「Radiation pattern」を含む例文一覧(1331)
＜前へ 1 2 .... 6 7 8 9 10 11 12 13 14 .... 26 27 次へ＞- The antenna device is manufactured wherein null points of a radiation pattern of one antenna can be compensated by the other antenna while improving the radiation efficiency, regardless of the variance of the position L and the length d of the cut 6.
切り込み６の位置Ｌや長さｄが変化しても、放射効率を向上させつつ、一方のアンテナの放射パターンのヌル点を他方のアンテナで補えるようなアンテナ装置を製作することができる。 - 特許庁 - To provide a radiation image processing unit that applies pixel defect correction of a linear prediction type to a radiation image including grid pattern information so as to suppress artifacts due to a defective pixel when an image pickup element includes the defective pixel.
撮像素子に欠陥画素が含まれるとき、グリッド縞情報を含む放射線画像に対して線形予測型の画素欠陥補正を施し、上記欠陥画素によるアーチファクトを抑える。 - 特許庁 - The radiation that is emitted from two added poles 221 and 222 to pass through a mask pattern MP is blocked from reaching a wafer W by a radiation blocking opening part PD arranged in a projection optical system.
２つの追加された極２２１，２２２から発せられ、マスクパターンＭＰを通過する放射は、投影光学系に配置された放射ブロック開口部ＰＤにより、ウェーハＷに到達することを阻止される。 - 特許庁 - The patterning device can give a pattern to the section of an radiation beam to form a patterned radiation beam, and the support has a support clamp structured to clamp the patterning device onto the support.
パターニングデバイスはパターン化された放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを与えることができ、支持体はパターニングデバイスを支持体にクランプするように構成された支持クランプを含む。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in various properties including transparency to a radiation, sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and useful as a chemically amplified resist.
放射線に対する透明性、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等を含めた幅広い特性に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a dissolution inhibitor having a specific structure for improving sensitivity of negative radiation sensitive compositions, a radiation sensitive composition containing the same, and a method of forming a resist pattern using the composition.
ネガ型感放射線性組成物の感度を向上させる、特定構造を有する溶解抑止剤、これを含む感放射線性組成物、および該組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent basic solid state properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape, and being useful as a chemical amplification type resist.
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive composition having high sensitivity in pattern formation by irradiation with active light and to provide a radiation sensitive composition further having high resolution and excellent also in margin for exposure.
活性光線の照射によるパターン形成において、高感度を有する感放射線性組成物、また、更に高解像度を有し露光マージンにも優れた感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a reflection mirror antenna capable of correctly measuring intercoupling between radiation elements and an excitation coefficient containing the distortion of the surface of the reflection mirror, and reducing deterioration in radiation pattern.
放射素子間の相互結合や、反射鏡面の歪みを含んだ励振係数を正確に測定でき、放射パターンの劣化を低減することができる反射鏡アンテナを提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a mobile communication terminal and mobile communication antenna in which the electromagnetic radiation exposure to the human body is reduced by altering the radiation emission pattern, while the performance of the antenna can be enhanced.
本発明は、放射パターンを変更することで人体に向かっていた電磁波の放射を減少させて、アンテナの性能向上を図るための移動通信端末および移動通信用アンテナを提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high transpar ency to a radiation, ensuring few development defects and excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution and pattern shape.
放射線に対する透明性が高く、特に現像欠陥が極めて少なく、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The tape carrier 20 is formed with the corresponding electrode patterns for heat radiation 15 to 17 arranged at a position not in conflict with the lead patterns 21 to 24, and a heat radiation pattern connected electrically and thermally.
テープキャリア２０には、リードパターン２１〜２４と抵触しない位置に配設されるとともに対応する放熱用電極パターン１５〜１７と電気的かつ熱的に接続された放熱パターンが形成されている。 - 特許庁 - To provide a printed circuit board and a method of manufacturing the same, wherein a heat radiation layer is selectively interposed inside a circuit board so that a high heat radiation effect and bending rigidity are provided, for achieving a reliable electrical connection between the heat radiation layer and a circuit pattern for improved heat radiation effect, with the heat radiation layer being usable as a power supply layer or a ground layer.
回路基板内部に放熱層を選択的に介在することにより、高放熱効果及び曲げ剛性を有することができ、放熱層と回路パターンとの間に信頼性の高い電気的な接続を実現して放熱効果を高めることができ、かつ放熱層を電源層またはグラウンド層として利用することができる印刷回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition which is sensitive to radiation, particularly (extreme) far-ultraviolet radiation such as EUV with excellent sensitivity, and forms a chemically amplified positive resist film which enables to stably form a high-accuracy fine pattern excellent in nano edge roughness.
放射線、特にＥＵＶ等の（極）遠紫外線に優れた感度で感応するとともに、ナノエッジラフネスに優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することのできる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - The lithography system is provided, comprising an illumination system for providing a radiation beam, and a support structure for supporting a pattern forming device.
放射ビームを提供するための照明システムと、パターン形成デバイスを支持するための支持構造とを備えたリソグラフィ装置である。 - 特許庁 - Consequently, the antenna is small-sized, thin, and simplified in feeding structure and has high efficiency, and a uniform radiation pattern and satisfactory antenna characteristics are obtained.
小型・薄型で給電構造を単純化した高効率のアンテナとなり、均一な放射パターンと良好なアンテナ特性が得られる。 - 特許庁 - To provide a fire extinguishing nozzle capable of easily changing the firing range and radiation pattern of fire extinguishing liquid without using a thin plate or the like.
薄板などを用いることなく、容易に消火液の射程距離および放射パターンを変更できる消火用ノズルを提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation image forming device capable of eliminating fixed pattern noise based on a dark current using a simple method.
簡易な手法により暗電流に基づく固定パターンのノイズを除去することのできる放射線画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition excellent particularly in pattern shape as a chemical amplification type resist and excellent also in sensitivity, resolution, etc.
化学増幅型レジストとして、特にパターン形状に優れ、かつ感度、解像度等にも優れた放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a primary radiator that can suitably be downsized while having excellent symmetry in the radiation pattern of the E and H planes of an incident radio wave.
入射電波のＥ面とＨ面の放射パターンの対称性が良好で、小型化にも好適な一次放射器を提供すること。 - 特許庁 - Thus, the resonance frequency or radiation pattern of the chip antenna device 100 can be adjusted according to the input and output characteristics of the transmitter/receiver 70.
チップアンテナ装置１００の共振周波数や放射パターンを送受信装置７０の入出力特性に合わせて調整できる。 - 特許庁 - The cyclic compound has a specific structure and the radiation-sensitive composition includes the compound, and the resist pattern-forming method uses the composition.
特定構造を有する環状化合物、該化合物を含む感放射性組成物、および該組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁 - A second ground plate 403 also is formed with a land 403a pattern-formed on the radiation board 420 and a through hole 403b.
第２の地板４０３も、放射基板４２０上のパターンで形成されたランド４０３ａとスルーホール４０３ｂで形成されている。 - 特許庁 - To provide a positive type radiation-sensitive composition having simultaneously superior characteristics, with respect to sensitivity, resolution, pattern section shape, etc.
感度、解像度、パターン断面形状などについて同時に優れた特性を有するポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive radiation-sensitive composition exhibiting high sensitivity and high resolution in pattern formation by irradiation with active light.
活性光線の照射によるパターン形成において、高感度、高解像度を示すポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁 - To prevent quality degradation of a pattern image of information light reproduced from interference fringes generated by deviation of a radiation position of reference light.
参照光の照射位置のズレにより、干渉縞から再生される情報光のパターン像の質が低下することを防止する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resist composition having high resolution, ensuring improved edge roughness of a resist pattern and excellent in aging stability.
高解像度およびレジストパターンのエッジラフネスが改善され、さらに経時安定性が優れた感放射線性レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - On a ceramic substrate 111, where many heat radiation holes (holes for heat sink) 11 are bored, a pattern electrode of a specific style is provided first.
先ず、多数個の放熱穴(holes for heat sink)１１１ａ、１１１ａ'を設けたセラミック基板１１１上に一定形態のパターン電極を設ける。 - 特許庁 - To improve a directivity pattern in the case that an antenna (radiation element) is arranged on a circuit board facing the rear of a display device.
ディスプレイデバイスの背面に対向して位置する回路基板上にアンテナ（放射素子）を配置する場合に指向性パターンの改善を図る。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition which can form a curing resin pattern having a high transmission factor at a wavelength of 400 nm.
波長４００ｎｍにおいて高い透過率を有する硬化樹脂パターンを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - When the characteristics of the circularly polarized wave antenna 1 are adjusted, a radiation element 3 is trimmed and a ground pattern 4 is trimmed.
円偏波アンテナ１の特性調整に際して、放射素子３をトリミングするとともに、グラウンドパターン４をトリミングして特性を調整する。 - 特許庁 - To provide a high-sensitivity and high-resolution radiation-sensitive resist composition for forming a resist pattern excellent in heat resistance.
耐熱性に優れたレジストパターンを形成することのできる，高感度，高解像性の放射線感応性レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a projector for photographing a pattern of a mask on a substrate, which includes a radiation-sensitive layer, using a projection charged particle beam.
投影荷電粒子ビームによって、放射線感応層を含む基板上にマスクのパターンを撮像する投影装置を提案する。 - 特許庁 - The radiation irradiation method includes the step of irradiating a first part 102-1 of a subject 43 with first radiation 111-1 radiated in a radial pattern from a first point, and the step of irradiating a second part 102-2 of the subject 43 with second radiation 111-2 radiated in a radial pattern from a second point matched with the first point.
第１点から放射状に放射される第１放射線１１１−１を被検体４３のうちの第１部分１０２−１に照射するステップと、その第１点に一致する第２点から放射状に放射される第２放射線１１１−２を被検体４３のうちの第２部分１０２−２に照射するステップとを備えている。 - 特許庁 - The lithography apparatus has a lighting system that provides a radiation beam, a support structure for supporting a product patterning device that adds a product pattern indicating a feature of a product device to a profile of the radiation beam from the lighting system, and a measuring-target patterning device that adds a measuring target pattern indicating a measuring target to the profile of the radiation beam.
放射線ビームを提供する照明システムと、照明システムからの放射線ビームの断面に製品デバイスのフィーチャを表す製品パターンを付与する製品パターン化デバイスを支持する支持構造と、放射線ビームの断面に、計測ターゲットを表す計測ターゲット・パターンを付与する計測ターゲット・パターン化デバイスとを有するリソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁 - To provide a new radiation-sensitive composition which forms a fine pattern without causing chipping and undercut of a pattern edge even with a small amount of light exposure or generating undissolved residues and scum on a pattern edge in development.
低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、且つ現像時に未溶解物が残存したりパターンエッジにスカムを生じたりすることなく微細パターンの形成が可能である新規な感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a coating agent for a resist pattern, which is excellent in performance (curing performance) of insolubilizing and curing a resist pattern, and allows an insoluble resist pattern which is sufficiently stable against a subsequent exposure process, a developing solution and a positive radiation-sensitive resin composition.
レジストパターンを不溶化して硬化させる性能（硬化性能）に優れ、その後の露光処理、現像液、及びポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なレジストパターンコーティング剤を提供する。 - 特許庁 - To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive composition having excellent roughness characteristics such as LWR (line width roughness), DOF (depth of focus) for an isolated space pattern (trench pattern) and exposure latitude, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.
ＬＷＲ等のラフネス特性、孤立スペースパターン（トレンチパターン）のＤＯＦ、及び露光ラチチュードに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which exhibits good sensitivity, resolution and pattern profile, small line edge roughness and good surface roughness as a composition for pattern formation with an active ray or radiation, and a pattern forming method using the same.
活性光線又は放射線によるパターン形成用として、感度、解像力、パターン形状が良好であり、ラインエッジラフネスが小さく、更には、表面ラフネスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive type radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern with less residue on the bottom part of the pattern, as compared with the conventional pigment-containing negative curable resin, with respect to a colored cured resin pattern, and to provide its production method.
着色硬化樹脂パターンおよび製造方法において、従来の顔料を含有するネガ型硬化性樹脂と比較して、パターンの裾部分に、残渣が少ないパターンを形成し得るポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition allowing formation of a pattern in which pattern collapse is suppressed, which hardly induces development failure and exhibits excellent stability with lapse of time, and also to provide a method for forming a pattern, using the composition.
パターン倒れが抑制され、かつ現像不良が発生しにくく、更に経時安定性に優れたパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation and the like which generate neither development residue nor scum on a pattern edge in development, cause neither chipping of a pattern edge nor undercut even with a low exposure amount, and can give a fine pattern.
現像時に現像残渣やパターンエッジのスカムを生じることがなく、低露光量でもパターンエッジの欠けやアンダーカットを生じることがなく、しかも微細なパターンを与えうる着色層形成用感放射線性組成物等を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition preventing a pattern from being deformed even if a pattern size for forming a wiring is reduced and an aspect ration of the pattern is increased when forming a printed wiring board.
本発明は、プリント配線基板形成において、配線を形成するためのパターンサイズが微細化し、パターンのアスペクト比が増大しても、パターンの折れ曲がりなどが起こらず好適に用いることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency for radiation, excellent basic performances as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching durability, pattern profile, and suitable as a chemical amplification type resist having high resolution property in a fine pattern region.
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れるとともに、微細パターン領域での高い現像性を有する化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition adaptable to a short-wavelength radiation typified by far UV capable of meeting progress of scale down in an integrated circuit device, having high transparency to radiations and excellent in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, pattern profile and line edge roughness of a pattern.
集積回路素子における微細化の進行に対応しうる遠紫外線に代表される短波長の放射線に適応可能で、放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、パターンプロファイル、パターンのラインエッジラフネス等のレジストとしての基本物性に優れる。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having a developing margin of forming a satisfactory pattern shape even when exceeding the optimum developing time in a developing process, and can form easily a pattern-like thin film excellent in tightness.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high sensitivity, high resolution and a high radiation transmittance, excellent in smoothness of a pattern surface in micropattern and capable of preventing partial insolubilization in overexposure without impairing basic solid state properties as a resist such as pattern shape, dry etching resistance and heat resistance.
パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、高感度、高解像度で、放射線透過率が高く、微細寸法でのパターン表面の平滑性に優れ、かつ過露光時の部分不溶化を解消しうる感放射性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a novel radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent basic physical properties for a resist pattern such as in sensitivity, resolution, and pattern shapes, without causing development defects during fine machining, to manufacture semiconductor elements at a high yield.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
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