「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 .... 26 27 次へ＞- To provide a horn antenna which presents superior performance, by indicating a superior radiation pattern over wider operating frequency bands.
より広い動作周波数帯域において良好な放射パターンを示し、優れた性能を発揮するホーンアンテナを提供する。 - 特許庁 - Thus, it is possible to adjust the resonance frequency or radiation pattern of the conductor 3, according to the use frequency of the device 100.
当該装置１００の使用周波数に応じて導電体３の共振周波数や放射パターンを調整できる。 - 特許庁 - To accurately regulate a focus of a light beam radiated from a light beam radiation device, thereby performing pattern drawing with high accuracy.
光ビーム照射装置から照射される光ビームの焦点を精度良く調節して、パターンの描画を精度良く行う。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition capable of accurately forming a pattern having excellent resolution and a desired shape.
解像度に優れており、且つ所望形状のパターンを精度良く形成することのできる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a small-sized loop antenna which is formed in a conductor pattern of a printed circuit board and has a radiation characteristic uniform in all directions.
プリント基板の導体パターンで形成され、全方向に均等な放射特性を有する小型ループアンテナを提供する。 - 特許庁 - A radiation-sensitive composition and a method for using the composition to reduce the probability of pattern collapse are provided.
パターンのつぶれの確率を低減するための放射に敏感な組成物及び組成物を使用するための方法は、提供される。 - 特許庁 - POSITIVE ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
ポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁 - To adjust the resonance frequency or radiation pattern of this antenna device, and to facilitate coping to a plurality of frequencies.
当該装置の共振周波数や放射パターンを調整できるようにすると共に、複数の周波数に対応できるようする。 - 特許庁 - To provide a planar antenna that optimizes an H plane radiation pattern and has a scanning function with high performance with a simple configuration.
Ｈ面放射パターンを適性化でき、走査機能を有する高性能な平面アンテナを簡単な構成で提供すること。 - 特許庁 - Additionally, the semiconductor laser 21 is connected to a ground side where wiring pattern area is large, and heat radiation in high-output operation is accelerated.
また、配線パターン面積が大きいグランド側に半導体レーザ２１を接続して、高出力動作時の放熱を促進する。 - 特許庁 - In one example, the patterning device is used to pattern the beam of radiation, which patterned beam is projected onto an object.
パターニング用デバイスは、放射ビームにパターンを付与するのに用いられ、パターンが付与された放射ビームは対象物に投影される。 - 特許庁 - The apparatus for projecting a pattern on a substrate 30 from a mask 10 has a radiation source 2 and a projection optical system 12.
マスク１０からパターンを基板３０上に投影するための装置は、放射線源２と、投影光学系１２と有する。 - 特許庁 - The first electrode pattern 112 is connected to one end of a second radiation electrode 126 on the back surface through through-holes 120a.
第１電極パターン１１２は、スルーホール１２０ａを介して裏面の第２放射電極１２６の一端と接続される。 - 特許庁 - To provide a pattern forming material excellent in resolution and mask coverage dependency and useful in microfabrication using an electron beam or far-ultraviolet radiation.
解像性とマスク被覆率依存性に優れ電子線や遠紫外線を用いた微細加工に有用なパターン形成材料。 - 特許庁 - To provide a transmitting antenna assembly for broadcasting, capable of transmitting two or more broadcast waves in different horizontal planar radiation pattern.
２つ以上の放送波を各々異なる水平面放射パターンで送信できる放送用送信アンテナ装置を提供する。 - 特許庁 - This is the far infrared radiation heater substrate 4 comprised that a pattern layer 2 composed of a metal heating resistor is baked on a crystallized glass 1.
結晶化ガラス１に，金属抵抗発熱体からなるパターン層２を焼き付けてなる遠赤外線ヒーター基板４である。 - 特許庁 - To improve probability for obtaining a radiation image without Moire pattern by a grid nor inconspicuous.
グリッドによるモアレがない又は目立たない放射線画像を取得する蓋然性又は確率を高めることができるようにする。 - 特許庁 - Thus, it is possible to suppress reception of disturbance radio waves by a radiation strength distribution pattern, by which the null point 5 is directed to the disturbance radio wave.
このヌル点５が妨害電波の方向に向くような放射強度分布パターンにより、妨害電波の受信を抑制する。 - 特許庁 - The fine conductive pattern can be formed, the package is miniaturized, the mounting area is reduced and heat radiation characteristics can be improved.
微細な導電パターンの形成が可能となり、パッケージの小型化および実装面積を低減し放熱特性も向上できる。 - 特許庁 - COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, FORMATION METHOD OF PATTERN, COLOR FILTER AND MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER, AND SOLID STATE IMAGE SENSOR
着色感放射線性組成物、パターンの形成方法、カラーフィルタ及びそのカラーフィルタの製造方法、並びに、固体撮像素子 - 特許庁 - An auxiliary array provides a wider beam aperture capable of defining a null in the radiation pattern of the main array to be narrower.
補助アレーは、主アレーの放射パターンの中のナルをより狭く規定することが可能なより広いビーム・アパーチャを提供する。 - 特許庁 - To provide an antenna device for improving deterioration of a radiation pattern in the horizontal direction of proximately located plural planar antennas.
近接配置された複数個の平面アンテナの水平方向の放射パターンの劣化を改善するアンテナ装置を提供する。 - 特許庁 - This method for producing the neural circuit by controlling the neurite extension of neuron comprises varying a light radiation pattern.
光照射パターンを可変することにより、神経細胞の神経突起伸展を制御して神経回路を作製する方法 - 特許庁 - A dipole antenna 21 is provided on the center axis 13, thus forming a vertical polarization radiation pattern 24 in a horizontal surface.
中心軸１３上にダイポールアンテナ２１が配され、これにより水平面内で垂直偏波放射パターン２４が形成される。 - 特許庁 - The reflected radiation forms an interference pattern in the resist layer of the projected aerial image through the resist layer thickness.
反射された放射は、レジスト層の中に、レジスト層の厚さを貫いて、投影された空中像の干渉パターンを形成する。 - 特許庁 - In the optical element transfer foil, at least the film-like base material, a release layer formed by curing a first radiation cured resin, and a relief pattern layer formed by curing a second radiation cured resin are laminated in this order, and wavelength of radiation which hardens the first radiation cured resin is shorter than wavelength of radiation which hardens the second radiation cured layer.
少なくとも、フィルム状の基材と、第一の放射線硬化型樹脂を硬化させた離型層と、第二の放射線硬化型樹脂を硬化させたレリーフパターン層がこの順に積層された光学素子転写箔であって、前記第一の放射線硬化型樹脂を硬化させた放射線の波長が、前記第二の放射線硬化型樹脂を硬化させた放射線の波長より短いことを特徴とする光学素子転写箔。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition with which a pattern having an excellent exposure latitude (EL) and a good pattern profile and line edge roughness (LER) can be formed, and to provide a active ray-sensitive or radiation-sensitive film formed by using the composition and a method for forming a pattern using the composition.
露光ラチチュード（ＥＬ）に優れ、パターン形状及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が良好なパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、及び該組成物を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - Further, a heat radiation acceleration pattern which has such wide that it is not imaged by exposure can be formed on the surface on the opposite side from the surface of the glass substrate 1 where the shading film pattern 5a is formed.
さらに、ガラス基板１の遮光膜パターン５ａの形成面と反対側の面に露光によって結像しない幅を有する放熱促進パターンを備えることができる。 - 特許庁 - To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of striking a balance between excellent pattern configuration and excellent roughness properties; and to provide a pattern forming method using the same.
優れたパターン形状と優れたラフネス特性とを両立させ得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray or radiation-sensitive resin composition with an improved pattern profile and improved line edge roughness, which is excellent in storage stability, and a pattern forming method using it.
パターンプロファイルやラインエッジラフネスを改善し、さらに保存安定性の良い感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition forming a resist pattern which is prevented from top loss and pattern collapse and has good squareness and sufficient LWR suppressing performance.
トップロスを抑制して矩形性が良好であり、ＬＷＲ抑制能も満足し、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - In a print process carried out by lithography, a substrate moves in the direction of scanning relatively to a radiation beam with a pattern projected on the substrate, in exposure for scanning a pattern feature.
リソグラフィによるプリントプロセスにおいて、パターンフィーチャのスキャン露光中に、基板上に投影されているパターン付き放射ビームに対して相対的に、基板がスキャン方向において移動される。 - 特許庁 - Mutually opposing parts of the wiring pattern and the heat radiation pattern 15 have uneven forms and disposed such that the uneven forms are engaged with each other via a gap 16.
配線パターンおよび放熱パターン１５が互いに対向する部分の形状はともに凹凸形状を有し、互いの凹凸形状が間隙１６を介して噛み合うように配置されている。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition which does not cause pattern sidewall swelling, pattern collapse, etc., in a development process, and to provide a (meth)acrylic acid polymer usable in the composition.
現像工程におけるパターン側壁の膨潤およびパターン倒れなどがない感放射線性樹脂組成物およびこの組成物に用いることができる（メタ）アクリル酸系重合体の提供。 - 特許庁 - Alternatively, the two layers above the inner pictorial pattern layer 2 are substituted with a lustrous recoatable ionizing radiation-curable resin layer 3B containing the filler F and a partially formed matted pictorial pattern layer 4B respectively.
或いは、内部絵柄層上の２層分については、フィラーを含有し艶有りのリコート性電離放射線硬化性樹脂層３Ｂ、部分的に形成された艶消し絵柄層４Ｂとする。 - 特許庁 - In the method for manufacturing the biochip, a pattern obtained from the radiation-sensitive composition is formed on a substrate surface by a lithography method, and the pattern is used as reforming domain.
本発明のバイオチップの製造方法は、リソグラフィー法により基板の表面に感放射線性組成物から得られるパターンを形成し、該パターンを改質領域とすることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high planarization performance and high sensitivity in combination in an application of a transparent curing resin pattern and having high productivity of the transparent curing resin pattern.
透明硬化樹脂パターン用途において高い平坦化性能や高い感度等を兼ね備え、透明硬化樹脂パターンの生産性の高い感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - In the parallel resonance circuit 2, a surface-mounted type antenna 4 is connected in parallel with a parallel radiation electrode pattern 3, formed in a pattern in the region 201a.
並列共振回路２は、非グランド領域２０１ａ内にパターン形成された並列放射電極パターン３に、表面実装型アンテナ部品４を並列に接続したものである。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an effect of improving the circularity of a pattern and allowing formation of a pattern with a good focus latitude, and to provide a pattern forming method using the composition.
パターンの真円性改善に効果が有り、フォーカス余裕度が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a resist composition excellent in the profile of an isolated pattern and hardly producing contaminations on the resist pattern surface in the process of forming a pattern by irradiation of active rays or radiation, in particular, electron beams, X-rays or EUV light.
活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光の照射によるパターン形成に関して、孤立パターンプロファイルに優れ、レジストパターン表面上に異物が発生し難いレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, from which a pattern excellent in a pattern profile, roughness performance and over exposure margin can be formed, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.
パターン形状、ラフネス性能、及び、オーバー露光マージンに優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - In the lithographic equipment, in which each of an individually controllable elements provides a pattern to beam of radiation 6 respectively, then the beam is projected on a substrate 9, a detector 20 for detecting intensities of radiation measures the loss of radiation in a radiation distribution system 7, determines the amount of loss, and feeds back the information to a compensating system.
個々に制御可能な素子のそれぞれは放射のビーム６にパターンを付与し、その後ビームが基板９上に投影されるリソグラフィ装置であって、放射線強度の検出器２０は放射分配システム７における放射の損失を測定し、損失量を決定し、この情報を補償システムにフィードバックする。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition satisfying demands for a wide exposure latitude, reduction of a skirt-like pattern profile, favorable pattern features and excellent dry etching durability, and allowing formation of a pattern having fewer defects after development, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.
広い露光ラテテュード、パターン裾引き低減、良好なパターン形状、優れたドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a radiation-curing composition giving a hardened body excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film, and a pattern forming method, and to provide a pattern using method using a pattern as a resist mask, electronic components, and an optical waveguide.
露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供すると共に、それを用いたパターン使用方法、電子部品及び光導波路を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-curing composition giving a hardened body excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film, and a pattern forming method, and to provide a pattern using method using the pattern as a resist mask, electronic components, and an optical waveguide.
露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供すると共に、それを用いたパターン使用方法、電子部品及び光導波路を提供する。 - 特許庁 - To provide a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent and high sensitivity and can obtain a resist pattern having a good shape, a process for producing the same, a radiation-sensitive composition including the same, and a resist pattern-forming method using the radiation-sensitive composition.
安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、得られるレジストパターン形状が良好な環状化合物、その製造方法、それを含む感放射線性組成物、および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The lithography equipment of this invention comprises a substrate table that holds a substrate, radiation system that forms radiation projection means, pattern providing means for patternization of projection beams according to a desired pattern, and projection system that projects patterned beams to the target part of the substrate.
本発明リトグラフ装置は、基板を保持する基板テーブルと、放射投影ビームを形成する放射系と、所望のパターンに応じて投影ビームをパターン化するように働くパターン付与手段と、基板の目標部分にパターン化されたビームを投影する投影系とを含む。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, satisfying basic performances required by a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape and free of occurrence and increase of foreign matter in resist storage.
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストに要求される基本性能を満たすとともに、レジスト保管時に異物の発生、増加が起こらない。 - 特許庁 - The device further has a support constructed to support a patterning device, the patterning device can give a pattern to a cross-section of an illuminating radiation beam to form a patternized radiation beam.
装置はさらに、パターニングデバイスを支持するように構築された支持体を有し、パターニングデバイスは、パターン形成した放射線ビームを形成するために、照明放射線ビームの断面にパターンを与えることができる。 - 特許庁 - To provide a radiographic apparatus capable of surely removing striped pattern superimposed on a perspective image by reflection of a shadow of the absorption foil of a radiation grid in a radiation detector.
放射線グリッドの吸収箔の影が放射線検出器に写り込むことにより透視画像に重畳する縞模様を確実に取り除くことができる放射線撮影装置を提供する。 - 特許庁
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