「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 10 11 12 13 14 15 16 17 18 .... 26 27 次へ＞- The receiving characteristic of the antenna is improved by suppressing the reception of reflected/dispersed signals by turning the maximum direction of the radiation pattern of the on-vehicle antenna device installed on the windshield of the vehicle to the front direction of the vehicle and turning the minimum direction of the radiation pattern to the rear direction of the vehicle.
車輌のガラスに設置される車載アンテナ装置の放射パターンの最大方向を車輌の前方方向に向け、放射パターンの最小方向を車輌の後方方向へ向けることにより、車室内で反射・散乱された信号の受信を抑圧し、アンテナの受信特性を向上できる車載アンテナ装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which achieves high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and suppression of outgassing, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film and a pattern formation method using the same.
高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及びアウトガスの低減を同時に達成可能とするポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition which has high radiation sensitivity and development margin to form a favorable pattern even when the process time exceeds the optimum developing time in a developing process, and with which a pattern thin film having excellent adhesiveness can be easily formed, and to provide an interlayer insulating film of electronic parts and microlens.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物、電子部品の層間絶縁膜およびマイクロレンズの提供。 - 特許庁 - A road side base station in the inter-road-vehicle radio communication system is provided with an antenna system with a 1st radiation pattern for the consecutive communication service and a 2nd radiation pattern for a spot communication service, with a 1st radio communication unit conducting the consecutive communication service and with a 2nd radio communication unit conducting the spot communication service.
路車間無線通信システムにおいて、道路側基地局は、連続通信サービスを行う第１放射パターンとスポット通信サービスを行う第２放射パターンを有するアンテナ装置と、連続通信サービスを行う第１無線通信装置と、スポット通信サービスを行う第２無線通信装置を備える。 - 特許庁 - The light transmission device 20 for acquisition and tracking of light is provided with a radiation optical system with a laser light source 22 and the light transmission device 20 with a pattern light forming part which provides the laser light emitted from the laser light source 22 with a radiation pattern whose central position can be specified from at least a part of it.
光の捕捉追尾用の送光装置２０において、レーザ光源２２を備える放射光学系と、該レーザ光源２２から発せられたレーザ光に、その少なくとも一部分から中心位置を特定可能な放射パターンを付与するパターン光形成部とを備える送光装置２０を提供する。 - 特許庁 - A first radiation conductor 123 formed on the first side of a substrate 110 is formed vertically to a ground surface at the farthest position from a third edge line 220c of the ground pattern in an antenna mount region 211, thus minimizing an influence to the first radiation conductor from the ground pattern 220.
基体１１０の第１の側面に形成された第１の放射導体１２３は、アンテナ実装領域２１１内において、グランドパターンの第３のエッジライン２２０ｃから最も離れた位置においてグランド面と垂直に形成されていることから、グランドパターン２２０が第１の放射導体に与える影響が最小限に抑えられる。 - 特許庁 - To provide a negative type radiation-sensitive composition that forms an interlayer insulating film of low relative dielectric constant and forms a good pattern of a few standing waves even on a ground substrate of high reflexibility of a reflectance of 1.0% or higher, and to provide a curing pattern and a forming method of the pattern.
比誘電率の低い層間絶縁膜の形成が可能であり、反射率１．０％以上の高反射性の下地基板上においても、定在波の少ない良好なパターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、硬化パターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition which can provide a pattern having improved uniformity of coating film thickness and excellent size uniformity in the wafer surface on which the pattern has been formed by liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the composition.
塗布膜厚の均一性が改善され、且つ、液浸露光により形成されたパターンのウエハー面内における寸法均一性に優れるパターンを提供可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - The three-dimensional conductive molding 1 includes a molding 8 with a conductive pattern layer 6 or the conductive pattern layer 6 and an insulating pattern layer 7 formed thereon, and a resin binder 33 of the layer(s) is formed of a postcure type of an ionizing radiation curing resin including conductive nanofiber 3.
立体形状導電性成形品１は、成形体８上に導電パターン層６あるいは導電パターン層６と絶縁パターン層７とが形成され、それらの層の樹脂バインダー３３が後硬化タイプの電離放射線硬化性樹脂からなり、導電性ナノファイバー３を含んでいる。 - 特許庁 - To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition useful to form a fine pattern in semiconductor manufacturing and remarkably reducing pattern collapse, development defects, liquid immersion defects (residual water defects, bubble defects) and scum, and a pattern forming method using the same.
半導体製造における微細なパターン形成に有用な、パターン倒れ、現像欠陥、液浸欠陥（水残り欠陥、バブル欠陥）、スカムを著しく低減できる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The electromagnetic shielding material 5 has a thin line shield pattern 4 of a lattice, stripe, honeycomb pattern, geometric pattern, or the like, consisting of a conductive metal film 2 and a print film 3 of ionizing radiation curing ink dispersed with black pigment formed sequentially on the surface of a transparent basic material 1.
電磁波シールド材５は透明基材１の表面に導電性金属膜２と黒色顔料が分散された電離放射線硬化型インキの印刷皮膜３の２層からなる、格子、ストライプ、ハニカム模様、幾何学模様等の細線からなるシールドパターン４を備える。 - 特許庁 - Heat generated from the semiconductor chip 3 is radiated from the collector side copper circuit pattern 1 on the back of the chip, and also the heat transmits on each path of the forked lead frame 7 to the first emitter side copper circuit pattern 5a and the second emitter side copper circuit pattern 5b for radiation of heat.
半導体チップ３から発生する熱は、チップ裏面のコレクタ側銅回路パターン１から放熱されるとともに、２股状のリードフレーム７のそれぞれの経路を伝わって、第１のエミッタ側銅回路パターン５ａおよび第２のエミッタ側銅回路パターン５ｂに運ばれ、放熱される。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板上のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁 - A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁 - The pattern forming method is characterized in that a thin film of 20 to 150 nm in film thickness consisting of a radiation-sensitive resin composition which comprises (A) an alkali-insoluble or alkali-hardly soluble resin having specified repetitive units and (B) a radiation-sensitive acid producing agent which produces acids by irradiation with radiation is formed on a substrate and then irradiated with radiation to perform development.
（Ａ）特定の繰り返し単位とを有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂、並びに（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物からなる膜厚２０〜１５０ｎｍの薄膜を基板上に形成し、放射線を照射し、現像することを特徴とする、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - A lithographic apparatus includes a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate on a central area; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target part of the substrate in a first direction.
リソグラフィ装置は、放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するようサポートと、基板をその中央領域上に保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを第１の方向で基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁 - A specific identifiable heat pattern is heated and transferred by laser radiation to a remote target, the heat pattern is treated for identification by imaging by infrared ray, and information on identification of heat pattern is transmitted to the missile in initial setting or during flying and the missile is guided to the remote target based on the information on identification of heat pattern.
遠隔の目標に対しレーザ照射により固有の識別可能な熱パターンを加熱転写し、この熱パターンを赤外線撮像して識別処理し、この熱パターン識別情報を飛しょう体に初期設定あるいは飛しょう中に伝達し、飛しょう体を熱パターン識別情報に基づいて遠隔の目標に誘導させる。 - 特許庁 - To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, an excellent pattern shape and excellent line edge roughness, and a resist film and pattern forming method using the resin composition.
高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which avoids remaining of undissolved matter and scumming on a pattern edge in development and provides a colored layer free from chipping of a pattern edge and undercut even under low exposure energy.
現像時に未溶解物の残存やパターンエッジのスカムの生成がなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けやアンダーカットを生じない着色層を与える着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To obtain a resin composition having high transparency for radiation rays, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, a pattern shape and the like, and reduced in line edge roughness of the pattern after development.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れるとともに、現像後のパターンのラインエッジラフネスを低減する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enable formation of a pattern which is superior in the depth of focus (DOF) and in roughness characteristics and having few bridge defects and few chips.
フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びラフネス特性に優れ且つブリッジ欠陥及び欠けの少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, roughness properties and temporal stability and enables to form a pattern of good configuration, and to provide a pattern forming method using the same.
感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, roughness characteristics and aging stability and enables formation of a pattern of a good shape, and to provide a pattern forming method using the same.
感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has good line width roughness (LWR) performance and forms a pattern with suppressed application defects, and to provide a pattern forming method using the same.
ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能が良好であり、且つ塗布欠陥が抑制されたパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method and a resist film using the same, which form a pattern satisfying high sensitivity, high resolution and favorable line width roughness at the same time.
高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネスを同時に満足するパターンを形成することが可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法並びにレジスト膜の提供。 - 特許庁 - To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having good properties of PEBS (post exposure bake sensitivity), MEEF (mask error enhancement factor), coverage dependence and bridge defects, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.
ＰＥＢＳ、ＭＥＥＦ、被覆率依存性、ブリッジ欠陥のいずれもが良好なパターンを形成することが可能な感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a noise countermeasure structure that suppresses unwanted radiation noise by reducing impedance of a substrate and further preventing a high-frequency current from being generated by electromagnetic coupling between a power source pattern and a power source supply pattern.
基板のインピーダンスを低減させ、しかも、電源パターンと電源供給パターン間の電磁気的結合による高周波電流の発生を防止することにより、不要放射ノイズを抑制したノイズ対策構造を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern preparing method by which even a pattern with an irregular part of a fine shape or a complicated shape can be molded precisely and rapidly without the inclusion of air bubbles in an ionizing radiation-cured resin.
凹凸部分が微細形状あるいは複雑な形状を有している場合でも、電離放射線硬化樹脂に気泡が混入されることが少なく、精密かつ高速に成形することが可能なパターン作製方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition for a resist film, which can suppress generation of bridge defects and scum, has an excellent LWR (line width roughness) performance and allows formation of a favorable fine pattern, and to provide a pattern forming method using the composition.
ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつＬＷＲ性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - Frame covers 20, 22 to cover an illuminating lamp 14 are used, and a reflecting surface sheet 10 with a hologram pattern is disposed in it, so that light with the hologram pattern which is reflected by the radiation of the illuminating lamp is appreciated on the opposite side.
照明灯１４を囲うフレームカバー２０，２２を使用し、その内部にホログラム模様の付いた反射面シート１０を配置させ、その照明灯の照射により反射したホログラム模様光が対向側で観賞されるようにする。 - 特許庁 - This member 5A abuts the plate 33A and the ground pattern G of a motherboard M, and suppresses the radiation of electromagnetic waves generated in the CPU 3 by electrically connecting the plate 33A to the ground pattern G.
この電磁波放射抑制部材５Ａは、熱拡散板３３Ａ及びマザーボードＭのグランドパターンＧの双方に当接し、これらを電気的に接続することにより、ＣＰＵ３で発生する電磁波の放射を抑制するものである。 - 特許庁 - This lithography device is provided with a supporting structure configured to hold a phase shift mask configured so that any unpolarized radiation beam can be pattern-formed according to a desired pattern and a substrate table configured to hold a substrate.
リソグラフィ装置は、所望のパターンに従って非偏光放射のビームをパターン形成するように構成された位相シフト・マスクを保持するように構成された支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルとを備えている。 - 特許庁 - To provide an acrylic polymer which is suitable for a radiation-sensitive resin composition which has high transparency to radiation and excels in the basic properties (e.g. sensitivity, resolution, dry etching resistance, and pattern shape) as a resist and particularly excels in contact hole formation.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、コンタクトホール形成に優れる感放射線性樹脂組成物に適したアクリル系重合体を提供する。 - 特許庁 - To provide an inter-layer insulating film and a radiation-sensitive resin composition suitable for forming a microlens, which have a high radiation-sensitive sensitivity and an excellent development margin, and with which a pattern thin film with excellent adhesion with a ground can be easily formed.
高い感放射線感度と優れた現像マージンを有しそして下地との密着性にも優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成に好適な、感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - Heat generated from the radiation part of the transistor (drain terminal D3 or D4) during operation is conducted and absorbed to the radiation part of the transistor during non-operation through the insulator of the substrate 44 and a copper foil pattern PT well.
そのため、動作中のトランジスタの放熱部（ドレイン端子Ｄ３又はＤ４）から発生した熱は、基板４４の絶縁体及び銅箔パターンＰＴを介して、非動作中のトランジスタの放熱部に良好に伝導し、吸収させることができる。 - 特許庁 - To provide a positive type radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in resolution, sensitivity, pattern shape, etc., causing no development defect in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.
放射線に対する透明性が高く、しかも解像度、感度、パターン形状等に優れるとともに、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうるポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The VHD band radiation element 115 and the UHF band radiation element 116 have a meandering shape comprising at least one folding pattern respectively and are disposed such that the folding directions of the respective meandering shapes are orthogonal to each other.
ＶＨＦ帯域放射素子１１５及びＵＨＦ帯域放射素子１１６は、それぞれ少なくとも１回の折り返しパターンからなるメアンダ形状を有しており、それぞれのメアンダ形状の折り返し方向が互いに直交するように配置される。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a short-wavelength radiation typified by far UV, excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and ensuring few development defects.
遠紫外線に代表される短波長の放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に現像欠陥が少ない感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system for supplying a beam of radiation, a patterning system serving unit to impart the beam of radiation with a pattern in its cross-section, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射線ビームを供給する照明系、放射線ビーム断面にパターンを与えるパターン付与装置、基板を支持する基板テーブル、およびパターン形成されたビームを基板の目標部分に投影する投影系を含む。 - 特許庁 - The exposure is controlled at least partially on the basis of a relative contrast loss to the spectra of a radiation source and a projected pattern or at least partially on the basis of the average absolute detuning of the radiation source.
本発明によれば、放射線源のスペクトルに対する相対コントラスト・ロスおよび投影されるパターンに少なくとも部分的に基づいて、あるいは放射線源の平均絶対離調に少なくとも部分的に基づいて露光制御が行われる。 - 特許庁 - A correction pattern 10 for a series inductance component is formed in maximum resonance current areas of the basic mode and higher mode on the current paths of the feeding radiation electrode 3 and the parasitic radiation electrode 4.
給電放射電極３、無給電放射電極４のそれぞれの電流経路上における基本モードと高次モードの各最大共振電流領域Ｗ、Ｘ、Ｙ、Ｚにそれぞれ直列インダクタンス成分の修正用パターン１０を形成する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemically amplified resist having high transparency to a radiation, capable of solving the problem of trade-off particularly of resolution and exposure margin, and excellent also in dry etching resistance and a pattern shape.
放射線に対する透明性が高く、特に解像度と露光余裕とのトレードオフの問題を解決でき、しかもドライエッチング耐性、パターン形状等にも優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition ensuring good resolution and a good section shape of a pattern and suitable for use as a positive type resist having a good margin for exposure.
良好な解像度、パターン断面形状が得られるとともに、露光マージンが良好なポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - Further, the printing pattern information and the radiation information are collected to a management computer (PC0) to share these pieces of information by inspection offices in a baggage departure place, a transit place and an arrival place.
また、印刷パターン情報と放射線情報を管理コンピュータ（ＰＣ０）に集約して、荷物の出発地、乗継地、到着地の検査場で共有する。 - 特許庁 - To provide a surface-mounted antenna which is easily manufactured, can obtain an excellent radiation characteristic and a wide pattern area, and is adaptable to a plurality of bands.
表面実装型アンテナにおいて、作製が容易であると共に、良好な放射特性と広いパターン面積とを得ることができ、さらには複数のバンドに対応すること。 - 特許庁 - The shape of the optical surface is analyzed based on an interference fringe pattern resulting from interference between the shaped wavefront mapped by the optical surface and the second beam of radiation.
光学表面の形状は、光学表面によってマッピングされた成形波面と第二放射ビームとの干渉によって生じる干渉縞パターンに基づいて解析される。 - 特許庁 - Generally, since a metal conductive pattern is put on the surface of the printed circuit board 19, heat radiation can be certainly facilitated from the board 19.
一般に、プリント基板１９の表面には金属製の導電配線パターンが張り巡らされることから、プリント基板１９からの放熱は確実に促進されることができる。 - 特許庁 - To provide a system and method for generating unpolarized radiation beam for substantially reducing variation in critical dimension in the pattern formed on a substrate.
基板上に形成されるパターンのクリティカルディメンジョンのばらつきを実質的に低減するために非偏光放射ビームを生成するシステム及び方法を提供する。 - 特許庁 - Here, the anisotropic pattern light 14 has intensity that controls the orientation direction of the nanowires while making radiation pressure acting on the nanowires in the nanowire solution as driving force.
ここで、異方性パターン光１４は、ナノワイヤ溶液中のナノワイヤに働く放射圧を駆動力としてナノワイヤの配向方向が制御されるような強度を持つ。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition excellent particularly in pattern shape as a chemical amplification type resist and excellent also in balance of characteristics including sensitivity and resolution.
化学増幅型レジストとして、特にパターン形状に優れ、かつ感度、解像度等を含めた特性バランスにも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
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