To provide a radiation-sensitive resin composition which is a chemically amplified resist excellent in sensitivity and resolution, reducing ΔCD, and capable of retaining a good pattern shape. 感度、解像度に優れ、ΔCDが小さくなり、さらにはパターン形状を良好に維持することが可能な化学増幅型レジストを提供する。 - 特許庁
To provide an antenna device capable of compensating deterioration in radiationpattern performance by detecting deformation even if the antenna device is deformed. アンテナ装置が変形した場合であっても、その変形を検知して放射パターン性能の劣化を補償することが可能なアンテナ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a chemical amplification type resist composition giving a resist pattern having excellent transparency to radiation, dry etching properties, sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc. 放射線に対する透明性、ドライエッチング性、感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れるレジストパターンを与える化学増幅型レジスト組成物の提供。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive positive resin composition excellent in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution to stably form a high-precision fine pattern. ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The release sheet with the emboss pattern has a paper base (40), an ionizing radiation curable resin layer (20) and a thermosetting silicone layer, laminated in this order. 紙基材と、電離放射線硬化樹脂層と、熱硬化シリコーン層とがこの順に積層され、かつエンボスを有する、エンボス付き離型紙である。 - 特許庁
To avoid dropping the gain of an antenna assembly having broadband antenna characteristics over a wide angle of its radiationpattern, thus obtaining a wide width of beam over a wide band. 広帯域のアンテナ特性をもつアンテナ装置において、放射パターンの広角での利得の落ち込みを防止し、広帯域に亘って広いビーム幅を得る。 - 特許庁
A system comprising an illumination system for supplying a radiation beam, an array of individually controllable elements for forming a pattern to the beam, and a projection system are disclosed. 放射ビームを供給する照明システムと、ビームにパターンを形成する個別に制御可能なエレメントのアレイと、投影システムとを有するシステムである。 - 特許庁
To provide a pattern defect inspection apparatus and an inspection method having enhanced pixel resolution and high defect detection performance, by excluding the noise due to radiation. 画素分解能を高め、また、放射線によるノイズを排除することで、欠陥検出能力の高いパターン欠陥検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁
This ensures that the loop antenna 14a and the bar antenna 14b are slightly magnetic-field-coupled and that an electric field intensity pattern of the radiation antenna 14 is approximately nondirectional. これにより、ループアンテナ14aとバーアンテナ14bとが若干磁界結合するようになり、輻射アンテナ14の電界強度パターンはほぼ無指向性となる。 - 特許庁
To provide a slot array antenna having a required frequency bandwidth for the antenna so that a main beam of a directional radiationpattern is perpendicular to the radiating plane of the antenna. スロットアレーアンテナに必要な周波数の帯域幅をもたせると、放射指向性の主ビームがアンテナの放射面に垂直になるようなスロットアレーアンテナ - 特許庁
To provide a pattern forming resist having high sensitivity to UV and ionizing radiation and also having high resolution. 本発明の目的は、紫外線、電離放射線に対して高感度でかつ高解像性を有するパターン形成用レジストを提供しようとするものである。 - 特許庁
The radiationpattern of the antenna becomes to possess directivity, since the electric field in the coaxial line 11 is disturbed when only one of four switches 14 is turned on. 4つのスイッチ14のうち一つだけスイッチONした場合は同軸線路11内の電界が乱され、アンテナの放射パターンは指向性を持つようになる。 - 特許庁
The parallel radiation electrode pattern 3 is formed into a loop shape, by using the greater part of the region 201a and constitutes an inductor L for the parallel resonance circuit 2. 並列放射電極パターン3は、非グランド領域201aの大半を使ってループ状に形成され、並列共振回路2のインダクタ部Lを構成する。 - 特許庁
Light emitted from the light source passes through the glass body having a natural stone-like geometrical pattern, which results in radiation of soft light and produces a unique atmosphere. 光源から出た光は自然石風の幾何学模様を有するガラス体を透過して柔らかい光を発散し、独特の雰囲気が演出される。 - 特許庁
A control device adjusts an intensity of the radiation beam so as to compensate an influence which the measured relative vibration has on the pattern projected onto the substrate. 制御装置は、測定された相対的振動が基板上に投影されるパターンに及ぼす影響を補償するよう前記放射ビームのパワーを調整する。 - 特許庁
To provide an antenna device which has an omnidirectional horizontal radiationpattern and can set the direction of a main beam to a desired direction in a vertical plane. 水平面指向性が無指向性であり、かつ垂直面では主ビームの方向を所望の方向に設定することが可能なアンテナ装置を提供する。 - 特許庁
To provide the radiation sensitive composition high in sensitivity and good in storage stability and capable of forming a resist pattern good in form. 感度、解像力が良好で、レジストパターンの表面荒れが小さく、良好な形状のレジストパターンを形成しうる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide lithography equipment in which a patterned radiation beam is projected on a substrate from a pattern-forming device by using a projection system. 投影系を用いてパターン形成装置から基板上にパターン化された放射線ビームを投影するように構成されたリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition satisfying demands for a wide exposure latitude, favorable pattern features and excellent dry etching durability, and allowing formation of a pattern having fewer defects after development. 広い露光ラテテュード、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for forming a pattern excellent in sensitivity, resolution and roughness characteristics and having a good shape, and to provide a method for forming a pattern using the composition. 感度、解像度及びラフネス特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, roughness property, pattern configuration, temporal stability and outgassing property, and to provide a pattern forming method using the composition. 感度、解像性、ラフネス特性、パターン形状、経時安定性及びアウトガス特性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition exhibiting enhanced resolution, roughness characteristic, pattern configuration and outgassing performance without detriment to sensitivity, and to provide a method of forming a pattern using the composition. 感度を損なうことなく、解像性、ラフネス特性、パターン形状及びアウトガス特性を改良した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, roughness properties, pattern shape, temporal stability and outgassing properties, and to provide a method of forming a pattern using the composition. 感度、解像性、ラフネス特性、パターン形状、経時安定性及びアウトガス特性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition which has excellent resolution and I-D bias and which allows a pattern of a favorable shape to be formed, and to provide a method of forming a pattern using the composition. 解像力及び疎密特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure, a cured pattern forming method and a cured pattern which are suitably used in a liquid immersion exposure process for exposing a resist film via a liquid for liquid immersion exposure such as water. 水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition excellent in resolution, line edge roughness and etching resistance, and excellent in sensitivity and a pattern profile; and to provide a pattern forming method using the composition. 解像度、ラインエッジラフネスおよびエッチング耐性に優れ、かつ感度及びパターン形状に優れる感活性光線性または感放射線性組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which improves a pattern shape and exposure latitude and reduces bridge defects, and a pattern forming method using the same. パターン形状及び露光ラチチュード(Exposure Latitude)の改善とブリッジ欠陥の低減との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which improves exposure latitude, depth of focus and pattern shape and to suppress standing waves, and a pattern forming method using the same. 露光ラチチュード、フォーカス余裕度及びパターン形状の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
A rectangular tubular ground pattern 15 is formed with a conductive wiring pattern around the radiation detection element 5 and amplifying circuit 6 fixed to the upper surface of a signal processing circuit board 3. 信号処理回路基板3の上面に、当該上面に固定された放射線検出素子5及び増幅回路6の周囲に長方形の管状にグランドパターン15を導電性の配線パターンにて形成する。 - 特許庁
The skin is irradiated with ultrasonic waves, and the pattern of the radiation pressure on the surface or the pattern of the strength of the ultrasonic waves reaching to the tactile accepter inside the skin is controlled so that the various tactile senses can be presented. 超音波を皮膚に照射し、その表面の放射圧のパターン、あるいは皮膚内部の触覚受容器へ到達する超音波の強度のパターンを制御することによって多様な触感を呈示する。 - 特許庁
To provide a colored radiation-sensitive composition which can allow formation of a colored cured film having a uniform hue where color density unevenness is suppressed and which has good developability in coloring pattern formation and excellent pattern forming properties. 色濃度ムラが抑制された均一な色相の着色硬化膜を形成しうる、着色パターン形成時の現像性が良好でパターン形成性に優れた着色感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
When a base material 2, a colored layer 3 and a pattern layer 4 are successively laminated and a surface protective layer 7 is formed on the pattern layer by using an ionizing radiation curable resin compsn., a cured uniform coating film layer 5 and a negative pattern 6 lower in permeability or a liquid repelling positive pattern having a property repelling paint are interposed between the pattern layer and the surface protective layer. 基材2、着色層3、および模様層4を順に積層した上に、電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて表面保護層7を形成する際に、間に、硬化した一様均一な塗膜層5と、その上に、浸透性がより低いネガパターン6または塗料をはじく性質のある撥液性ポジパターンを介在させることにより、課題を解決することができた。 - 特許庁
To provide a new uncolored radiation sensitive resin composition having a high transmittance to visible light, capable of easily forming a cured resin pattern of an objective shape because of a wide range of proper development condition, and capable of forming a cured resin pattern excellent in chemical resistance because the composition has a crosslinkable group, and to provide a cured resin pattern formed using the radiation sensitive resin composition. 着色がなく可視光に対する高い透過率を有し、適正な現像条件の範囲が広いので、目的とする形状の硬化樹脂パターンを容易に形成でき、さらに架橋基を有するので耐薬品性に優れた硬化樹脂パターンが形成できる新たな感放射線性樹脂組成物と、それを用いて形成された、硬化樹脂パターンを提供する。 - 特許庁
At this time, a releasing sheet 6 which is hard to stick on the resin film 2 and a heat radiation member 7 is previously provided between the one-surface conductor pattern films 1 and the heat radiation member 7 as a removal part of the multilayer substrate 8 in a bonding process. この際、積層工程において、多層基板8の除去部となる片面導体パターンフィルム1と放熱部材7との間に、予め樹脂フィルム2及び放熱部材7に対して難着性を示す離型シート6を設けた。 - 特許庁
For a direct radiation type phased array antenna 1, only the amplitude of a radiationpattern at a certain measurement distance is measured for two or more cases that phase distribution of the opening are arbitrarily varied from the initial state and initial value. 直接放射型フェーズドアレーアンテナにおいて開口の位相分布を初期状態及び初期値から任意に変化させた2種類以上の場合について、一定の測定距離での放射パターンの振幅のみを測定する。 - 特許庁
To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition which has high sensitivity and high definition to radiation including electron beams, is free of swelling and has high resolution and a pattern forming method using the same. 電子ビームを含む放射線に対して高い感度、高い解像度を有する膨潤のない解像性能の優れた化学増幅型感放射線レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation and having such a development margin that desirable pattern configuration is formed even when the optimum development time is exceeded in the development step. 放射線に対する高い感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation, excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution and pattern shape, and useful particularly as a chemically amplified resist excellent in focus latitude. 放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、特にフォーカス余裕に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition having good resolution performance and being excellent particularly in property of uniformly forming a resist pattern and in mask reproducibility, and to provide a polymer suitably used in the radiation-sensitive resin composition. 良好な解像性能を有し、特に、レジストパターンの均一形成性及びマスク再現性にすぐれた感放射線性樹脂組成物及びその感放射線性樹脂組成物に好適に用いられる重合体を提供する。 - 特許庁
To obtain a photopolymer composition containing a polyimide precursor having ethylenic double bonds reactive to an actinic radiation such as an ultraviolet radiation in side chains, being developable with an aqueous alkali solution, and having negative pattern forming properties. 紫外線などの活性光線に反応可能なエチレン性不飽和二重結合を側鎖にもつポリイミド前駆体であり、アルカリ水溶液にて現像が可能なネガ型パターン形成能を有する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition suitable as a resist having sensitivity with respect to far ultraviolet rays, represented by active radiation (for example, ArF excimer laser, EUV, electron beam, and so forth), a substrate with resist film, and a pattern forming method. 活性放射線(例えば、ArFエキシマレーザー、EUV、電子線等)に代表される遠紫外線に感応するレジストとして好適な感放射線性樹脂組成物及びレジスト被膜付き基板並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
In a radio receiver provided in a vehicle 50, an array antenna 100 has a first radiationpattern having a beam direction substantially in a going direction of the vehicle 50 and a second radiationpattern having a beam direction substantially in a direction opposite to the going direction 51 of the vehicle 50. 車両50に設けられた無線受信装置において、アレーアンテナ100は、車両50の進行方向51に対して実質的にビーム方向を有する第1の放射パターンと、車両50の進行方向51の逆方向に対して実質的にビーム方向を有する第2の放射パターンとを有する。 - 特許庁
To provide a (meth)acrylic polymer high in transparency to radiation, excellent in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern form, etc. especially excellent in the solubility to a resist solvent, and suitable for a radiation-sensitive resin compound which reduces the roughness on a pattern sidewall after developing. 放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減する感放射線性樹脂組成物に適した(メタ)アクリル系重合体を提供する。 - 特許庁
This negative type radiation sensitive resin composition solution is suitable for use as a resist which is not swellable with a developing solution, excellent in developability, pattern shape, focus latitude, heat resistance, pattern faithfulness, lithographic process stability, etc., having high sensitivity and high resolution and adaptable to various radiation sources. 本発明によれば、現像液による膨潤がなく、現像性、パターン形状、フォーカス許容性、耐熱性、パターン忠実度、リソグラフィープロセス安定性などに優れ、高感度かつ高解像度で様々な放射線源に対応できるレジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物溶液を得ることができる。 - 特許庁
To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition which is high in sensitivity and excellent in LER, exposure latitude and pattern shape, and to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive film and a method for forming a pattern using the same. 高感度であること、LERが良好であること、露光ラチチュードが良好であること、及びパターン形状が良好であることを同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The lithographic projection apparatus comprises a radiation system for providing a projection beam of radiation having a wavelength λ_1 smaller than 50 nm, a support structure for supporting the patterning means that serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate. 50nm未満の波長λ_1を有する放射線の投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁
The lithographic apparatus is comprised of a radiation system for providing a projection beam of radiation, a first support structure for supporting patterning means which serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a second support structure for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate. リソグラフィ機器は、放射投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターン化手段を支持する第1支持構造と、基板を支持する第2支持構造と、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影する投影システムとを備える。 - 特許庁
To provide a (meth)acrylic polymer high in transparency to radiation, excellent in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern form, etc. especially excellent in the solubility to a resist solvent, and suitable for a radiation-sensitive resin compound which reduces the roughness on a pattern side wall after developing. 放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減する感放射線性樹脂組成物に適した(メタ)アクリル系重合体を提供する。 - 特許庁
To ensure electrical connection reliability of an electronic component to be mounted on a bus bar while ensuring heat radiation of a portion where the bus bar is fixed, by employing solder connection having high heat radiation for connection between copper foil pattern and the bus bar, in a circuit material in which the bus bar is fixed on the copper foil pattern to increase a permissible current. 銅箔パターンにバスバーを固着して許容電流を増加させている回路材において、銅箔パターンとバスバーとの接続を放熱性が高い半田接続とすることで、バスバー固着部分の放熱性を確保しながら、バスバーに実装する電子部品の電気接続信頼性を確保する。 - 特許庁
The IC package 10 includes an IC chip 11, a metal heat radiation plate 17 thermally connecting with the IC chip 11 and the case 40, a ground terminal 15 electrically connecting with the ground pattern 33 and the IC chip 11, and a bypass terminal 16 electrically connecting with the ground pattern 33 and the heat radiation plate 17. ICパッケージ10は、ICチップ11と、ICチップ11とケース40とに熱的に接続された金属製の放熱板17と、グランド用パターン33とICチップ11とに電気的に接続されたグランド端子15と、グランド用パターン33と放熱板17とに電気的に接続された迂回端子16とを備える。 - 特許庁