An origin detecting sensor unit 10 irradiates visible radiation to the optical pattern to generated a pulse signal from the reflected light. また、原点検出センサユニット10は、可視光を光学パターンに照射し、その反射光からパルス信号を生成する。 - 特許庁
By supplying the power to the conductor rod 3 and the notch antennas 211 and 212, radiationpattern of different polarization characteristics is obtained. 導体棒3、ノッチアンテナ211、212に給電することによって、異なる偏波特性の放射パターンが得られる。 - 特許庁
ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AS WELL AS RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, pattern shape, etc., and ensuring small line edge roughness. 感度、解像度、パターン形状等に優れ、かつラインエッジラフネスの小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁
To provide a patch antenna the directivity of which is weakened to form a radiationpattern extended in a plurality of directions of the surrounding. 指向性を弱めて周囲の多方向へ広がる放射パターンが形成されるようにしたパッチアンテナを提供すること。 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁
To obtain a radiationpattern having a desired directivity using a set of dipole antennas. 本発明は1組のダイポールアンテナを用いて所望の指向性を有する放射パターンを得ることを目的とするものである。 - 特許庁
To propagate an electromagnetic wave with a proper mode pattern inside a radiation waveguide and to reduce a power feeding waveguide in size. 放射用導波管内を適正なモードパターンで電磁波を伝搬させ、かつ給電用導波管を小型化する。 - 特許庁
To obtain a compact antenna assembly which prevents reflection from the end of a helical antenna element to provide a desired radiationpattern. ヘリカルアンテナ素子の他端部からの反射を防止して、小型化かつ所望の放射パターンを有するアンテナ装置を得る。 - 特許庁
The bilayer film for pattern formation is obtained by forming a coating film comprising the radiation-sensitive resin composition on the underlayer film. パターン形成用多層膜は、該下層膜上に該感放射線性樹脂組成物からなる被膜を形成してなる。 - 特許庁
In the pattern forming plate, the total layer in the thickness direction or any layer is preferably made a radiation shielding layer by metal, etc. パターン形成版は厚み方向の全層又は何れかの層を、金属等で電離放射線遮蔽層とするのも良い。 - 特許庁
To provide a horn antenna for obtaining a uniform radiationpattern in a simple configuration and lowering the level of crossed polarization. 簡単な構成で一様な放射パターンが得られ、交差偏波のレベルを低くすることが可能なホーンアンテナを提供する。 - 特許庁
ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁
ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION 感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁
To provide a pattern antenna capable of realizing broadbanding without losing downsizing of a radiation conductor formed to be a meander line. メアンダラインからなる放射導体の小型化を損なわずに広帯域化を実現できるパターンアンテナを提供すること。 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING COMPOSITION 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁
The projection system projects a pattern projecting a radiation beam onto a target part of a substrate, and the substrate is supported on a substrate table. 投影システムは、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影し、基板は基板テーブル上に支持される。 - 特許庁
To provide optical lens structure which, in association with a light emitting source, provides a better side-emitting light-radiation pattern. 発光源と関連して、より良好な側面発光光放射パターンを提供できる光学レンズ構造を提供する。 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE COMPOSITION 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁
To obtain an antenna system which varies its radiationpattern shape as an antenna and allows miniaturization without using a dedicated antenna element. 専用のアンテナ素子を用いず、アンテナとしての放射パターン形状を可変でき、かつ小型化可能なアンテナ装置を得る。 - 特許庁
The patterning device modulates the sub-beams of radiation to substantially generate a requested dose pattern on the substrate. パターン形成装置は、放射線のサブビームを変調し、基板上に要求された線量パターンを実質的に生成する。 - 特許庁
In the pattern forming method etc., the plastic mold having a prescribed pattern is pushed to the visible radiation curable resin composition to mold the prescribed pattern, and the resin composition is cured by being irradiated with light. 所定パターンを有するプラスチックモールドを、可視光硬化性樹脂組成物に押し付けて該所定パターンを成形し、光を照射して該樹脂組成物を硬化させることを特徴とするパターン形成方法等を提供する。 - 特許庁
An optical sensor 8' for detecting the position of a patch pattern 7' on a transfer belt 5 emits a radiationpattern IR' which is almost an oval shape that is orthogonal to a proceeding direction of the patch pattern 7' and receives the reflected light from the same. 転写ベルト5上のパッチパターン7’を位置検出するための光学的センサ8’はパッチパターン7’の進行方向に直交するほぼ長円形状の照射パターンIR’を発光してその反射光を受光する。 - 特許庁
In a substrate forming method, a layer of a radiation sensitive material is arranged on a substrate surface, and is exposed by a patterning device (a lithography device) having a calibration pattern including a first set of pattern features and a second set of pattern features. 基板形成方法は放射感応性材料の層を基板表面に設け、第一セットのパターンフィーチャ及び第二セットのパターンフィーチャを含むキャリブレーションパターンをもつパターンニングデバイス(リソグラフィ装置)により露光する。 - 特許庁
To make a phantom with an image quality evaluation pattern to be used for controlling the quality of a radiation image detector applicable to different-sized radiation image detectors. 放射線画像検出器の品質を管理するために用いられる画質評価用パターンが形成されたファントムを、異なるサイズの放射線画像検出器に対応可能とする。 - 特許庁
In the head and neck fixing implement 1 for the radiation therapy, the face pattern of a panda is indicated at a part to cover a face so as to reduce the mental pains of a child receiving the radiation therapy. 放射線治療用の頭頸部固定具1には、放射線治療を受ける子供の精神的苦痛を軽減するように、顔面を覆う部分にパンダの顔模様が表されている。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to radiation and excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape. 放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
A device manufacturing method includes a process that a pattern is given to an array of a plurality of individually controllable elements so as to modulate a radiation beam, and the modulated radiation beam is projected to a substrate. デバイス製造方法は、放射ビームを変調するよう複数の個別制御可能素子アレイにパターンを与え、変調された放射ビームを基板に投影することを含む。 - 特許庁
The printed circuit boards 2 each include a substrate radiation part which conducts heat from the electronic integrated circuit components on the board to its end sections and a radiationpattern layer which conducts heat from the electronic integrated circuit components. プリント基板2は、端部に電子集積回路部品からの熱を伝導する基板放熱部と、電子集積回路部品からの熱を伝導する放熱パターン層を含む。 - 特許庁
The radiation-sensitive resin composition comprises a resin, a radiation-sensitive acid generator, a nitrogen-containing compound and a solvent, wherein the resin has a glass transition temperature not over a preapplication bake temperature in the formation of a resist pattern. 樹脂と、感放射線性酸発生剤と、含窒素化合物と、溶剤とを含有し、且つ、前記樹脂のガラス転移温度が、レジストパターンを形成する際のプレアプリケーションベーク温度以下である。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in contrast, capable of forming a fine resist pattern with a high degree of accuracy and excellent also in transparency to a radiation, sensitivity and resolution. 特に、コントラストが優れ、微細なレジストパターンを高精度に形成でき、しかも放射線に対する透明性、感度、解像度等にも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern shape, etc., and having small temperature dependence in heating after exposure. 放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等に優れ、露光後の加熱時の温度依存性が小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist having high transmittance of radiation and excelling in sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern profile. 放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターンプロファイル等に優れ、化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation and useful as a chemically amplified resist excellent in sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape. 放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等に優れる化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
A second absorption type grating 32 has a period substantially coinciding with a pattern period of a radiation image formed by the radiation passing through the first absorption type grating 31. 第2の吸収型格子32は、第1の吸収型格子31を通過した放射線によって形成される放射線像のパターン周期に実質的に一致する周期を有する。 - 特許庁
To provide a radiation curing composition having excellent pattern accuracy and to provide an optical waveguide and a method for manufacturing an optical waveguide by using the above radiation curing composition. 優れたパターン精度を有する放射線硬化性組成物、およびこのような放射線硬化性組成物を用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁
Radiation electrodes 7, 8 of antennas 2, 3 are placed on a front side of a dielectric board 6 at an interval, and a circuit pattern 11 of high frequency circuits 4, 5 is formed between the radiation electrodes 7, 8. 誘電体基体6の表面にアンテナ2,3の放射電極7,8を離間配置し、また、放射電極7,8間に高周波回路4,5の回路パターン11を形成する。 - 特許庁
The lithographic apparatus has a support configured so as to support a patterning device capable of forming a patternized radiation beam by giving a pattern to the section of the radiation beam. リソグラフィ装置は放射線ビームのその断面にパターンを与えてパターン化放射線ビームを形成することの可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持を備える。 - 特許庁
The lithographic apparatus includes an illumination system which forms a beam of radiation, the pattern grant equipment which is supported by a support structure and gives a desired pattern to a cross section of the beam of radiation, a substrate holder which holds the substrate, a projection system which projects the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a conditioned chamber. リトグラフ装置が、放射ビームを形成する照射系と、支持構造体により支持され、放射ビームの横断面に所望パターンを付与するパターン付与装置と、基板を保持する基板保持具と、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、調整室とを含む。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, good adhesiveness to a substrate and a good trailing shape of a pattern, excellent in pattern shape, ensuring a wide exposure margin and excellent also in sensitivity and resolution. 放射線に対する透明性が高く、また基板に対する接着性およびパターンの裾形状も良好でパターン形状に優れ、露光マージンが広く、しかも感度、解像度にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
Thus, the true slime mold 15 is deformed in a process of a feedback loop that the radiationpattern of the light changes according to the deformation state of the true slime mold 15 and the true slime mold 15 is further deformed by the radiationpattern of the light. これにより、真性粘菌15の変形状態に応じて光の照射パターンが変わり、その光の照射パターンによってさらに真性粘菌15が変形する、というフィードバックループの過程で、真性粘菌15を変形させることができる。 - 特許庁
To provide: a radiation-sensitive composition for nanoimprint, sufficiently satisfying basic characteristics such as hardenability and excellent in etching resistance, in forming a pattern by means of a nanoimprint method; and a method for forming a pattern using the radiation-sensitive composition. 本発明の目的は、ナノインプリント法によるパターン形成において、硬化性等の基本特性を十分満足すると共に、エッチング耐性に優れるナノインプリント用感放射線性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁
The 1st radio communication unit provides a new frequency to the 2nd radiationpattern for the spot communication service so as to provide the consecutive communication service depending on a congestion state of a road in addition to the consecutive communication service by the 1st radiationpattern. 道路の混雑状況に応じて第1無線通信装置は、連続通信サービスを行う第1放射パターンのみならず、通常スポット通信サービスを行う第2放射パターンに新たな周波数を与えて連続通信サービスも行う。 - 特許庁
To provide a positive radiation-sensitive resin composition of which a first resist pattern is insolubilized to form an insolubilized resist pattern having sufficient stability to subsequent exposure, a developer and a second positive radiation-sensitive resin composition. 第一のレジストパターンを不溶化させ、その後の露光処理、並びに現像液及び第二のポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The composition for microfabrication of a resist pattern is used in a resist pattern forming method including steps of applying a composition for microfabrication of a resist pattern on a resist pattern formed by using a radiation-sensitive resin composition, and baking, followed by cleaning to microfabricate the resist pattern, and the composition contains an acidic low-molecular weight compound and a solvent that does not dissolve the resist pattern. 感放射線性樹脂組成物を用いて形成したレジストパターン上に、レジストパターン微細化組成物を塗布し、ベーク後、洗浄してレジストパターンを微細化する工程、を含むレジストパターン形成方法で用いられる、酸性低分子化合物と、レジストパターンを溶解しない溶媒と、を含有するレジストパターン微細化組成物を提供する。 - 特許庁
The method for restoring the shape of the pattern of the substrate having an imperfect pattern comprises; (a) a step of detecting the imperfect pattern by inspecting the substrate; and (b) a step of restoring the shape of the pattern by etching or depositing the detected imperfect pattern with radiation. 不完全なパターンを有する基材のパターンの形状を修復する方法であって、(a)基材を検査して不完全なパターンを検出するステップと、(b)前記検出された不完全なパターンを放射線によりエッチング又は堆積してパターンの形状を修復するステップ、を含むことを特徴とする、形状修復方法を用いる。 - 特許庁
A filtering processing means 120 removes the periodic pattern caused by the scattered ray removal means from the radiation image P obtained by detecting the radiation transmitting through the subject S via the scattered ray removal means by a radiation detector 10. フィルタリング処理手段120は、被写体Sを透過した放射線を散乱線除去手段を介して放射線検出器10により検出して得られた放射線画像Pから散乱線除去手段に起因する周期的パターンを除去する。 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁