧縮表現を少なくとも部分的に解凍する辞書解凍器とを含む。 - 特許庁 - To provide a positive type radiation sensitive resin composition, forming a favorable resist pattern when resist formed on a substrate by coating is exposed, heated and developed, and also restraining the occurrence of cracks when the substrate where the resist pattern is formed is plated.
基板上に塗布して形成されるレジストを露光、加熱処理、現像すると良好なレジストパターンを形成でき、かつ、該レジストパターンが形成された基板にめっき処理を行うときクラックの発生を抑制することができるポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To obtain a radiation-curing paste composition for baking capable of increasing the aspect ratio of a pattern to be formed and shortening the pattern-forming process and provide a structure using the same in a method for forming inorganic structures such as insulators, dielectrics and the likes by printing or transcription.
印刷や転写法による絶縁体、誘電体などの無機構造体の形成方法において、形成するパターンのアスペクト比の向上、およびパターン形成工程の短縮が可能となる焼成用放射線硬化ペースト組成物とそれを用いた構造体の提供。 - 特許庁 - To provide a new radiation-sensitive composition for colored layer formation which exhibits excellent developability even when a high colorant concentration, generates neither development residue nor scum on a pattern edge in development, excels in linearity of a pattern, and gives ultrafine pixels and a black matrix.
着色剤濃度が高い場合でも優れた現像性を示し、現像時に現像残渣やパターンエッジのスカム等を生じることがなく、パターンの直線性に優れており、高微細な画素およびブラックマトリックスを与える新規な着色層形成用感放射線性組成物等を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition suitable not only to a normal dry process but also to an immersion process for a line width of 45 nm or less and improved in the DOF, pattern collapse and iso/dense bias, and to provide a resist film and a pattern forming method each using the composition.
通常のドライプロセスに加え、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した、ＤＯＦ、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that is satisfactory with respect to high sensitivity, high resolution of a dense pattern and an isolated line, sufficient exposure latitude, proper line width roughness, proper bridge margin and high resolution of isolated space, and to provide a method for forming a pattern using the composition.
高感度、密集パターンおよび孤立ラインの高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、良好なブリッジマージン、孤立スペースの高解像性を同時に満足する感活性光線または感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which resolves on a vertical sidewall in forming a contact hole pattern, ensures enhanced EDW, improves side lobe resistance, and reduced the number of Blob defects, as well as a resist film and a pattern formation method using the composition.
コンタクトホールパターン形成時に垂直な側壁にて解像し、広いＥＤＷを確保でき、サイドローブ耐性が良化し、かつＢｌｏｂ欠陥数が低減した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, exposure dependence, resolution, roughness characteristics, and focus latitude, which reduces scum, and which forms a pattern with an adequate shape, and to provide a resist film and a pattern forming method using the same.
感度、露光量依存性、解像力、ラフネス特性、及びフォーカス余裕度に優れ、スカムを低減し、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that can sufficiently reduce development defects in manufacturing semiconductors, particularly, in the formation of a contact hole pattern, and exhibits the superior depth of a focus (DOF), and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.
半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method using a radiation sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, etc., and in suitability to coating particularly on a substrate of an increased diameter by a spin coating method and excellent also in shelf stability, capable of stable microfabrication and capable of giving a good pattern shape.
感放射線性樹脂組成物が感度、解像度等に優れ、特に大口径化された基板へのスピンコート法による塗布性に優れ、かつ保存安定性に優れており、微細加工を安定的に行うことができ、良好なパターン形状を与えることができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition excellent in transparency to radiation and dry etching resistance and capable of forming a resist pattern excellent in resolution, sensitivity, flatness and heat resistance, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device with a fine pattern having a high degree of integration using the resist composition.
放射線に対する透明性、ドライエッチング耐性に優れ、解像度、感度、平坦性、耐熱性に優れるレジストパターンを形成できるレジスト組成物、ならびに、該レジスト組成物を用いる微細で集積度の高いパターンを持つ半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁 - By irradiating the composition with radiation through a pattern mask, the above component (C) and the component (A) in the irradiated part are decomposed to produce a difference in the refractive index between the irradiated part and the non- irradiated part to form a pattern having different refractive indices.
この組成物にパターンマスクを介して放射線を照射することにより、放射線照射部の上記（Ｃ）成分および（Ａ）成分が分解し、放射線照射部と放射線未照射部との間に屈折率の差を生じ、屈折率が異なるパターンが形成される。 - 特許庁
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